用于氮化钢质机械元件的熔融盐浴及实施方法

用于氮化钢质机械元件的熔融盐浴及实施方法
【专利摘要】本发明涉及用于氮化钢质机械元件的熔融盐浴，其基本上由以下物质构成的氮化浴(含量以重量表示)：25至60％的碱金属氯化物，10至40％的碱金属碳酸盐，和20至50％的碱金属氰酸盐，最多3％的氰根离子(在使用时形成)，含量总和为100％。优选地，所述浴包含：25至30％的氰酸钠，25至30％的碳酸钠和碳酸锂，40至50％的氯化钾，最多3％的氰根离子(在使用时形成)，含量总和为100％。
【专利说明】用于氮化钢质机械元件的熔融盐浴及实施方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及钢质机械元件的氮化。
【背景技术】
[0002]这里所说的“机械元件”是指在使用中旨在确保机械功能的元件，这通常是指这些元件具有大硬度、良好的耐腐蚀性和耐磨性；因而可非穷尽性地提及:
[0003]?雨刮器轴，
[0004]?液压或气压千斤顶的杆，
[0005]?燃机阀，
[0006]?铰链环。
[0007]制造这些元件(至少在其可能承受摩擦或腐蚀的表面附近)的钢的范围是大的，从非合金钢到所谓不锈钢的合金，尤其是铬或镍合金。
[0008]为了使这些元件表面硬化，已知的是应用氮化处理(有时伴有渗碳，在这种情况下往往称之为氮碳共渗(nitrocarburation))。事实上,氮化的概念同时包括了在氰化物含量非常低(通常低于0.5%)的浴中的单独的氮化，以及对于氰化物含量超过这个阀值的氮碳共渗。在下文中的术语“氮化”包括了这两种类型的处理。
[0009]这种氮化可从气相或等离子相开始或者从液相开始进行。
`[0010]液相氮化的优点是可以在几乎不到几个小时的时间内对几微米的厚度进行显著硬化，但其显著的缺点是在大约600°C (甚至更高)的温度下使用熔融盐浴，该熔融盐浴在实践中包含氰化物并且还有氰酸盐和碳酸盐(阳离子在实践中是碱金属如锂、钠、钾等的阳离子)。在实践中，氰酸盐分解而尤其形成氰化物、碳酸盐和氮，所述氮因而可用于分散到待氮化的元件中。由于氰酸盐的消耗和碳酸盐的富集，因此需要通过引入能够使其氰化物和氰酸盐含量恢复到确保效力的范围内的补充物而使所述浴再生。在下文中，浴含量以重量百分数表示。
[0011]而已知的是，氰化物的使用无论对于操作者还是对于环境来说都是危险的，因此数十年来一直在寻求把在熔融盐浴中的钢质机械元件氮化方法中所用的氰化物用量降至最低。
[0012]因而，从1974-1975年开始，已提出寻求将氮化浴中的氰化物含量降到最低，这尤其通过在再生时避免有毒产物来进行(FR-2220593和FR-2283243或US-4019928或GB-1507904);事实上，这些文献无特别评论地提及碱金属氯化物的含量可最高达30% (不过没有提供实例，对于氮化来说，在还包含64%的氰酸钾、16%的碳酸钾、11 %的氰酸钠和4%的氰酸钠的浴中包含多于5%重量的NaCl)。当时认为具有低含量氰化物的浴应当基本上由氰酸钾或氰酸钠、碳酸钾和碳酸钠构成，其中钾多于钠(这可以降低盐浴的温度)；其目标是将氰化物的含量降低至不超过5%甚至3% ;氰化物含量的降低应当由氰酸盐补偿；对于氯化物的作用，除了在渗碳浴中氯化钡是熔融熔剂之外并没有任何特别的解释。
[0013]之前(参见1962年公开的文献GB-891578)已经提及氮化-渗碳浴可包含碱金属氯化物，这可节省成本要高很多的氰化物和氰酸盐或者降低熔融温度；此文献中涉及包含30% -60%氰化物的盐浴并且教导了相对于异氰酸盐使正氰酸盐的含量最大化(在所描述的实例中没有氯化物)。
[0014]还提及(参见1960年公开的文献GB-854349)渗碳浴(在800°C _950°C的温度下使用)包含按重量计35% -82%的碱金属碳酸盐、15% -35%的碱金属氰化物、3% -15%的碱金属无水娃酸盐和最多15%的碱金属氯化物；其指出，优选存在碱金属氯化物,优选最多达10%，不过没有给出任何解释(不过看起来氯化物的存在有助于可用形式的氰化物的制备)。此外已提及(参见1966年公开的文献GB-1052668)具有在合适选择的范围内的组成的坩埚中的碳氮共渗浴在600°C _750°C下包含10-30%的碱金属氰酸盐和至少10%的碱金属氰化物；已提及关于起始浴(此外只含氰化物(25% )和碳酸盐)以及在再生化合物(还含有75%的氰化物)中包含25%的碱金属氯化物。还提出(GB-1185640)通过在包含氰化物、氰酸盐、碳酸盐和碱金属氯化物(没有具体指出这些氯化物的含量范围)的浴中的淬火短步骤来补充渗碳步骤。
[0015]对于不锈钢氮化，已提出(1980年公开的US-4184899)气相氮化处理，其之前需要在含有4% -30%的氰化物和10% -30%的氰酸盐并且组合有0.1% -0.5%的硫的浴中进行热化学预处理步骤。已提及预处理浴的剩余物可由碳酸盐或氯化钠形成，而这些元素在该处理中不是活性的(关于具有12%的氰化物和0.3%的硫的浴，其提及在开始时具有25%的碳酸钠和42.7%的氯化钠)。
[0016]更近一些，已提出(尤其参见1985年公开的文献US-4492604)氰化物含量为
0.01% -3%的氮化浴。其指出，由于在接近550°C _650°C的氮化浴中氰化物的强还原作用，而氰酸盐具有释出氧的倾向，氰化物含量低的氮化浴则具有氧化氮化层并且使得出现不可接受的涂层的倾向。为了避免形成这些缺陷，其教导了加入最多至IOOppm的硒，这通过结合坩埚的合适组成(无铁)来进`行。
[0017]还提出通过使用包含高含量氯化物的浴硬化含铁元件(参见1999年公开的文献EP-0919642)，但此浴实际上用以补充氮化作用，旨在能够将铬(在所述浴中作为氯化物的补足物与二氧化硅一起存在)引入到预先形成的氮化层中。
[0018]为了氮化含铁元件，文献US-6746546 (公开于2004年)已经提出了含有碱金属氰酸盐和碱金属碳酸盐的熔融盐浴，其中具有45-53%的氰酸根离子(优选48-50 %)，其被保持在750° F-950。F，即400°C-510°C，以赋予良好的耐腐蚀性。碱金属有利地是钠和/或钾(当所述两者均存在时，钾含量相对于钠含量优选为3.9:1);在使用时，所述浴含有1-4%的氰化物(关于在该浴中任选存在的其它元素则没有给出任何具体的说明)。
[0019]再近一些，为了在氮化的含铁元件的出口处尽可能少地夹带熔融盐，文献US-7217327提出了基本上由L1、Na和K类型的阳离子以及碳酸根阴离子和氰酸根阴离子所构成的氮化浴。
[0020]因而可以看到，为了能够在不使用显著量氰化物的情况下氮化含铁元件，已经提出了各种组成的熔融盐浴。
[0021]但通常，一旦寻求低粗糙度，则在低含量氰化物(典型地少于3% )下的氮化处理之后必须进行精加工处理，这就增加了处理成本(劳动力、抛光没备)以及总处理持续时间。[0022]低粗糙度可以通过使用具有高含量氰化物(大于5% )的氮化浴来实现，但这要在数个小时的持续时间(典型地4-6小时)之后获得，这在工业规模上会显得时间过长。

【发明内容】

[0023]本发明的目的是一种具有低氰化物含量的氮化浴，其能够在至多大约几个小时之内将铁或钢质机械元件氮化，同时赋予其非常低的粗糙度(因而无显著孔隙性)，从而使得随后的机械修补(通过抛光或摩擦精加工(tribofinition))变得无用，整体上具有适中的成本。
[0024]为此，本发明提出了基本上由以下物质构成的氮化浴(含量以重量表示):
[0025]-25至60%的碱金属氯化物，
[0026]-10至40%的碱金属碳酸盐，和
[0027]-20至50%的碱金属氰酸盐，
[0028]-最多3%的氰根离子(ionscyanures)(在使用时形成)，含量总和为100%。
[0029]需要指出的是，所述组成的范围通常是针对新浴给出的，但在实践中要力图尽可能地保持在这些范围内；因而，在实践中在起始浴中没有任何氰根离子，并且在使用时尽力保持不大于3%的氰根离子。
[0030]根据本发明，显著量的含氯化合物(NaCl、KCl、LiCl、……)的存在使得能够在氮化时在几乎不到(? peine)大约一至两小时的处理持续时间之后获得非多孔性的、非粉状的并且因而不太粗糙的层；由于氯化物没有氮化浴中的其它常规成分贵，因此根据本发明的浴比标准浴更为经济，同时还`避免了求助抛光后续处理。要指出的是，至多大约两小时(2小时+ / -5分钟)的处理时间被认为是与工业规模上的令人满意的产率目容的时间。
[0031]可指出的是，在过去使用的浴中，已经提出了在氮化浴中组合使用氰酸盐和碳酸盐与氯化物(在基本上没有氰化物时包含它)，但氯化物(其在氮化处理中其任何作用都没有被承认)在不存在氰化物(或具有少量氰根离子，典型地小于或等于3%)的情况下在实践中看来并不具有大于10-15%的含量。而且，没有任何文献指出在存在氯化物与最终粗糙度之间哪怕是最小的关联性。
[0032]有利地，碱金属氯化物是氯化锂、氯化钠和/或氯化钾，这对应于被揭示为有效的氯化物，同时具有适中的成本，并且在搬运方面不需要沉重的约束。
[0033]有利地，氯化物含量为40-50%，优选地至少大约等于45% (+ / _2%，甚至+ / -1%)ο此含量范围显示出在合理的时间内能够实现良好的氮化以及低粗糙度。
[0034]要理解的是:
[0035]-氰酸盐的含量应当足以能够获得氮化效果，
[0036]-碳酸盐的含量不应变得过高，否则会有阻碍导致该氮化的化学反应的风险。
[0037]因而同样有利地，氰酸盐的含量为20-40%，甚至20-35%，优选20-30%。更有利地，此含量为25-40%，甚至25-35%，优选25-30 %。这些氰酸盐可尤其是氰酸钠(或氰酸钾)。
[0038]同样有利地，碱金属碳酸盐的含量为20-30%，优选25-30%。这些碳酸盐可尤其是碳酸钠、碳酸钾和/或碳酸锂；这有利地涉及碳酸钠和碳酸锂的混合物。
[0039]因而，特别有利地，该熔融盐浴基本上由以下物质构成(+ / _2%，甚至+ / -1%左右):
[0040]-25至30 %的氰酸钠，
[0041]-25至30%的碳酸钠和碳酸锂，
[0042]-40至50 %的氯化钾
[0043]-最多3%的氰根离子(在使用中形成)，
[0044]这些含量的总和为100%。
[0045]优选地，在形成最高达3的氰化物之前，该熔融盐浴基本上由以下物质构成(+ / _2%，甚至 + / -1%左右):
[0046]-28%的氰酸钠，
[0047]-22%的碳酸钠，
[0048]-5%的碳酸锂，
[0049]-45%的氯化钾，
[0050]这被揭示出在氮化动力学、浴的构成混合物的成本、处理过的元件的表面的粗糙度变化、熔点、处理过的元件的表面夹带盐的风险之间实现良好的折中。当然，考虑到所发生的反应(其中尤其是形成含量保持至多3%的氰根离子)，在使用时这种组成可略有变化。
[0051]本发明还提出了铁`或钢质机械元件的氮化方法，根据该方法将这些元件浸入在5300C _650°C的温度下的上述组成的浴中至多4小时。
[0052]优选地，所述元件被浸入到570°C -590°C的温度下的浴中至多2小时。
[0053]在实践中，氮化处理的持续时间典型地为大约90分钟，但可以理解该处理持续时间取决于元件的性质和/或目的；因而可以是从对于阀门或工具钢来说的大约30分钟，一直到在寻求氮化大厚度(厚度为数十微米的层)时或者在合金钢的情况下的4小时。不过，本发明有利地以大约60-120分钟的处理时间来实施。
[0054]本发明还涉及根据上述方法氮化的铁或钢质机械元件，其尤其表现为不需要任何后续机械精加工方法如抛光(尤其不存在抛光细痕)。
[0055]在下文中，将所试验的组成与不符合本发明的标准浴(其对于不同的实施例来说是相同的)进行比较。
【具体实施方式】
[0056]实施例1 (符合本发明)
[0057]如下处理可用于雨刮器轴、液压或气压千斤顶的杆或铰链环的退火的C45型钢的样品。
[0058]对这些样品进行在碱性溶液中的脱油脂，用水冲洗，然后预热到350°C。
[0059]然后将它们浸入到熔融盐浴中60分钟，所述熔融盐浴被保持在580°C并且包含:
[0060]-28%的氰酸钠，
[0061]-22%的碳酸钠，和
[0062]-45%的氯化钾，
[0063]-5%的碳酸锂。
[0064]然后用水冲洗如此氮化的样品。[0065]相同的样品经历同样的处理，除了是在标准氮化浴(不符合本发明)中在580°C进行60分钟的氮化处理，该标准浴基本上由以下物质构成:
[0066]-58%的氰酸钠，
[0067]-36%的碳酸钾，和
[0068]-6%的碳酸锂。
[0069]在这两种情况中，如此形成的铁的氮化物层具有10+ / -1 μ m的厚度。
[0070]已观察到，样品的粗糙度最初为Ra=0.2微米，在标准浴中处理之后变为Ra=0.52微米，但在根据本发明的浴中处理之后为Ra=0.25微米，也即仅略大于起始粗糙度的粗糙度。
[0071]此实施例的符合本发明的组成显示出有利于所述浴随时间的良好稳定性，尤其是在涉及氰化物比率的方面。
[0072]如此氮化的样品然后在包含碱金属的硝酸盐、氢氧化物和碳酸盐的熔融盐浴中氧化。这种氧化的目的是通过形成厚度为1-3 μ m的铁氧化物层而使氮化物层的表面钝化。在氧化之后，元件被浸入到抗腐蚀的保护油中(包含腐蚀抑制剂)，正如在氮化方法中所使用的。
[0073]根据本发明处理的样品的耐腐蚀性(按照标准IS09227在中性盐雾中对10个元件进行测量)为150-250小时。
[0074]在标准浴中处理的样品的耐腐蚀性(按照标准IS09227在中性盐雾中对10个元件进行测量)为120-290小时。`
[0075]根据本发明实现的含铁元件的氮化因而能够获得与利用标准浴氮化所获得的相当的耐腐蚀性，同时相对于此标准浴中的处理来说改善了表面粗糙度。
[0076]实施例2 (不符合本发明)
[0077]如上制备的退火的C45钢的样品在下述浴中在590°C下氮化I小时，所述浴包含:
[0078]-20%的碱金属氯化物(NaCl，KCl)，
[0079]-40%的氰酸钠，
[0080]-30%的碳酸钾，
[0081]-10%的碳酸锂。
[0082]在这两种情况下，所形成的层的厚度为10+ / -1um0
[0083]已观察到，样品的粗糙度最初为Ra=0.2微米，在此浴中处理之后变为Ra=0.48微米，相比之下在标准浴中处理之后的Ra=0.52 μ m。
[0084]这说明，氯化物含量过低不能使元件的最终粗糙度相对于标准浴(不符合本发明)以显著的方式得以降低。
[0085]实施例3 (不符合本发明).[0086]制备包含下述物质的浴:
[0087]-65%的氯化钠，
[0088]-25%的氰酸钾，
[0089]-10%的碳酸钾。
[0090]此浴被揭示出不可工业应用，因为其熔融温度大于600°C，这会妨碍进行铁素体相(元件的大部分通常在铁素体相氮化，也即小于600°C的温度)的整个氮化处理。只有奥氏体相的氮化是可实现的，但也仅是针对大于630°C的温度并且具有高的盐夹带率(高浴粘度)，这在经济上意义不大。
[0091]实施例4 (符合本发明)
[0092]退火的C45样品的处理在与实施例1相同的条件下但在下述浴中进行，所述浴包含:
[0093]-35%的氰酸钠，
[0094]-20%的碳酸钠，
[0095]-20%的碳酸钾，
[0096]-25%的氯化钾，
[0097]该处理使得能够在厚度为10+ / -1微米的氮化层的表面获得最终粗糙度为Ra=0.28 μ m,相比之下在标准浴(不符合本发明)中为Ra=0.52 μ m。
[0098]尽管从粗糙度的角度来看是令人满意的，但这种组成显示出比实施例1要大的粘度，这意味着要消耗更多的盐。
[0099]根据本发明获得的氮化物层的孔隙率小于5%，而利用标准浴所获得的氮化物层的孔隙率为25-35%。
[0100]实施例5 (不符合本发明)
[0101]制备包含下述物质的浴:`[0102]-45%的氯化钾，
[0103]-10%的氰酸钠，
[0104]-45%的碳酸钠。
[0105]此浴被揭示出不可用于氮化处理，因为其液相线温度大于600°C。需要指出，液相线温度是这样的温度:从该温度开始浴完全熔融且组成成分是均质的(不同于熔融温度，熔融温度是这样的温度:从该温度开始浴开始变成液体，有可能经过多个相)。
[0106]如实施例3中所示，这种浴不可有利地在工业上使用，因为其使得在铁素体相的整个处理变得不可能，并且在600°C _650°C的盐夹带是非常大的。
[0107]实施例6 (符合本发明)
[0108]退火的C45样品的处理在与实施例1相同的条件下但在下述浴中进行，所述浴包含:
[0109]-45%的氯化钾，
[0110]-30%的氰酸钠，
[0111]-25%的碳酸钠，
[0112]如在实施例1中一样，该处理使得能够获得最终粗糙度为Ra=0.25 ym(仅略大于Ra=0.2 μ m的初始粗糙度,相比之下在标准浴(不符合本发明)中的Ra=0.52 μ m。
[0113]在本发明浴中形成的铁的氮化物层是ε (Fe2^3N)类型的，其孔隙率小于5% (通过光学显微镜法测量)且硬度为840+ / -40HVQ.Q1。
[0114]在标准浴(不符合本发明)中形成的铁的氮化物层是ε (Fe2^3N)类型的，其孔隙率为25-35% (通过光学显微镜法测量)且硬度为700+ / -40HVa(ll。利用标准浴获得的层的较低表观硬度可解释为是由其较大的孔隙率所导致的。这是因为，众所周知，孔隙(即孔洞)的存在降低了层对于硬度测量所用压头进入的抵抗力。[0115]在这两种情况下，所形成的层的厚度为10+ / -1um0
[0116]实施例7 (符合本发明)
[0117]对初始粗糙度Ra=0.74 μ m的通过冷冲压加工然后经过超频淬火的C45样品进行氮化(在与实施例1类似的制备之后)，所述氮化在与实施例1相同的浴中在590°C下进行两小时，所述浴包含:
[0118]-28%的氰酸钠，
[0119]-22%的碳酸钠，
[0120]-45%的氯化钾，
[0121]-5%的碳酸锂。
[0122]形成20+ / -1 μ m的层，最终粗糙度Ra=0.79 μ m。比较之下，在标准浴(不符合本发明)中在相同持续时间即两小时处理的相同样品所具有的层对于17+ / -1ym厚度的层来说为Ra=L 23 μ m的最终粗糙度。
[0123]根据本发明获得的氮化物层的孔隙率为5% _10%，而利用标准浴获得的氮化物层的孔隙率为55-65%。已知的是，经过冷冲压的钢具有高的冷加工变形率，这对层孔隙率具有不利的影响(冷加工变形率越高，层越多孔)。本发明能够获得具有低孔隙率的层，即使是对于经过强冷变形的钢来说。
[0124]如此氮化的样品然后在包含碱金属的硝酸盐、氢氧化物和碳酸盐的熔融盐浴中氧化。这种氧化的目的是通过形成厚度为1-3 μ m的铁氧化物层而使氮化物层的表面钝化。在氧化之后，元件被浸入到抗腐`蚀的保护油中(包含腐蚀抑制剂)，正如在氮化方法中所使用的。
[0125]根据本发明处理的样品的耐腐蚀性(按照标准IS09227在中性盐雾中对10个元件进行测量)为310-650小时。
[0126]在标准浴中处理的样品的耐腐蚀性(按照标准IS09227在中性盐雾中对10个元件进行测量)为240-650小时。
[0127]实施例8 (符合本发明)
[0128]对初始粗糙度Ra=0.34 μ m的淬火-回火然后磨削的42CrMo4样品进行氮化(在与实施例1类似的制备之后)，如在实施例7中那样，即在与实施例1相同的浴中在590°C下两个小时，所述浴包含:
[0129]-28%的氰酸钠，
[0130]-22%的碳酸钠，
[0131]-45%的氯化钾，
[0132]-5%的碳酸锂。
[0133]形成16+ / -1 μ m的铁的氮化物层，最终粗糙度Ra=0.44 μ m。比较之下，在标准浴(不符合本发明)中处理两小时的相同样品所具有的铁氮化物层对于14+ / -1ym厚度的层来说为Ra=0.85 μ m的最终粗糙度。
[0134]在本发明浴中形成的铁的氮化物层是ε (Fe2^3N)类型的，并且孔隙率小于5% (通过光学显微镜法测量)且硬度为1020+ / -40HV0.01o
[0135]在标准浴中形成的铁的氮化物层是ε (Fe2^3N)类型的，其孔隙率为30_40% (通过光学显微镜法测量)且硬度为830+ / -40HVa(ll。利用标准浴获得的层的较低的表观硬度可解释为是由其较大的孔隙率所导致的。这是因为，众所周知，孔隙(即孔洞)的存在降低了层对于硬度测量所用压头进入的抵抗力。
[0136]实施例9 (符合本发明)
[0137]如实施例1中一样制备和氮化初始粗糙度Ra=0.20 μ m的退火的C45样品，也即在580°C下在下述浴中氮化I小时，所述浴包含:
[0138]-28%的氰酸钠，
[0139]-22%的碳酸钠，
[0140]-45%的氯化钾，
[0141]-5%的碳酸锂。
[0142]形成10+ / -1 μ m的层,最终粗糙度Ra=0.25 μ m。比较之下,在利用高氰化物比率(5.2%)实施的标准浴(不符合本发明)中处理三小时的相同样品所具有的层对于7+ / -1ym厚度的层来说为Ra=0.27 μ m的最终粗糙度。
[0143]因而可以看出，对于相同的最终粗糙度，即便处理时间较长，在具有高氰化物比率的标准浴中获得的层的厚度低于在本发明浴中所获得的层厚度。这可由以下的事实解释:除了被较多污染以外，具有高氰化物含量的浴还是渗碳的，也即碳将与氮一起扩散到钢中。而在扩散时碳和氮是竞争性的，因为它们在铁晶格中占据相同的位置。碳的存在因而限制了氮的扩散，这导致了厚度较小的层。
[0144]如上所指出的，在上述实施例中指出的组成限定的是新浴，明确的是对于氰根离子的含量指示值是相当于使用时的，这考虑了在氮化时发生的多种反应(因而尽力地尽可能将浴组成保持稳定)。`
【权利要求】
1.用于氮化钢质机械元件的熔融盐浴，其基本上由以下物质构成(含量以重量表示): -25至60%的碱金属氯化物， -10至40 %的碱金属碳酸盐，和 -20至50 %的碱金属氰酸盐， -最多3%的氰根离子， 含量总和为100%。
2.权利要求1的熔融盐浴，其中碱金属氯化物是氯化锂、氯化钠和/或氯化钾。
3.权利要求1或2的熔融盐浴，其中碱金属氯化物的含量为40-50%。
4.权利要求3的熔融盐浴，其中碱金属氯化物的含量至少大约等于45%。
5.权利要求1-4中任一项的熔融盐浴,其中碱金属氰酸盐的含量为20-40%。
6.权利要求5的熔融盐浴，其中碱金属氰酸盐的含量为25-30%。
7.权利要求1-6中任一项的熔融盐浴，其中碱金属碳酸盐的含量为20-30%。
8.权利要求7的熔融盐浴，其中碱金属碳酸盐的含量为25-30%。
9.权利要求1或2的熔融盐浴，其基本上由以下物质构成: -25至30%的氰酸钠， -25至30%的碳酸钠和碳酸锂， -40至50%的氯化钾， -最多3%的氰根离子， 含量总和为100%。
10.权利要求9的熔融盐浴，在形成最高达3%的氰根离子之前，该熔融盐浴基本上由以下物质构成: -28%的氰酸钠， -22%的碳酸钠， -5%的碳酸锂， -45%的氯化钾，
11.铁或钢质机械元件的氮化方法，其中将这些元件浸入在530°C_650°C的温度下的具有上述组成的浴中至多4小时。
12.权利要求11的方法，其中所述元件被浸入到570°C-590°C的温度下的浴中至多2小时。
13.通过权利要求11和12任一项的方法获得的氮化的钢质机械元件，其不需要任何后续机械精加工方法如抛光。
【文档编号】C23C8/50GK103502501SQ201280010718
【公开日】2014年1月8日 申请日期:2012年3月7日 优先权日:2011年3月11日
【发明者】H·沙瓦纳, P·莫兰-佩里耶 申请人:H.E.F.公司