本发明涉及一种粗化浸镀子槽。
背景技术：
粗化表面是相对于光滑表面而言，金属表面的粗化是采用化学物理的方法将金属表面原有的光滑表面变成粗糙表面。一般是采用化学处理的方法对金属表面进行粗糙化处理，同时这个粗糙化是指表面的微粗糙化。在金属蚀刻中金属表面进行微粗糙化处理的目的是为了提高不锈钢金属材料对表面防蚀材料的附着力，这在铜以及铜合金产品表面运用的比较多，其他金属则较少采用，因为铜比较容易变色和生锈，不锈钢则一般不容易变色生锈。对于铜以及铜合金而言，在进行防蚀处理时，若能在表面进行微粗化处理，可明显提高金属表面的真实面积，进而提高铜表面对防蚀层的粘附性能。而现有粗化工艺只能双面粗化，无法实现单面粗化工艺。
技术实现要素：
本发明的目的在于克服上述不足，提供一种能同时实现双面粗化和单面粗化工艺的粗化浸镀子槽。
本发明的目的是这样实现的：
一种粗化浸镀子槽，它包括矩形的槽体，槽体的前端和后端外侧均设置有一个堰口，堰口的内侧设置有两下紧贴的两根铁氟龙的挡水棒，所述槽体的右外壁中部设置上水盒，所述槽体的右外壁前后两端设置上导电块，所述槽体的前后两端的顶部分别设置有横向布置的横板，每块横板上开设有两个横向的腰圆槽，每个腰圆槽内通过蝶型螺母向下连接有连接杆，连接杆的下端连接有锁紧块，锁紧块紧贴槽体的左右两个内侧壁，锁紧块具有一个开口向内的锁紧槽，位于槽体同一侧的两个锁紧块的锁紧槽之间嵌置有玻璃棒，玻璃棒上方的槽体的左右两个内侧壁上开设有与玻璃棒平行的一排上水孔，上水孔与上水盒连通，槽体内设置有水平布置的双层镀金铂金钛网，双层镀金铂金钛网位于玻璃棒下方；所述槽体的左侧外壁下边缘的前段和后段上分别设置有一个螺栓座，每个螺栓座上均有一个向下穿设的调节螺栓，调节螺栓的顶部设置有旋钮，两个调节螺栓上螺纹套装有同一块溢流板，所述溢流板紧靠槽体的左侧外壁。
作为一种优选，堰口的材质为pp材料。
作为一种优选，玻璃棒的直径为10mm。
作为一种优选，双层镀金铂金钛网的间距为25mm。
作为一种优选，所述槽体的左侧外壁前端和后端分别设置有一块和槽体有间隙的挡板，前后两个挡板和槽体之间形成前后两个导向槽，所述溢流板的前端和后端分别嵌置于两个导向槽内。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明粗化浸镀子槽具有能同时实现双面粗化和单面粗化工艺的优点。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
其中：
槽体1、堰口2、挡水棒3、上水盒4、导电块5、横板6、蝶型螺母7、连接杆8、锁紧块9、玻璃棒10、上水孔11、双层镀金铂金钛网12、螺栓座13、调节螺栓14、旋钮15、溢流板16、挡板17。
具体实施方式
参见图1，本发明涉及的一种粗化浸镀子槽，它包括矩形的槽体1，槽体1的前端和后端外侧均设置有一个pp材质的堰口2，堰口2的内侧设置有两下紧贴的两根铁氟龙的挡水棒3，所述槽体1的右外壁中部设置上水盒4，所述槽体1的右外壁前后两端设置上导电块5，所述槽体1的前后两端的顶部分别设置有横向布置的横板6，每块横板6上开设有两个横向的腰圆槽，每个腰圆槽内通过蝶型螺母7向下连接有连接杆8，连接杆8的下端连接有锁紧块9，锁紧块9紧贴槽体1的左右两个内侧壁，锁紧块9具有一个开口向内的锁紧槽，位于槽体1同一侧的两个锁紧块9的锁紧槽之间嵌置有直径为10mm的玻璃棒10，玻璃棒10上方的槽体1的左右两个内侧壁上开设有与玻璃棒10平行的一排上水孔11，上水孔11与上水盒4连通，槽体1内设置有水平布置的双层镀金铂金钛网12，双层镀金铂金钛网12的间距为25mm，双层镀金铂金钛网12位于玻璃棒10下方；所述槽体1的左侧外壁下边缘的前段和后段上分别设置有一个螺栓座13，每个螺栓座13上均有一个向下穿设的调节螺栓14，调节螺栓14的顶部设置有pvc的旋钮15，两个调节螺栓14上螺纹套装有同一块溢流板16，所述溢流板16紧靠槽体1的左侧外壁，所述槽体1的左侧外壁前端和后端分别设置有一块和槽体1有间隙的挡板17，前后两个挡板17和槽体1之间形成前后两个导向槽，所述溢流板16的前端和后端分别嵌置于两个导向槽内。通过调节旋钮15可以调节溢流板16的高度，从而控制槽体1内的液面高度。
工作原理：
通过水泵将母槽中药液打入上水盒；
溶液通过上水盒从槽体侧面的上水孔进入槽体内；
槽体中的双层镀金铂金钛网与溶液接触，起导电作用。镀金铂金钛网为上下双层，2层上下间隔25mm，此设计可有效防止镀铂金钛网电极表面钝化，影响导电效果。
通过旋钮调节溢流板高度，控制槽体内溶液液位。可调节药液与框架单面接触、双面接触。
通过横板上的旋钮，调节玻璃棒位置。玻璃棒起遮蔽电流作用，可防止框架两侧电流密度高于框架中间导致的电镀不均匀。
pp堰口支撑铁氟龙挡水棒。框架从槽体两端挡水棒中间穿过，挡水棒为圆柱状，表面光滑、转动灵活，可有效防止框架表面划伤。
导电块通过导电与整流器电源连接。
以上仅是本发明的具体应用范例，对本发明的保护范围不构成任何限制。凡采用等同变换或者等效替换而形成的技术方案，均落在本发明权利保护范围之内。