技术总结
本发明涉及一种用于容纳片状衬底(3)以用于在呈等离子体CVD系统(PECVD)形式的处理装置中对衬底进行处理的设备，其中每个衬底具有前侧以及与该前侧相反的背侧，该设备包括至少一个用于容纳并固定该衬底(3，3’)的容纳设备(5，5’)，其中该容纳设备具有至少两个、尤其多个容纳区域(7)，其中，在每个容纳区域中安排有或可安排至少两个衬底(3，3’)，其中第一衬底(3)的背侧与第二衬底(3’)的背侧可直接贴靠或处于直接贴靠，并且其中至少两个容纳区域(5)尤其几乎彼此平行地安排并且借助于绝缘的连接元件(19)而彼此相连接，并且其中这些平行的容纳区域(5)与高频发生器的不同极性的输出端交替地可连接或相连接。
技术研发人员：克劳斯·东克尔
受保护的技术使用者：韩华QCELLS有限公司
技术研发日：2016.07.08
技术公布日：2018.08.03