专利名称：特气喷嘴及管式镀膜设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种特气喷嘴，特别是应用于水平式石墨舟镀膜工艺的特气喷 嘴。本实用新型还公开了一种管式PECVD(等离子体增强化学气相沉积)镀膜设备。
背景技术：
在太阳电池的生产过程中，需要在太阳电池的表面制作能够减少光在硅片表面反 射从而增加入射光的减反射膜，以提高电池的转换效率。目前的太阳电池生产中用到的镀 膜设备一般为管式PECVD镀膜设备，其中，用于输送制作镀膜的特气的特气喷嘴均是采用 底部水平喷射的方式作业。如图1所示，现有的特气喷嘴包括喷气管3和与进气管，所述喷 气管3 —端与所述进气管连通，另一自由端设置有喷气孔31，如图1所示，这里进气管设置 了两个，进气管1和进气管2均与喷气管3的一个端部连接。作业时，特气1和特气2分别 从进气管1的管口 11和进气管2的管口 21进入然后再输送至喷气管3，然后从喷气孔31 喷出以进行镀膜反应。现有的这种喷嘴应用在垂直式石墨舟进行镀膜工艺时效果不错。但 是，当设备采用水平式石墨舟进行镀膜工艺的时候，由于现有的喷嘴均是水平喷射的方式 且仅有一个喷射方向，在管式PECVD设备上使用水平式石墨舟进行镀膜工艺，由于特气喷 射时压力大，容易将沉积在石英管底部的粉尘颗粒吹起来，进而影响镀膜的质量，产生工艺 白点。
实用新型内容鉴于上述现有技术存在的问题，本实用新型的目的是提供一种可适用于水平式石 墨舟镀膜工艺的特气喷嘴。为了实现上述目的，本实用新型的实施例提供了 一种用于水平式石墨舟镀膜工艺 的特气喷嘴，包括喷气管和进气管，所述喷气管的一端与所述进气管连通，其中，所述喷气 管的另一个自由端为封闭端，并且所述喷气管的管壁上均勻设置有多个喷气孔。作为优选，所述多个喷气孔均勻设置。作为优选，所述喷气孔沿所述喷气管的轴向排列成行。作为优选，所述喷气孔设置有三行。作为优选，每一行的喷气孔数量相同。作为优选，每一行喷气孔的数量为六个。作为优选，所述喷气孔的孔径为0. 8-2mm，更优选的为1. 0 1. 4mm。本实用新型还提供一种包括上述特气喷嘴的管式镀膜设备。本实用新型实施例提供的用于水平式石墨舟镀膜工艺的特气喷嘴，至少具有以下 有益效果在特气喷嘴的喷气管的管壁上的设置多个喷气孔，在保持特气流量不变的同时， 通过降低特气压力和改变特气喷射方向的方式，减少或者避免了粉尘的发生，避免工艺白 点，进而提高镀膜的质量。通过试验证明，效果非常明显。
图1为现有技术的管式PECVD镀膜设备中采用的特气喷嘴的结构示意图；图2为本实用新型实施例的特气喷嘴的结构示意图；图3为图2的另一视角的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的结构做进一步详细的说明。实施例一如图2所示，本实用新型实施例提供的一种特气喷嘴，包括喷气管3和进气管，在 本实施例中，进气管设置有两个，如图2中的进气管1和进气管2，所述喷气管3的一端与所 述进气管1和进气管2连通，其中，所述喷气管3的另一个自由端为封闭端，并且所述喷气 管3的管壁上设置有多个喷气孔32。另外，作为优选，所述多个喷气孔32可以均勻设置于 所述喷气管3上。通过在喷气管3的管壁上而非端部设置喷气孔32，可以使特气从原来的一个出口 的并且一个方向的喷射变为由管壁多个方向、多个喷气孔的喷射，一是可以满足石墨舟尤 其是水平式石墨舟镀膜工艺的作业需要，二是可以减少或者避免粉尘的发生。作为对本实施例的一种改进，如图2所示，所述喷气孔32沿所述喷气管3的轴向 排列成行。并且，根据实际情况，所述喷气孔32可以设置多行，优选地，如图3所示，所述喷 气孔32设置有三行。并且每一行的喷气孔32数量可以相同。在本实施例中，每一行喷气 孔32的数量为六个。三行总计18个喷气孔32。各行分别均布于喷气管上半圆的管壁上。本实用新型的特气喷嘴是通过保持特气流量不变而降低特气压力和改变特气喷 射方向的方式，减少或者避免了粉尘的发生。因此喷气孔32的大小较原有要小一些，喷气 孔32的尺寸可以根据喷气孔32的数量和需要的特气流量加以确定，通常情况下，所述喷气 孔的孔径为0. 8-2mm，优选地，所述喷气孔的孔径为1. 0 1. 4mm。实施例二本实施例提供了一种管式镀膜设备，该管式镀膜设备包括了实施例一所述的特气 喷嘴。当然，以上所列仅为本实用新型较优选的实施例，但本实用新型并不局限于上述 实施方式，凡是通过在喷气管上增加喷气孔的方式来改善管式镀膜设备的工艺性，均应认 为落入本实用新型保护范围之内。例如，以其他的均布方式设置喷气孔，都应视为是本实用 新型的一种变形而落入本实用新型保护范围之内。
权利要求1.一种特气喷嘴，包括喷气管和进气管，所述喷气管的一端与所述进气管连通，其特征 在于，所述喷气管的另一个自由端为封闭端，并且所述喷气管的管壁上设置有多个喷气孔。
2.如权利要求1所述的特气喷嘴，其特征在于，所述多个喷气孔均勻设置。
3.如权利要求1或2中所述的特气喷嘴，其特征在于，所述喷气孔沿所述喷气管的轴向 排列成行。
4.如权利要求3所述的特气喷嘴，其特征在于，所述喷气孔设置有三行。
5.如权利要求4所述的特气喷嘴，其特征在于，每一行的喷气孔数量相同。
6.如权利要求4所述的特气喷嘴，其特征在于，每一行喷气孔的数量为六个。
7.如权利要求4所述的特气喷嘴，其特征在于，所述喷气孔的孔径为0.8mm-2mm。
8.如权利要求4所述的特气喷嘴，其特征在于，所述喷气孔的孔径为1.Omm-1. 4mm。
9.一种管式镀膜设备，其特征在于，包括权利要求1至8中任一项所述的特气喷嘴。
专利摘要本实用新型公开了一种特气喷嘴，应用于PECVD设备，包括喷气管和进气管，所述喷气管的一端与所述进气管连通，其中，所述喷气管的另一个自由端为封闭端，并且所述喷气管的管壁上设置有多个喷气孔。本实用新型通过在喷气管上设置多个喷气孔，在保持特气流量不变的同时，通过降低特气压力和改变特气喷射方向的方式，减少或者避免了粉尘的发生，改善了工艺性，提高镀膜的质量。
文档编号C23C16/455GK201785488SQ20102051886
公开日2011年4月6日 申请日期2010年9月2日 优先权日2010年9月2日
发明者吴晓松, 纪俊峰, 翁建军, 蔡淘璞 申请人:无锡尚德太阳能电力有限公司