1.一种金属纳米网络柔性玻璃的加工方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、采用磁控溅射法，以硅片为衬底，在硅片上制备SiO2薄膜作为牺牲层；
S2、采用磁控溅射法，在牺牲层上制备GZO薄膜、AZO薄膜或ZnO薄膜作为遮盖层；
S3、采用湿法刻蚀法，在遮盖层上滴加稀HNO3，腐蚀遮盖层得到颗粒间的裂缝并增宽裂缝；
S4、采用湿法刻蚀法，在S3腐蚀完成后再滴加HF，腐蚀颗粒间裂缝下面的SiO2薄膜；
S5、S4完成后将硅片置于磁控溅射腔室内，溅射生长出厚度为150～200nm的Ag金属薄膜；
S6、采用湿法剥离法， S5完成后复合薄膜使用稀HCl浸泡处理，去除遮盖层GZO薄膜；
S7、采用湿法剥离法，S6完成后复合薄膜使用HF浸泡处理，去除牺牲层SiO2薄膜，得到具有晶粒生长网络形状的金属Ag纳米网络；
S8、采用热压印方法，将S7得到的Ag纳米网络连续化无损转移至薄膜太阳能电池玻璃基板，得到电子信息显示用玻璃。
2.根据权利要求1所述的一种金属纳米网络柔性玻璃的加工方法，其特征在于：所述S1中的硅片采用硅陶瓷靶材，磁控溅射时，采用Ar离子作为溅射气体，O2作为反应气体，射频电源作用于阴极，溅射功率为220-280W，工作压强为0.4-0.6Pa，靶电压为85-95V，衬底与靶材的间距为65-75mm，制备得到厚度为280-320nm的SiO2薄膜。
3.根据权利要求2所述的一种金属纳米网络柔性玻璃的加工方法，其特征在于：所述溅射功率为250W，工作压强为0.5Pa，靶电压为87V，衬底与靶材的间距为70mm，制备SiO2薄膜的厚度为300nm。
4.根据权利要求1所述的一种金属纳米网络柔性玻璃的加工方法，其特征在于：所述S2中采用GZO/AZO/ZnO陶瓷靶材，磁控溅射时，采用Ar离子作为溅射气体，直流电源作用于阴极，溅射功率为300～400W，工作压强为0.1-0.4Pa，靶电压为419～468V，衬底与靶材的间距为60-80mm，制备GZO薄膜、AZO薄膜或ZnO薄膜的厚度为450-550nm。
5.根据权利要求4所述的一种金属纳米网络柔性玻璃的加工方法，其特征在于：所述射功率为350W，工作压强为0.2Pa，靶电压为450V，衬底与靶材的间距为70mm，制备GZO薄膜、AZO薄膜或ZnO薄膜的厚度为500nm。
6.根据权利要求1所述的一种金属纳米网络柔性玻璃的加工方法，其特征在于：所述S5中采用Ag金属靶材，用Ar离子做为溅射气体，以射频电源作用于阴极，工作压强为0.3-0.4Pa，溅射功率为100W～200W，靶电压为54～78V。
7.根据权利要求6所述的一种金属纳米网络柔性玻璃的加工方法，其特征在于：所述S5中溅射的工艺参数为：工作压强为0.35Pa，溅射功率为150W，靶电压为65V，溅射生长出Ag金属薄膜的厚度为180nm。
8.根据权利要求1所述的一种金属纳米网络柔性玻璃的加工方法，其特征在于：所述S8将涂有EVA光学胶厚度为1mm的PET柔性透明基底加热至60℃，用热压印方法将硅片上的金属纳米网络连续化无损转移至PET上，得到金属纳米网络透明导电玻璃。