专利名称：全自动大型平板式pecvd晶硅光伏减反射覆膜制备设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及薄膜制备装置，尤其是涉及一种单腔室在真空条件下工作的全自 动大型平板式PECVD(等离子体增强化学气相沉积，Plasma Enhanced ChemicalVapor D印osition)晶硅光伏减反射覆膜设备。
背景技术：
目前，在光伏晶硅表面制备减反射薄膜主要采用等离子体增强化学气相沉积方法 (即PECVD方法)。因为等离子体增强化学气相沉积方法(PECVD)是制备薄膜材料的几种 方法中技术最为成熟、操作较为简单的一种，并且可以制备均匀性高的大面积薄膜。现阶段 在光伏领域使用制备减反射薄膜的设备有两种，一种为管式结构的PECVD设备，这种结构 的设备单次生产时间过长，导致产量很低；另一种为多腔室平板式PECVD设备，设备每个腔 室都需要在真空条件下进行工作。
发明内容
本发明的目的在于提供一种单腔室在真空条件下工作的全自动大型平板式PECVD 晶硅光伏减反射覆膜设备，解决现有技术中管式结构的PECVD设备存在的单次生产时间过 长、产量低的问题，以及多腔室平板式PECVD设备存在的需要在真空条件下进行工作等问 题。 本发明解决其技术问题所采用的技术方案是 —种全自动大型平板式PECVD晶硅光伏减反射覆膜制备设备，该设备主要设有装 载台、预热台、PECVD室、冷却台、卸载台及真空抽气系统，装载台、预热台、PECVD室、冷却台 和卸载台依次设置于台架上，预热台、冷却台分别连接保护气体管路，PECVD室通过管路连 接真空抽气系统。 所述的覆膜制备设备，装载台、预热台、PECVD室、冷却台和卸载台分别与各自的台 架通过螺栓连接，各自的台架之间通过螺栓连接。
本发明的有益效果是 本发明采用单腔室在真空条件下工作的全自动大型平板式PECVD晶硅光伏减反 射覆膜设备，在只有单腔室在真空条件下工作的情况下，同样能达到管式PECVD和多腔室 平板式PECVD的技术指标，具体如下 (1)可全自动或手动实现光伏电池片氮化硅(SiNx)薄膜制备，全程用工业微机实 现自动控制； (2)更优的性能价格比； (3)双机产能25丽/年(1500片/每小时); (4)膜厚均匀性片内(125mmX 125mm)《±3%，片间《±4%，批间《±5% ;
(5)折射率范围2. 0 2. 1批次的一致性±5% ;
(6)具有完善的报警功能及安全互锁装置；
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(7)电极易于维护和清理； (8)成膜温度150 40(TC连续可调。
图1是本发明的结构示意图。图中，1、装载台；2、预热台；3、PECVD室；4、冷却台；
5、卸载台；6、真空抽气系统；7承载板。
具体实施例方式
下面结合附图对本发明的结构和原理作进一步详细说明。 如图1所示，本发明采用单腔室在真空条件下工作的全自动大型平板式PECVD晶
硅光伏减反射覆膜设备，主要包括装载台1、预热台2、PECVD室3、冷却台4、卸载台5及真空
抽气系统6等。其中，装载台1、预热台2、PECVD室3、冷却台4和卸载台5依次设置于台架
上，装载台1、预热台2、 PECVD室3、冷却台4和卸载台5分别与各自的台架通过螺栓连接，
各自的台架之间通过螺栓连接。预热台2、冷却台4分别连接保护气体管路，PECVD室3通
过管路连接真空抽气系统6。 本发明的安装及工作过程如下 在图1中，把装载台1、预热台2、PECVD室3、冷却台4和卸载台5分别按照位置用 螺栓固定在台架上，各台架之间用螺栓连接在一起，再把真空抽气系统6用管路与PECVD室 3连接起来，连接预热台2和冷却台4的保护气体管路及PECVD室3的工艺气体管路。工 作流程首先把晶硅光伏片摆放在装载台1的承载板7上，然后由自动传输系统把承载板 7传送到预热台2进行预加热，预热台1不需要真空条件，只采用保护气体(如氮气、氩气 等)。当承载板7预热到50(TC后，再由自动传输系统把承载板7传送到PECVD室3进行覆 膜，PECVD室3由进气装置和加热装置及壳体三大部分组成，覆膜工艺要求在真空条件下进 行，所以配备了真空抽气系统6。当覆膜完成后，由自动传输系统把承载板7传送到冷却台 4进行降温，冷却台4同样也不需要真空条件，只采用保护气体(如氮气、氩气等)。承载板 7经过降温后，由自动传输系统传送到卸载台5进行卸载晶硅光伏片。本装置只给PECVD室 3提供了真空环境，其余部分都在大气或是保护气体下进行工作。
权利要求
一种全自动大型平板式PECVD晶硅光伏减反射覆膜制备设备，其特征在于该设备主要设有装载台、预热台、PECVD室、冷却台、卸载台及真空抽气系统，装载台、预热台、PECVD室、冷却台和卸载台依次设置于台架上，预热台、冷却台分别连接保护气体管路，PECVD室通过管路连接真空抽气系统。
2. 根据权利要求1所述的覆膜制备设备，其特征在于装载台、预热台、PECVD室、冷却 台和卸载台分别与各自的台架通过螺栓连接，各自的台架之间通过螺栓连接。
全文摘要
本发明涉及薄膜制备装置，尤其是涉及一种单腔室在真空条件下工作的全自动大型平板式PECVD晶硅光伏减反射覆膜设备，解决现有技术中管式结构的PECVD设备存在的单次生产时间过长、产量低的问题，以及多腔室平板式PECVD设备存在的需要在真空条件下进行工作等问题。该设备主要设有装载台、预热台、PECVD室、冷却台、卸载台及真空抽气系统，装载台、预热台、PECVD室、冷却台和卸载台依次设置于台架上，预热台、冷却台分别连接保护气体管路，PECVD室通过管路连接真空抽气系统。本发明只给PECVD室提供了真空环境，其余部分都在大气或是保护气体下进行工作。本发明在只有单腔室在真空条件下工作的情况下，同样能达到管式PECVD和多腔室平板式PECVD的技术指标。
文档编号C23C16/42GK101748392SQ20081022987
公开日2010年6月23日 申请日期2008年12月17日 优先权日2008年12月17日
发明者奚建平, 崔秀伟, 张健, 张冬, 徐宝利, 李士军, 段鑫阳, 洪克超, 赵崇凌, 赵科新, 高振国 申请人:中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司