1.用于利用等离子体发生器(1)施加涂层到基质表面上的设备，所述等离子体发生器包括用于通过在工作气体中放电来产生大气等离子体射束的阳极(5)和阴极(2)，其中，所述等离子体发生器(1)具有用于等离子体射束的排出通道(4)，该排出通道通过流出开口(9)朝周围大气敞开，排出到周围大气中的等离子体射束的流出区域(14)连接到该流出开口上，并且设有输送装置，该输送装置具有用于给输送装置供应涂层材料的入口侧和用于将涂层材料引入到等离子体射束中的出口侧，其特征在于，所述输送装置在入口侧与用于涂层材料的汽化器(15)连接并且在出口侧具有用于气态涂层材料的排出开口(16)，所述排出开口指向流出区域(14)中。
2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述输送装置设计为至少一个输送管(13)，该输送管固定在等离子体发生器(1)上的支架(12)上。
3.如权利要求2所述的设备，其特征在于，所述输送管(13)可调节地固定在支架(12)上。
4.如权利要求2或3所述的设备，其特征在于，涂层材料的通过输送管(13)的纵轴线限定的输送方向设置为与等离子体气体的通过排出通道(4)的纵轴线限定的流出方向成锐角(α)。
5.如权利要求1至4中任一项所述的设备，其特征在于，所述工作气体为惰性工作气体。