专利名称：一种适用于等离子体处理机台的气体混合装置以及等离子体处理机台的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种混合不同气体的装置，特别涉及一种适用于等离子体处理机台的气体混合装置。
背景技术：
在半导体行业中，等离子体处理机台中通入的反应气体一般是通过调制气体与工艺气体混合所得，例如CVD或刻蚀机台等，但由于该两种气体流速不同，气压也就不同，在同时进入混合不同流速气体的装置时，流速高的工艺气体会将流速慢的调制气体始终挤压在气体混合通道的一侧，使得两种气体混合不够均勻、不够充分，导致刻蚀气体的浓度和质量不达标，从而影响对半导体工艺件的制成效果。因此，业内需要一种能够将通入等离子体处理机台中的气体混合均勻的气体混合
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实用新型内容本实用新型提供了混合不同流速气体的装置，可使得气体混合通道的长度大大加长，从而使得混合更充分、均勻，大大提高了混合而成的刻蚀气体的品质，使其刻蚀能力大大增强，刻蚀效果明显改善。一种适用于等离子体处理机台的气体混合装置，所述等离子体处理机台包括一个档板和气体喷淋板，所述档板设置于气体喷淋板之上，所述气体混合装置至少包含第一气体进气口、第二气体进气口及混合气体进气口，其中，所述第一气体进气口用于通入第一气体，所述第二气体进气口用于通入第二气体，所述混合气体进气口是所述第一气体和第二气体混合之后通入所述等离子体处理机台的入口，所述气体混合装置还包括至少一个气体混合通道，所述气体混合通道的一端分别连接有所述第一气体进气口和第二气体进气口，所述气体混合通道的另一端连接有混合气体进气口，其中，所述气体混合通道具有多个弯道。所述气体混合通道包括若干个竖管和若干个横管，每两个所述竖管之间都设置一个横管，以使得所述若干个竖管和所述若干个横管依次首尾相连，并在每个所述竖管和每个所述横管的连接处形成一个所述弯道。所述气体混合通道包括四个竖管，其分别为第一竖管、第二竖管、第三竖管和第四竖管，所述气体混合通道包括三个横管，其分别为第一横管、第二横管和第三横管，其中，所述第一竖管，所述第一横管、所述第二竖管、所述第二横管、所述第三竖管、所述第三横管和所述第四竖管依次首尾相连，所述第一竖管和第一横管首尾相连形成了第一弯道；所述第一横管和第二竖管首尾相连形成了第二弯道；所述第二竖管和第二横管首尾相连形成了第三弯道；所述第二横管和第三竖管首尾相连形成了第四弯道；所述第三竖管和第三横管首尾相连形成了第五弯道；所述第三横管和第四竖管首尾相连形成了第六弯道。所述第一竖管、所述第二竖管、所述第三竖管、所述第四竖管的长度的取值范围为 25mm IOOmm0所述第一横管、所述第二横管、所述第三横管的长度的取值范围为25mm 50mm。所述第一弯管、所述第二弯管、所述第三弯管、所述第四弯管、所述第五弯管、所述第六弯管角度的取值范围为小于90度。所述气体混合通道的材料为铝。所述第一气体的气体流通速率大于所述第二气体的气体流通速率。所述第一气体为工艺气体，所述第二气体为调制气体。一种等离子体处理机台，所述等离子体处理机台包括上述的任一项所述的气体混
口衣且O本实用新型混合不同流速气体的装置与现有技术相比，具有以下优点本实用新型由于在气体混合通道中设置了很多弯节，从而使得气体混合通道的长度大大增长，因此，两种气体混合地更加充分、均勻，并提高了刻蚀气体的品质，从而提高了对电路板的刻蚀质量。
图1为本实用新型的一个具体实施例的包括气体混合装置的档板结构示意图；图2为根据本实用新型的一个具体实施例的气体混合装置的结构示意图。
具体实施方式
以下结合实施例对本实用新型的技术方案做进一步的说明。在下文中，将结合等离子体刻蚀机台对本发明进行描述，但是应当理解，本发明不限于此，本发明适用的等离子体处理机台包括等离子体处理机台，所述等离子体处理机台包括但不限于等离子体刻蚀机台/等离子体化学气相沉积机台/等离子体物理气相沉积机台/等离子体金属有机化学物气相沉积机台。如图1所示，本实用新型提供的气体混合装置3设置于档板2中，所述的档板2设置于气体喷淋板之上。如图2所示，气体混合装置3主要包括第一气体进气口 31、第二气体进气口 32和混合气体进气口 33，所述气体混合通道的一端分别连接有所述第一气体进气口 31和第二气体进气口 32，所述气体混合通道的另一端连接有混合气体进气口 33。其中，所述第一气体进气口 31用于通入第一气体，第二气体进气口 32用于通入第二气体，所述气体混合通道是所述第一气体和第二气体混合的场所，所述第一气体和第二气体在该气体混合通道中充分混合以后通过所述混合气体进气口 33进入刻蚀机台反应腔内，以对放置于刻蚀机台反应腔中的工艺片(典型地为一硅片)进行刻蚀反应。其中，所述第一气体示例性地为工艺气体，其具有较快的气体流通速率，所述第二气体示例性地为调制气体，其具有较慢的气体流通速率。其中，所述的气体混合通道具有多个弯道。具体地，所述气体混合通道包括若干个竖管和若干个横管，每两个所述竖管之间都设置一个横管，以使得所述若干个竖管和所述若干个横管依次首尾相连，并在每个所述竖管和每个所述横管的连接处形成一个所述弯道。在本实施例中，所述气体混合通道包括四个竖管，其分别为第一竖管341、第二竖管342、第三竖管343和第四竖管344，所述气体混合通道包括三个横管，其分别为第一横管351、第二横管352和第三横管353。其中，所述第一竖管341，第一横管351、第二竖管342、第二横管352、第三竖管343、第三横管353和第四竖管344分别依次收尾相连，在每个竖管和横管连接处都形成一个一定角度的弯管。具体地，所述第一竖管341和第一横管351首尾相连形成了第一弯道；所述第一横管351和第二竖管342首尾相连形成了第二弯道；所述第二竖管342和第二横管352首尾相连形成了第三弯道；所述第二横管352和第三竖管343首尾相连形成了第四弯道；所述第三竖管343 和第三横管353首尾相连形成了第五弯道；所述第三横管353和第四竖管344首尾相连形成了第六弯道。其中，需要说明的是，在上文中所提及的“横管”并非是指代在平面空间中与水平线呈绝对竖直(90度)的管道，同理，上文中所提及的“横管”也并非是与水平线呈绝对平行 (0度)的管道，所述“横管”和“竖管”并无任何方位的意思表示，仅是方便描述而设置的管道名称。并且，所述第一竖管、第二竖管、第三竖管、第四竖管可以是相互平行的，也可以是相互不平行的，同理，所述第一横管、第二横管、第三横管可以是相互平行的，也可以是相互不平行的。进一步地，所述第一竖管341、所述第二竖管342、所述第三竖管343、所述第四竖管344的长度的取值范围为25mm 100mm。进一步地，所述第一横管351、所述第二横管352、所述第三横管353的长度的取值范围为25mm 50mm。进一步地，所述第一弯管、所述第二弯管、所述第三弯管、所述第四弯管、所述第五弯管、所述第六弯管角度的取值范围为小于90度。进一步地，所述气体混合通道的材料为铝。由于气体混合通道由多个竖管和多个横管收尾相连而成，不但使得第一气体和第二气体的混合距离增加，而弯曲向前的路径也使得第一气体和第二气体不断地与管壁撞击从而促进混合，且混合气体不断改变流向即相当于对气体不断进行搅拌使其达到均勻。并且，若干个竖管和横管的长度也让第一气体和第二气体在混合的过程中有段向前平滑流动的过程，以确保混合的均勻度和可靠度。需要说明的是，图2所示的气体混合装置仅是为了说明本实用新型的一个实施例，而本实用新型并不局限于此。至于竖管、横管的数目和长度，两者的组合方式，以及竖管横管收尾相连而形成的弯道的角度都可依据具体的工艺需要进行调整。尽管本实用新型的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本实用新型的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本实用新型的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本实用新型的保护范围应由所附的权利要求来限定。
权利要求1.一种适用于等离子体处理机台的气体混合装置(3)，所述等离子体处理机台包括一个档板(2 )和气体喷淋板(1)，所述档板(2 )设置于气体喷淋板(1)之上，所述气体混合装置 (3)至少包含第一气体进气口(31)、第二气体进气口(32)及混合气体进气口(33)，其中，所述第一气体进气口(31)用于通入第一气体，所述第二气体进气口(32)用于通入第二气体， 所述混合气体进气口(33)是所述第一气体和第二气体混合之后通入所述等离子体处理机台的入口，其特征在于所述气体混合装置(3)还包括至少一个气体混合通道，所述气体混合通道的一端分别连接有所述第一气体进气口(31)和第二气体进气口(32)，所述气体混合通道的另一端连接有混合气体进气口(33)，其中，所述气体混合通道具有多个弯道。
2.根据权利要求1所述的适用于等离子体处理机台的气体混合装置(3)，其特征在于， 所述气体混合通道包括若干个竖管和若干个横管，每两个所述竖管之间都设置一个横管， 以使得所述若干个竖管和所述若干个横管依次首尾相连，并在每个所述竖管和每个所述横管的连接处形成一个所述弯道。
3.根据权利要求2所述的适用于等离子体处理机台的气体混合装置(3)，其特征在于，所述气体混合通道包括四个竖管，其分别为第一竖管(341)、第二竖管(342)、第三竖管(343)和第四竖管(344)，所述气体混合通道包括三个横管，其分别为第一横管(351)、第二横管(352)和第三横管(353)，其中，所述第一竖管(341)，所述第一横管(351)、所述第二竖管(342)、所述第二横管(352)、所述第三竖管(343)、所述第三横管(353)和所述第四竖管(344)依次首尾相连，所述第一竖管(341)和第一横管(351)首尾相连形成了第一弯道；所述第一横管(351) 和第二竖管(342)首尾相连形成了第二弯道；所述第二竖管(342)和第二横管(352)首尾相连形成了第三弯道；所述第二横管(352)和第三竖管(343)首尾相连形成了第四弯道；所述第三竖管(343)和第三横管(353)首尾相连形成了第五弯道；所述第三横管(353)和第四竖管(344)首尾相连形成了第六弯道。
4.根据权利要求3所述的适用于等离子体处理机台的气体混合装置(3)，其特征在于， 所述第一竖管(341)、所述第二竖管(342)、所述第三竖管(343)、所述第四竖管(344)的长度的取值范围为25mm 100mm。
5.根据权利要求3所述的适用于等离子体处理机台的气体混合装置(3)，其特征在于，所述第一横管(351)、所述第二横管(352)、所述第三横管(353)的长度的取值范围为 25mm 50mmo
6.根据权利要求3所述的适用于等离子体处理机台的气体混合装置(3)，其特征在于， 所述第一弯管、所述第二弯管、所述第三弯管、所述第四弯管、所述第五弯管、所述第六弯管角度的取值范围为小于90度。
7.根据权利要求1所述的适用于等离子体处理机台的气体混合装置(3)，其特征在于， 所述气体混合通道的材料为铝。
8.根据权利要求1所述的适用于等离子体处理机台的气体混合装置(3)，其特征在于， 所述第一气体的气体流通速率大于所述第二气体的气体流通速率。
9.根据权利要求8所述的适用于等离子体处理机台的气体混合装置(3)，其特征在于，所述第一气体为工艺气体，所述第二气体为调制气体。
10. 一种等离子体处理机台，其特征在于，所述等离子体处理机台包括权利要求1至9 任一项所述的气体混合装置。
专利摘要本实用新型提供了一种适用于等离子体处理机台的气体混合装置以及等离子体处理机台，所述等离子体处理机台包括一个档板和气体喷淋板，所述档板设置于气体喷淋板之上，所述气体混合装置至少第一气体进气口、第二气体进气口及混合气体进气口，其中，所述第一气体进气口用于通入第一气体，所述第二气体进气口用于通入第二气体，所述混合气体进气口是所述第一气体和第二气体混合之后通入所述等离子体处理机台的入口，其中所述气体混合装置还包括至少一个气体混合通道，所述气体混合通道的一端分别连接有所述第一气体进气口和第二气体进气口，所述气体混合通道的另一端连接有混合气体进气口，所述气体混合通道具有多个弯道。该气体混合装置能够使得气体混合得更加均匀充分。
文档编号C23C14/22GK202072761SQ20112014849
公开日2011年12月14日 申请日期2011年5月11日 优先权日2011年5月11日
发明者周旭升, 徐朝阳 申请人:中微半导体设备(上海)有限公司