技术总结
本发明涉及一种用于利用等离子体发生器(1)施加涂层到基质表面上的设备，所述等离子体发生器包括用于通过在工作气体中放电来产生大气等离子体射束的阳极(5)和阴极(2)，其中，所述等离子体发生器(1)具有用于等离子体射束的排出通道(4)，该排出通道通过流出开口(9)朝周围大气敞开，排出到周围大气中的等离子体射束的流出区域(14)连接到该流出开口上，并且设有输送装置，该输送装置具有用于给输送装置供应涂层材料的入口侧和用于将涂层材料引入到等离子体射束中的出口侧。规定，所述输送装置在入口侧与用于涂层材料的汽化器(15)连接并且在出口侧具有用于气态涂层材料的排出开口(16)，所述排出开口指向流出区域(14)中。借助涂层材料注入到等离子体射束中的在位置方面可调节性，在此尤其是能实现将涂层的功能特性设计得更均匀并且更良好可控。
技术研发人员：F·佩森多费尔
受保护的技术使用者：茵诺康技术有限公司
技术研发日：2016.10.25
技术公布日：2018.08.03