1.一种沉积用掩模制造装置，利用激光在配置于载物台的掩模母材上加工图案孔，所述沉积用掩模制造装置包括：
激光振荡部，振荡出所述激光；
分光部，使从所述激光振荡部振荡出的所述激光分为多个激光束；
扫描器，调节经过所述分光部的所述多个激光束的照射方向；和
光学镜，配置于所述扫描器与所述掩模母材之间，以使经过所述扫描器的所述多个激光束中的至少一部分透射。
2.根据权利要求1所述的沉积用掩模制造装置，其中，
进一步包括静电吸盘，所述静电吸盘配置于所述载物台与所述掩模母材之间且用于吸附所述掩模母材。
3.根据权利要求1所述的沉积用掩模制造装置，其中，进一步包括：
摄像部，用于监测所述光学镜和所述掩模母材的位置；和
驱动部，通过使所述光学镜和所述掩模母材中的至少一个移动，对所述光学镜和所述掩模母材的位置进行对齐。
4.根据权利要求3所述的沉积用掩模制造装置，其特征在于，
在所述光学镜上形成有第一标记，
在所述掩模母材上形成有第二标记，所述第二标记被形成为与所述第一标记的形状相对应，
所述驱动部通过使所述光学镜和所述掩模母材中的至少一个移动，对所述第一标记和所述第二标记的位置进行对齐。
5.根据权利要求1所述的沉积用掩模制造装置，其特征在于，
经过所述扫描器的所述多个激光束基本上垂直于所述掩模母材而照射。
6.根据权利要求1所述的沉积用掩模制造装置，其中，
所述光学镜包括：
透射层，用于使所述多个激光束中的一部分透射；和
反射层，用于使所述多个激光束中的一部分反射，
所述反射层包括与所述图案孔的形状相对应形成的开口部。
7.根据权利要求6所述的沉积用掩模制造装置，其中，
所述透射层包括石英和玻璃中的至少一个。
8.根据权利要求6所述的沉积用掩模制造装置，其中，
所述反射层包括不透明金属。
9.根据权利要求6所述的沉积用掩模制造装置，其中，
所述开口部的角部的曲率半径小于所述多个激光束的半径。
10.一种沉积用掩模制造方法，包括以下步骤：
在载物台与分光部之间配置掩模母材，所述分光部用于使从激光振荡部振荡出的激光分为多个激光束；
在所述掩模母材与所述分光部之间配置光学镜，所述光学镜用于使所述多个激光束中的至少一部分透射；以及
通过扫描器向由所述光学镜露出的所述掩模母材的一部分照射所述多个激光束，从而在所述掩模母材上加工图案孔，所述扫描器用于调节经过所述分光部的所述多个激光束的照射方向。
11.根据权利要求10所述的沉积用掩模制造方法，其中，
在所述掩模母材与所述分光部之间配置所述光学镜的步骤包括以下步骤：
对形成在光学镜的第一标记和形成在掩模母材的第二标记的位置进行对齐。
12.根据权利要求10所述的沉积用掩模制造方法，其特征在于，
所述图案孔以逐渐变细的方式形成。
13.根据权利要求10所述的沉积用掩模制造方法，其中，
进一步包括静电吸盘，所述静电吸盘配置于所述载物台与所述掩模母材之间且用于吸附所述掩模母材。
14.根据权利要求10所述的沉积用掩模制造方法，其中，进一步包括：
摄像部，用于监测所述光学镜和所述掩模母材的位置；和
驱动部，通过使所述光学镜和所述掩模母材中的至少一个移动，对所述光学镜和所述掩模母材进行对齐。
15.根据权利要求14所述的沉积用掩模制造方法，其特征在于，
在所述光学镜上形成有第一标记，
在所述掩模母材上形成第二标记，所述第二标记被形成为与所述第一标记的形状相对应，
所述驱动部通过使所述光学镜和所述掩模母材中的至少一个移动，对所述第一标记和所述第二标记的位置进行对齐。
16.根据权利要求10所述的沉积用掩模制造方法，其特征在于，
经过所述分光部的所述激光束基本上垂直于所述掩模母材而照射。
17.根据权利要求10所述的沉积用掩模制造方法，其中，
所述光学镜包括：
透射层，用于使所述多个激光束中的一部分透射；和
反射层，用于使所述多个激光束中的一部分反射，
所述反射层包括与所述图案孔的形状相对应形成的开口部。
18.根据权利要求17所述的沉积用掩模制造方法，其中，
所述透射层包括石英和玻璃中的至少一个。
19.根据权利要求17所述的沉积用掩模制造方法，其中，
所述反射层包括不透明金属。
20.根据权利要求17所述的沉积用掩模制造方法，其特征在于，
所述开口部的角部的曲率半径小于所述多个激光束的半径。