1.一种用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：包括真空传输装置(1)、沿真空传输装置(1)的传输方向依次布置的上料操作台(2)、第一上料室(3)、用于在硅片背面沉积氧化铝膜层的第一镀膜装置(4)、第二上料室(5)、用于在硅片背面沉积氮化硅膜层的第二镀膜装置(6)、第三上料室(7)、用于在硅片正面沉积氮化硅膜层的第三镀膜装置(8)和下料室(9)，所述下料室(9)与所述上料操作台(2)之间设有下料回框装置(10)，所述第一上料室(3)一侧与上料操作台(2)之间设有隔离阀(100)，第一上料室(3)另一侧与第一镀膜装置(4)之间设有隔离阀(100)，所述第二上料室(5)一侧与第一镀膜装置(4)之间设有隔离阀(100)，第二上料室(5)另一侧与第二镀膜装置(6)之间设有隔离阀(100)，所述第三上料室(7)一侧与第二镀膜装置(6)之间设有隔离阀(100)，第三上料室(7)另一侧与第三镀膜装置(8)之间设有隔离阀(100)，所述下料室(9)一侧与所述第三镀膜装置(8)之间设有隔离阀(100)，下料室(9)另一侧与所述下料回框装置(10)之间设有隔离阀(100)。
2.根据权利要求1所述的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：所述第一镀膜装置(4)包括沿真空传输装置(1)的传输方向依次连通的第一预热室(41)、第一镀膜室(42)以及第一冷却室(43)，所述第二镀膜装置(6)包括沿真空传输装置(1)的传输方向依次连通的第二预热室(61)、第二镀膜室(62)以及第二冷却室(63)，所述第三镀膜装置(8)包括沿真空传输装置(1)的传输方向依次连通的第三预热室(81)、第三镀膜室(82)以及第三冷却室(83)，所述第一上料室(3)、第二上料室(5)、第三上料室(7)和下料室(9)均配备了第一真空组件(200)和电控柜(300)，所述第一镀膜装置(4)、第二镀膜装置(6)和第三镀膜装置(8)均配备了电控柜(300)、第二真空组件(400)和气路水路组件(500)。
3.根据权利要求2所述的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：所述第一真空组件(200)、电控柜(300)、第二真空组件(400)和气路水路组件(500)均位于所述真空传输装置(1)同一侧，所述第一镀膜装置(4)的电控柜(300)位于第一镀膜装置(4)的气路水路组件(500)与真空传输装置(1)之间；所述第二镀膜装置(6)的电控柜(300)位于第二镀膜装置(6)的气路水路组件(500)与真空传输装置(1)之间；所述第三镀膜装置(8)的电控柜(300)位于第三镀膜装置(8)的气路水路组件(500)与真空传输装置(1)之间。
4.根据权利要求2所述的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：所述第一真空组件(200)的抽气速度大于所述第二真空组件(400)的抽气速度。
5.根据权利要求1所述的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：当打开第一上料室(3)与上料操作台(2)之间的隔离阀(100)时，第一上料室(3)内的压力比大气压力高50Pa以上；当打开下料室(9)与下料回框装置(10)之间的隔离阀(100)时，下料室(9)内的压力比大气压力高50Pa以上。
6.根据权利要求1所述的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：当打开第一上料室(3)与第一镀膜装置(4)之间的隔离阀(100)时，第一上料室(3)内的压力比第一镀膜装置(4)内的压力大50Pa～200Pa；当打开第二上料室(5)与第一镀膜装置(4)之间的隔离阀(100)时，第二上料室(5)内的压力比第一镀膜装置(4)内的压力大50Pa～200Pa，当打开第二上料室(5)与第二镀膜装置(6)之间的隔离阀(100)时，第二上料室(5)内的压力比第二镀膜装置(6)内的压力大50Pa～200Pa；当打开第三上料室(7)与第二镀膜装置(6)之间的隔离阀(100)时，第三上料室(7)内的压力比第二镀膜装置(6)内的压力大50Pa～200Pa，当打开第三上料室(7)与第三镀膜装置(8)之间的隔离阀(100)时，第三上料室(7)内的压力比第三镀膜装置(8)内的压力大50Pa～200Pa；当打开下料室(9)与第三镀膜装置(8)之间的隔离阀(100)时，下料室(9)内的压力比第三镀膜装置(8)内的压力大50Pa～200Pa。
7.根据权利要求1所述的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：所述隔离阀(100)为门闸阀。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：所述真空传输装置(1)包括用来承载硅片的载板(11)及用来传送载板(11)的多根传动轴(12)，多根传动轴(12)平行布置，所述第一镀膜装置(4)、第二镀膜装置(6)和第三镀膜装置(8)均于传动轴(12)上侧设有用来在硅片正面沉积膜层的上激励源安装部(600)，所述第一镀膜装置(4)、第二镀膜装置(6)和第三镀膜装置(8)均于传动轴(12)下侧设有用来在硅片背面沉积膜层的下激励源安装部(700)，所述上激励源安装部(600)和所述下激励源安装部(700)相对布置。
9.根据权利要求8所述的用于PERC电池的链式PECVD镀膜系统，其特征在于：所述第一镀膜装置(4)、第二镀膜装置(6)和第三镀膜装置(8)上均设有用来观察所述上激励源安装部(600)和所述下激励源安装部(700)的观察窗(800)。