金属有机物化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置及其方法
【专利摘要】本发明公开了一种金属有机物化学气相沉积设备喷淋盘清洁装置及其方法，清洁毛刷安装板4安装到旋转电机5的旋转轴上，清洁毛刷8固定安装于清洁毛刷安装板4上，清洁毛刷安装板4安装于清扫废物收集盘3内，抽气管路6一端与清扫废物收集盘3连接，另一端与抽气装置7连接。清洁装置与喷淋盘外形相似、大小相同，在清洁喷淋盘时，不需要打开MOCVD设备的手套箱，能够对喷淋盘进行整体式的清洁，清洗废物落入清洁装置的废物收集盘中，由抽气装置吸走排出，清洁喷淋盘的这一操作过程可以成为薄膜生长工艺过程的一个标准步骤，从而保证了每一次生长的可重复性。
【专利说明】金属有机物化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置及其方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体制造【技术领域】，尤其是涉及一种用于金属有机物化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置及清洁方法。
【背景技术】
[0002]化学气相沉积技术(MetalOrganic Chemical Vapor Deposition,简称 MOCVD)包含了流体力学、传热学、光学、化学、精密机械、真空电子、半导体材料、计算机等多学科。MOCVD设备是一种综合运用各个学科技术的高科技设备，是化合物半导体材料外延生长的理想方法，具有质量高、稳定性好、重复性好、能规模化量产的特点，它已成为生产半导体光电器件的关键核心设备，具有广阔的应用前景和产业化价值。现有的MOCVD设备相当部分在反应腔体中采用喷淋盘，MOCVD设备中的喷淋盘是影响MOCVD外延生长薄膜质量的重要因素。喷淋盘毛细孔是否堵塞直接影响着外延薄膜的均匀性，因为其直接影响气源流的分布，从而影响了薄膜在沉积过程中的均匀性。在外延薄膜生长过程中喷淋盘的出气口会逐渐累积一些杂质，影响出流气体的流动形态，导致薄膜生长过程中难以实现很好的重复性。
[0003]目前，清洗MOCVD设备喷淋盘的主要方式是通过手动操作带吸气功能的管式清洁刷，管式清洁刷靠近喷淋盘，经气体的吸力将附着在喷淋盘上的微细颗粒清除。这种清洁喷淋盘的方式操作繁琐，一次操作只能对喷淋盘的局部区域清洗，清洗不均匀，清扫过程中杂物也有可能掉入反应腔，另外由于操作比较繁琐，只能做阶段性的清理操作，不能把整个清洁过程，内嵌在外延工艺程序中。
【发明内容】
[0004]本发明的目的是针对已有技术中存在的缺陷，为了克服现有MOCVD设备喷淋盘清洁装置操作繁琐、引入杂质、可重复性差的不足，本发明提供一种金属有机物化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置。本发明的清洁装置主要包括密封圈2，清扫废物收集盘3，清洁毛刷安装板4，旋转电机5，抽气管路6，抽气装置7，清洁毛刷8，其特征是:清洁毛刷安装板4安装到旋转电机5的旋转轴上，清洁毛刷8固定安装于清洁毛刷安装板4上，清洁毛刷安装板4安装于清扫废物收集盘3内，抽气管路6 —端与清扫废物收集盘3连接，另一端与抽气装置7连接。
[0005]所述清扫废物收集盘3与喷淋盘I外形相似、大小基本相同，与整个喷淋盘I通过密封圈2进行密封。
[0006]本发明还提供了用上述的化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置的清洁喷淋盘的方法，在清洁喷淋盘I时，由机械臂将清洁装置移动到喷淋盘I附近，将清洁装置清扫废物收集盘3与喷淋盘I对准、压紧，与整个喷淋盘I通过密封圈2进行密封，装有清洁毛刷8清洁毛刷安装板4跟随旋转电机5旋转同时清洁毛刷8对整个喷淋盘I进行清扫，使喷淋盘I上的附着物，落入清扫废物收集盘3中，再经由抽气装置7将清扫废物收集盘3中的清扫物通过抽气管路6抽到腔体之外，喷淋盘清洗达到要求后，清洗装置与喷淋盘脱离，由机械臂将清洁装置转移回到原来的中转装置处，清洗过程完成。
[0007]清扫喷淋盘作为外延生长的一个标准工艺步骤，在每一次外延生长完成后自动对喷淋盘I进行一次清扫。
[0008]本发明的优点是能够实现清洁过程完全程序控制，在清洁喷淋盘时，不需要打开MOCVD设备的手 套箱，就可以对喷淋盘进行整体式的清洁，清洗掉落物落入清洁装置的盛物盘中由抽气装置吸走排出，而且清洁喷淋盘的这一过程可以成为薄膜生长工艺过程的一个标准步骤，从而保证了每一次生长的可重复性。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1为本发明化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置的结构意图。
[0010]图1中，I是喷淋盘，2是密封圈，3是清扫废物收集盘，4是清洁毛刷安
[0011]装板，5是旋转电机，6是抽气管路，7抽气装置，8清洁毛刷。
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图进一步说明本发明的实施例:
[0013]实施例一
[0014]参见图1，本发明的的清洁装置主要包括密封圈2，清扫废物收集盘3，清洁毛刷安装板4，旋转电机5，抽气管路6，抽气装置7，清洁毛刷8，清洁毛刷安装板4安装到旋转电机5的旋转轴上，清洁毛刷8固定安装于清洁毛刷安装板4上，清洁毛刷安装板4安装于清扫废物收集盘3内，清洁毛刷安装板4跟随旋转电机5旋转，清洁毛刷8跟随旋转同时将喷淋盘I上的附着物清扫掉，落入清扫废物收集盘3中。清扫废物收集盘3与喷淋盘I外形相似、大小基本相同，与整个喷淋盘I通过密封圈2进行密封。抽气管路6 —端与清扫废物收集盘3连接，另一端与抽气装置7连接，作用是对清扫废物收集盘3进行抽气，将清扫废物收集盘3中的清扫物通过抽气管路6抽到腔体之外。
[0015]在MOCVD设备进行薄膜外延生长的工艺过程执行到喷淋盘I清洁这一步骤时，喷淋盘I由动力装置驱动上升至合适的高度，然后由机械臂将安放在手套箱中的清洁装置搬运到喷淋盘I附近，将清洁装置的清扫废物收集盘3与喷淋盘I对准、接触、压紧，清废物收集盘3和喷淋盘I通过密封圈2进行密封，防止清扫废物漏出。启动抽气装置7，然后启动旋转电机5，固定在旋转电机5上的清洁毛刷安装板4和清洁毛刷8旋转，清洁毛刷8的刷毛接触、清扫喷淋盘,使喷淋盘I上的附着物——清扫废弃物落入清扫废物收集盘3中，再经由抽气装置7将清扫废物收集盘3中的清扫废物从抽气管道6中抽走、排出腔体之外。喷淋盘清洗达到要求后，完成一次喷淋盘清洁任务，清洗装置与喷淋盘脱离，再由机械臂将清洁装置搬运到原来的位置，清洗过程完成。
[0016]清扫喷淋盘作为外延生长的一个标准工艺步骤，在每一次外延生长完成后自动对喷淋盘I进行一次清扫。
【权利要求】
1.一种金属有机物化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置，主要包括密封圈(2)，清扫废物收集盘(3)，清洁毛刷安装板(4)，旋转电机(5)，抽气管路(6)，抽气装置(7)，清洁毛刷(8)，其特征是:清洁毛刷安装板(4)安装到旋转电机(5)的旋转轴上，清洁毛刷(8)固定安装于清洁毛刷安装板(4)上，清洁毛刷安装板(4)安装于清扫废物收集盘(3)内，抽气管路(6)一端与清扫废物收集盘(3)连接，另一端与抽气装置(7)连接。
2.根据权利要求1所述的金属有机物化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置，其特征在于所述清扫废物收集盘(3)与喷淋盘(I)外形相似、大小基本相同，与整个喷淋盘(I)通过密封圈(2)进行密封。
3.用权利要求1所述的化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置的清洁喷淋盘的方法，在清洁喷淋盘(I)时，由机械臂将清洁装置移动到喷淋盘(I)附近，将清洁装置的清扫废物收集盘(3)与喷淋盘(I)对准、压紧，与整个喷淋盘(I)通过密封圈(2)进行密封，装有清洁毛刷(8)清洁毛刷安装板(4)跟随旋转电机(5)旋转同时清洁毛刷(8)对整个喷淋盘(I)进行清扫，使喷淋盘(I)上的附着物，落入清扫废物收集盘(3 )中，再经由抽气装置(7 )将清扫废物收集盘(3)中的的清扫物通过抽气管路(6)抽到腔体之外，喷淋盘清洗达到要求后，清洗装置与喷淋盘脱离，由机械臂将清洁装置转移回到原来的中转装置处，清洗过程完成，清扫喷淋盘作为外延生长的一个标准工艺步骤，在每一次外延生长完成后自动对喷淋盘(I)进行一次清扫。
【文档编号】C23C16/455GK103668114SQ201210353143
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2012年9月19日 优先权日:2012年9月19日
【发明者】甘志银, 胡少林, 潘建秋, 蒋小敏, 植成杨, 刘玉贵 申请人:甘志银