专利名称：镀膜室的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及磁控溅射成膜技术领域，特别涉及一种镀膜室。
背景技术：
磁控溅射法是在高真空条件下充入适量的氩气，在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁)之间施加几百千伏的直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间，便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜 层致密、均匀等优点。目前，磁控溅射法已经普遍应用在工业生产中，例如制备铜铟镓硒(CIGS)太阳能电池的过程中薄膜的沉积一般需要采用磁控溅射法。目前市场上的镀膜设备一律采用大体积、大腔体的镀膜室。镀膜室腔体间各模块之间的接缝一律采用电焊或氩弧焊进行焊接。方体镀膜室的一个面为一个模块，模块较多，现有技术中先将大板钢板按照镀膜室所要求的规格进行切割，然后采用电弧焊或氩弧焊将拼合起来的板块进行焊接，图I是现有技术的镀膜室部分焊接结构示意图，如图I所示，第一钢板I和第二钢板2分别为切割好的钢板，其分别作为镀膜室的不同的面，第一钢板I和第二钢板2直接具有焊缝3，现有技术中焊缝3采用电弧焊或氩弧焊将第一钢板I和第二钢板2拼合起来，图I仅示出两个钢板的焊接结构示意图，实际中一个镀膜室中需要多个钢板采用多个焊缝焊接在一起而形成，不再赘述。多个焊接在一起的钢板共同围成镀膜室腔体的空间。之后，对焊接好的镀膜室使用抛光机对焊接处进行打磨抛光，抛光后，再使用找漏设备进行找漏或人工进行找漏。图2所示为现有技术的镀膜室的剖面结构示意图，现有技术将铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能薄膜电池片生产线中的镀膜室腔体的空间设计的相当大，因镀膜室外壳采用焊接法，增加了漏气源，降低了真空度。并且由于焊接只能保证镀膜室板块之间粘结的牢固性，并不能彻底杜绝漏气现象，而镀膜室真空度的要求是相当高的，只要外界进入极少量的空气，就会对镀膜室的真空度产生较大影响。现有镀膜室设备体积大，占用生产车间的空间较大，降低了车间的利用率。由于镀膜室腔体大，造成抽气时间长，生产效率低和产量小，抽气往往要花费数个小时甚至一天的时间，不能及时投入生产，大大降低了生产效率和产量。另外，由于设备体积大，相关仪器设备不够精密，特别容易出现问题，少则三五天，多则一个星期就要小修一次；少则几个星期，多则一个月就要大修次，维修次数多，不但需要人工量大，而且维修需要更换若干次机器零部件，维修成本相当大。同时真空抽气时间长，需要耗费大量的电能和用油。由于漏气源增加真空度降低，势必会影响产品的质量，比如说膜层成分不纯，透光率达不到要求，平整度、均匀性不够等而影响了产品的质量和性能。传统设备采用氩弧焊和电弧焊进行焊接，这两种焊接技术存在如下弊端氩弧焊工作效率低；电弧焊有药皮，焊接产生的残渣较多；两种焊接方式都存在精确度低、渗透性不强的弊端；电弧焊和氩弧焊入热量无法控制，容易造成钢板板材变形，导致设备间对接不平衡；这两种焊接在空间距离及障碍物间无法自由调节，具有不灵活性等。
实用新型内容本实用新型提出一种镀膜室，其可以减少镀膜室的空间，减小漏气的风险，节省成本，提高产能。本实用新型所采用的技术方案具体是这样实现的本实用新型提供了一种镀膜室，包括镀膜室侧壁及由镀膜室侧壁所围成的镀膜室腔体，其中，所述镀膜室侧壁由整体的一块材料经弯折并对唯一的焊缝进行激光焊接而形成。优选地，所述镀膜室侧壁的材料为钢板。优选地，所述镀膜室的高度为I. 5米，所述镀膜室腔体的高度为O. 5米，所述镀膜室的长度为6米。采用本实用新型的镀膜室，可以减少镀膜室的空间，减小漏气的风险，节省成本，击是倉泛。
图I是现有技术的镀膜室部分焊接结构示意图；图2是现有技术的镀膜室的剖面结构示意图；图3是本实用新型具体实施例的镀膜室侧壁部分弯折处的结构示意图；图4是本实用新型具体实施例的镀膜室的剖面结构示意图；图5是本实用新型具体实施例的镀膜室的形成方法流程图。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式
做详细的说明，使本实用新型的上述及其它目的、特征和优势将更加清晰。在全部附图中相同的附图标记指示相同的部分。并未刻意按比例绘制附图，重点在于示出本实用新型的主旨。下面结合图3至图5对本实用新型的镀膜室及其形成方法的具体实施例进行详细说明。本实用新型的镀膜室，包括镀膜室侧壁10及由镀膜室侧壁10所围成的镀膜室腔体，其中，镀膜室侧壁10由整体的一块材料经弯折并对唯一的焊缝进行激光焊接而形成。图3是本实用新型具体实施例的镀膜室侧壁部分弯折处的结构示意图，如图3所示，镀膜室侧壁10为整体的一块材料，其沿弯折处20弯折后围成镀膜室腔体，弯折后，边缘处仅存在唯一的一个焊缝，对其进行激光焊接而形成封闭的镀膜室腔体。图3仅示出部分弯折处的结构示意图，而本实用新型中存在多处弯折处20，根据不同的镀膜室腔体的形状可以有多种不同的弯折处20。本实用新型的镀膜室，优选地，镀膜室侧壁10的材料为钢板，采用板材折弯机按照规定的精度和弯折度对钢板进行弯折。考虑到实际生产的需要，镀膜室的空间尺寸可以采用如下镀膜室的高度为I. 5米，镀膜室腔体的高度为O. 5米，镀膜室的长度为6米，以应用于铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能薄膜电池片生产线中，图4是本实用新型具体实施例的镀膜室的剖面结构示意图，如图4所示，其空间比现有技术中的镀膜室空间减小很多。但本实用新型并不仅限于此，镀膜室的实际尺寸可根据实际生产需求作弹性调节。本实用新型的镀膜室不仅可以应用于生产铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能薄膜电池中，还可以应用在生产其他多种薄膜材料的设备中。图5是本实用新型具体实施例的镀膜室的形成方法流程图，本实用新型的镀膜室的形成方法，其包括步骤a.提供一块整体的材料；b.对该块整体的材料进行弯折处理；c.对弯折后形成的唯一的焊缝进行激光焊接，围成镀膜室腔体。同样，本实用新型具体实施例的镀膜室的形成方法中，多采用的整体的材料为钢 板。另外，步骤b中采用板材折弯机按照规定的精度和折弯度对钢板进行折弯。考虑到实际生产需要，镀膜室的空间尺寸可以采用如下镀膜室的高度为I. 5米，镀膜室腔体的高度为O. 5米，镀膜室的长度为6米。但本实用新型并不仅限于此，镀膜室的实际尺寸可根据实际生产需求作弹性调节。本实用新型具体实施例的镀膜室的形成方法中，优选地，在步骤c之后还包括步骤d:对所述镀膜室进行找漏。本实用新型具体实施例的镀膜室的形成方法中，步骤a可以先用切割机切割满足需要的特定规格的钢板以备用，但为了保持镀膜室应有的强度和支撑力，其外壳尺寸也可以保持与现有技术中的镀膜室相同的标准。本实用新型的镀膜室侧壁的因由弯折的钢板一体形成，杜绝了漏气源，使得镀膜室的真空度保持稳定。本实用新型中的接缝处采用激光焊接，使得接缝处平整性、均匀性、相容性及密封性都达到了相当高的水平，从根本上杜绝了漏气的可能性。本实用新型的镀膜室体积小，节省了生产车间的空间，提升了车间的利用率，增强了车间的整体功用。由于本实用新型镀膜室腔体空间小巧紧凑，抽真空时间缩短，提高了生产效率，增加了产量，原来抽气往往要花费数个小时甚至一天的时间，而现在只需花费十几分钟的时间就能将真空度提升至规定的工艺标准，大大节约了抽真空的时间，一旦生产任务下达时，就能立即投入生产，大大提高了生产效率和增加了生产线的产能，同时，也能及时兑现公司对客户承诺的交货期，增强了公司在客户心目中的良好形象。同时，镀膜室变得精制小巧后，出现问题的概率也会降低，维修次数少了，不但需要人工量减少了，而且节省了若干机器零部件，节省了一笔相当可观的维修成本以及工作中所需的水电油的成本，由于漏气源减少，真空度增加并能保持稳定，势必会提升产品的质量。例如当镀膜设备用于制作铜铟镓硒薄膜时，膜层成分纯度提高，透光率、平整度、均匀性都能完全达到工艺要求，提升了产品的质量和性能。本实用新型采用激光焊接技术，激光焊接具有如下的优点(I)可将入热量降到最低的需要量，热影响区金相变化范围小，且因热传导所导致的变形亦最低；(2) 32mm板厚单道焊接的焊接工艺参数业经检定合格，可降低厚板焊接所需的时间甚至可省掉填料金属的使用；(3)不需使用电极，没有电极污染或受损的顾虑。且因不属于接触式焊接制程，机具的耗损及变形皆口降至最低；(4)激光束易于聚焦、对准及受光学仪器所导引，可放置在离工件适当之距离，且可在工件周围的机具或障碍间再导引，其他焊接法则因受到上述的空间限制而无法发挥；(5)工件可放置在封闭的空间(经抽真空或内部气体环境在控制下);(6)激光束可聚焦在很小的区域，可焊接小型且间隔相近的部件；(7)可焊材质种类范围大，亦可相互接合各种异质材料；(8)易于以自动化进行高速焊接，亦可以数位或电脑控制；(9)焊接薄材或细径线材时，不会像电弧焊接般易有回熔的困扰；(10)不受磁场所影响(电弧焊接及电子束焊接则容易)，能精确的对准焊件；(11)可焊接不同物性(如不同电阻)的两种金属；(12)不需真空，亦不需做X射线防护；(13)若以穿孔式焊接，焊道深一宽比可达10:1 ;(14)可以切换装置将激光束传送至多个工作站。采用本实用新型的镀膜室及其形成方法，可以减少镀膜室的空间，减小漏气的风险，节省成本，提闻广能。在以上的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是以上描述仅是本实用新型的较佳实施例而已，本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，因此本实用新型不受上面公开的具体实施的限制。同时任何熟悉本领域技术人员在不脱离本实用新型技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。凡是未脱离·本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。
权利要求1.一种镀膜室，包括镀膜室侧壁及由镀膜室侧壁所围成的镀膜室腔体，其特征在于，所述镀膜室侧壁由整体的一块材料经弯折并对唯一的焊缝进行激光焊接而形成。
2.如权利要求I所述的镀膜室，其特征在于，所述镀膜室侧壁的材料为钢板。
3.如权利要求I所述的镀膜室，其特征在于，所述镀膜室的高度为I.5米，所述镀膜室腔体的高度为O. 5米，所述镀膜室的长度为6米。
专利摘要本实用新型提供了一种镀膜室，包括镀膜室侧壁及由镀膜室侧壁所围成的镀膜室腔体，其中，所述镀膜室侧壁由整体的一块材料经弯折并对唯一的焊缝进行激光焊接而形成。采用本实用新型的镀膜室，可以减少镀膜室的空间，减小漏气的风险，节省成本，提高产能。
文档编号C23C14/35GK202643825SQ20122007471
公开日2013年1月2日 申请日期2012年3月2日 优先权日2012年3月2日
发明者王进东 申请人:江苏宇天港玻新材料有限公司