一种真空式清洗抛光机的制作方法

本实用新型涉及一种抛光机，具体涉及一种真空式清洗抛光机，属于机械领域。

背景技术：

抛光机是一种应用很广泛的机械，在电动机带动下高速旋转，用旋转面与待抛光物体接触，进行研磨、抛光和打蜡操作，抛光机原理简单，不涉及化学变化，且工作效率高、工作状态稳定，办公场所中的擦鞋器、工业中的钣金以及洗车中的打蜡都有应用，根据使用场所的不同，采用不同的固定器对被抛光物体进行固定。

但是现阶段的抛光机存在一些问题，采用夹持方式紧固被抛光物体的抛光机存在因为告诉接触下摩擦力大的原因使被抛光物体变形的缺点，同时高速旋转状态下抛光机的性能难以稳定保持，对金属物品进行抛光操作时，由于金属的硬度较大，抛光器高速旋转下容易发生温度急剧上升的情况，火星飞溅对周围环境造成破坏。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题克服现有的缺陷，提供一种液体专 用紫外线杀菌器，可以有效解决背景技术中的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：

本实用新型提供一种真空式清洗抛光机，包括真空泵箱体、底座、支撑臂、滑道、抛光机、动力轴、轴控制器、抛光台、载物台、真空吸附盘、转速调节器、抛光启动器、真空表、真空启动器、电机和真空泵，所述真空泵箱体下侧与底座一体成型，且真空泵箱体上侧与支撑臂焊接，所述支撑臂左侧通过滑道与抛光机连接，所述抛光机通过动力轴与轴控制器连接，且抛光机下侧与抛光台法兰连接，所述真空泵箱体上侧通过载物台与真空吸附盘连接，所述支撑臂前表面与转速调节器转动连接，且支撑臂前表面与抛光启动器固定连接，所述真空泵箱体前边面与真空表和真空启动器固定连接，且真空泵箱体内部安装有电机，所述电机与真空泵法兰连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述轴控制器采用液压升降原理，可以上下移动50cm。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述真空吸附盘表层采用合成橡胶材料作为吸附密封层。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述支撑臂设计为实心钢壁梁结构。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述载物台下侧设置有紧 固器。

本实用新型所达到的有益效果是：一种真空式清洗抛光机，采用真空吸附盘对被抛光物体进行紧固，对被抛光物体产生的剪应力和压应力小，降低对被抛光物体造成的形变，保证被抛光物体的原应力结构稳定，同时本装置重量较大，性能稳定，能对大型物体进行抛光，且根据被抛光物体不同调整拍光台转速和真空泵压力，适应能力强。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。

在附图中：

图1是本实用新型实施例所述的一种真空式清洗抛光机整体结构示意图；

图2是本实用新型实施例所述的真空泵箱体内部结构示意图；

图中标号：1、真空泵箱体；2、底座；3、支撑臂；4、滑道；5、抛光机；6、动力轴；7、轴控制器；8、抛光台；9、载物台；10、真空吸附盘；11、转速调节器；12、抛光启动器；13、真空表；14、真空启动器；15、电机；16、真空泵。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

实施例：请参阅图1和图2，一种真空式清洗抛光机，包括真空泵箱体1、底座2、支撑臂3、滑道4、抛光机5、动力轴6、轴控制器7、抛光台8、载物台9、真空吸附盘10、转速调节器11、抛光启动器12、真空表13、真空启动器14、电机15和真空泵16，所述真空泵箱体1下侧与底座2一体成型，且真空泵箱体1上侧与支撑臂3焊接，所述支撑臂3左侧通过滑道4与抛光机5连接，所述抛光机5通过动力轴6与轴控制器7连接，且抛光机5下侧与抛光台8法兰连接，所述真空泵箱体1上侧通过载物台9与真空吸附盘10连接，所述支撑臂3前表面与转速调节器11转动连接，且支撑臂3前表面与抛光启动器12固定连接，所述真空泵箱体1前边面与真空表13和真空启动器14固定连接，且真空泵箱体1内部安装有电机15，所述电机15与真空泵16法兰连接。

所述轴控制器7采用液压升降原理，可以上下移动50cm，轴控制器7上下移动带动抛光机5改变与真空吸附盘10的距离，根据被抛光物体的不同，使用不同的距离，增加系统的适用范围；所述真空吸附盘10表层采用合成橡胶材料作为吸附密封层，合成橡胶具有天然橡胶耐磨损、密封性好的优势，同时避免了天然橡胶不耐高温的缺 点，保证真空吸附盘10密封性好的同时防止高温下真空吸附盘10发生形变；所述支撑臂3设计为实心钢臂梁结构，增加支撑臂3的重量，保证支撑臂3的强度的同时维持系统的重心，防止当被抛光物体重量较大时系统稳定性下降；所述载物台9下侧设置有紧固器，当紧固器处于紧固状态时载物台9固定不可动，当紧固器处于卸载状态时，载物台9可以360°旋转，根据被抛光物品所需要抛光的角度不同，改变载物台9的角度，提高系统的工作能力。

需要说明的是，本实用新型为一种真空式清洗抛光机，电机15带动真空泵16工作将真空吸附盘10处空气抽出，当将被抛光物体安置在真空吸附盘10时，真空吸附盘10形成负压，被抛光物体被固定，改变动力轴6上下伸缩的距离，使抛光台8上升或者下降与被抛光物品接触，实现抛光目的，转速调节器11可以改变抛光器5的转速，真空变13显示真空吸附盘10处的压力值，根据不同需求启动或者停止真空启动器14可以改变压力值。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。