技术特征：
技术总结
提供一种能够控制对基板实施的处理的面内分布的气体导入机构和处理装置。气体导入机构是为了在处理容器内使用预定的气体对基板实施预定的处理而设于所述处理容器的，具有：歧管，其配置于所述处理容器的下端部，具有：喷射器支承部，其沿着所述处理容器的内壁面上下延伸，并且具有喷射器能够插入且能够外嵌支承该喷射器的插入孔；气体导入部，其从所述喷射器支承部向外侧伸出，在内部具有将所述插入孔和所述处理容器的外部连通而气体可流通的气体流路；喷射器，其插入所述插入孔，沿着所述内壁面整体呈直线状延伸，并且，在插入到所述插入孔的部位具有与所述气体流路连通的开口；旋转机构，其与所述喷射器的下端部连接，使所述喷射器旋转。
技术研发人员：福岛讲平;似鸟弘弥
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2017.09.27
技术公布日：2018.04.03