一种具有弹性的硬质磨具的制作方法

文档序号:3265822阅读:240来源:国知局
专利名称:一种具有弹性的硬质磨具的制作方法
技术领域
本实用新型涉及ー种具有弹性的硬质磨具。
技术背景现有的抛光砖生产过程中,需要对抛光砖的装饰面进行抛光处理,抛光工作一般都是采用传统刚性磨具进行,该刚性磨具由磨具基体和固结其上的硬质研磨材料组成。然后安装在抛光机上作为抛光磨具对抛光砖坯料进行抛光加工。但是,采用这类刚性硬质磨具对陶瓷薄板进行抛光磨削时,由于陶瓷薄板规格大、厚度薄,造成陶瓷薄板的强度较低, 普通刚性磨具震动较大,容易把砖震裂。并且刚性磨具切削量较为固定,不能随着薄板表面厚度轻微变化而变化。当产品厚度有波动时,就会引起漏抛、抛光质量差等问题,影响其抛光效果。
发明内容本实用新型的目的是为了克服上述现有技术的缺点,提供ー种具有弹性的硬质磨具,适用于抛光砖和大规格陶瓷薄板的抛光加工,抛光后的产品表面平整,光泽度得到大大的提升,同时具有安装方便,抛光效率高,质量稳定等优点。本实用新型的发明目的可以通过以下的技术方案来实现ー种具有弹性的硬质磨具,包括有基体和研磨材料层,研磨材料层覆盖在基体上,在基体与研磨材料层之间设有弹性材料层,基体与弾性材料层之间、弾性材料层与研磨材料层之间互相粘结固定。弾性材料层中部设有镂空结构,研磨材料层设有加强筋,加强筋插进弹性材料层的镂空处。研磨材料层的厚度为20mm 70mm。弹性材料层的厚度为5mm 30mm。采用上述技术方案后,通过在刚性磨具上的基体和研磨材料层之间增设ー层弹性材料层,使刚性磨具变为弹性磨具,可以有效地防止砖坯在抛光过程中因局部施加压カ不均匀引起变形、震动或滑移,有效的解决了大规格瓷质薄板砖抛光过程中的破损问题。

图I为本实用新型具有弹性的硬质抛光磨具的剖视结构图之ー;图2为本实用新型具有弹性的硬质抛光磨具的剖视结构图之ニ。
具体实施方式
以下结合附图对本实用专利作进ー步说明。本实施例的具有弹性的硬质抛光磨具包括基体I、弾性材料层2和研磨材料层3,在磨具基体I和研磨材料层3之间设置弾性材料层2,弾性材料层2中部为镂空结构,在研磨材料层3的粘接表面上设有加强筋4,加强筋4插进镂空处,从而提高基体I、弹性材料层2和研磨材料层3之间的粘结强度。制造本抛光磨具过程在磨具基体I表面涂上ー层树脂粘接剂,粘上弾性材料层2,再在弾性材料层2表面上套上定型模具,然后缓慢灌入泥状的磨料和结合剂的混合物,压实干燥固结后,在弾性材料层2表面就会形成研磨材料层3,制得本磨具。前述弾性硬质抛光磨具中,所述弹性材料层2采用橡胶制成,具体可以是天然橡胶、合成天然橡胶、氯丁橡胶、丁苯橡胶、顺丁橡胶、丁腈橡胶或者聚硫橡胶等。弾性材料层2的厚度不限,可以是5mm 30mm不等。前述弾性硬质抛光磨具中,所述研磨材料层3可以采用碳化硅磨粒制成,也可以采用下面至少ー种的磨料制成氧化铬磨粒、金刚石磨粒、ニ氧化硅磨粒、氧化铝磨粒或者氧化锆磨粒,根据待加工物品的材质选定上述材料的组合。研磨材料层的形状一般为长方体。为保证弾性硬质磨具在使用过程中的弾性和耐摩擦性能,研磨材料层3厚度为20mm 70mm为宜。本弾性硬质抛光磨具在磨具基体I和研磨材料层3之间设置弾性材料层2,用弾性材料层2粘接磨具基体I与研磨材料层3,具有该种结构的弹性硬质磨具可以同时具有弾性和柔性,与传统刚性磨块相比,可以吸收缓冲大部分的震动,显著提高磨具的使用寿命,改善研磨材料层3的抛光效率,降低工作时的噪音。同时对ー些表面呈轻微波纹状起伏的超薄砖种也可以达到很好的抛光效果。以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式
,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种具有弹性的硬质磨具,包括有基体和研磨材料层,研磨材料层覆盖在基体上,其特征在于在基体与研磨材料层之间设有弹性材料层,基体与弹性材料层之间、弹性材料层与研磨材料层之间互相粘结固定。
2.根据权利要求I所述的一种具有弹性的硬质磨具,其特征在于弹性材料层中部设有镂空结构,研磨材料层设有加强筋,加强筋插进弹性材料层的镂空处。
3.根据权利要求I所述的一种具有弹性的硬质磨具,其特征在于研磨材料层的厚度为 20mm 70mm。
4.根据权利要求I所述的一种具有弹性的硬质磨具,其特征在于弹性材料层的厚度为 5mm 30mmo
专利摘要本实用新型公开一种具有弹性的硬质磨具,包括有基体和研磨材料层,研磨材料层覆盖在基体上,在基体与研磨材料层之间设有弹性材料层,基体与弹性材料层之间、弹性材料层与研磨材料层之间互相粘结固定,弹性材料层中部设有镂空结构,研磨材料层设有加强筋,加强筋插进弹性材料层的镂空处,采用上述技术方案后,通过在刚性磨具上的基体和研磨材料层之间增设一层弹性材料层,使刚性磨具变为弹性磨具,可以有效地防止砖坯在抛光过程中因局部施加压力不均匀引起变形、震动或滑移,有效的解决了大规格瓷质薄板砖抛光过程中的破损问题。
文档编号B24D3/00GK202412065SQ20122006605
公开日2012年9月5日 申请日期2012年2月27日 优先权日2012年2月27日
发明者刘一军, 张松竹, 汪庆刚, 潘利敏, 谢志军 申请人:广东蒙娜丽莎新型材料集团有限公司
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