技术总结
本实用新型涉及显示技术领域，特别涉及一种坩埚和蒸发装置。该蒸发装置包括加热装置和坩埚。该坩埚包括一端设有开口的埚体，所述埚体的内部具有与所述开口连通的腔体；沿所述埚体的延伸方向，靠近所述开口的所述腔体内设有间隔分布的至少两个隔板；所述至少两个隔板中，每个隔板设有贯穿其厚度的至少一个第一通孔，每相邻的两个隔板的第一通孔呈交错分布。该坩埚在蒸镀过程中蒸发速率稳定，能够提高蒸镀膜层的均匀性。
技术研发人员：关立伟
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
文档号码：201620776889
技术研发日：2016.07.21
技术公布日：2016.12.28