本实用新型涉及研磨装置技术领域，尤其涉及一种化学机械研磨装置。
背景技术：
化学机械研磨，晶圆制造中，随着制程技术的升级、导线与栅极尺寸的缩小，光刻(Lithography)技术对晶圆表面的平坦程度的要求越来越高，IBM公司于1985年发展CMOS产品引入，并在1990年成功应用于64MB的DRAM生产中。1995年以后，CMP技术得到了快速发展，大量应用于半导体产业。化学机械研磨亦称为化学机械抛光，其原理是化学腐蚀作用和机械去除作用相结合的加工技术，是目前机械加工中唯一可以实现表面全局平坦化的技术。
现有技术中，研磨液供给管不能循环往复的运动，导致研磨效果不好，影响成品。
为此，我们提出了一种化学机械研磨装置，用来解决上述问题。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种化学机械研磨装置。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
一种化学机械研磨装置，包括工作台，所述工作台的内部设有驱动腔，所述驱动腔的内部设有第一驱动装置，所述第一驱动装置的输出轴末端固定连接有转动杆，所述转动杆的上端贯穿工作台并固定连接有研磨平板，所述研磨平板的上端设有研磨垫，所述工作台的上端两侧均设有支撑板，所述支撑板的上端设有滑杆，所述滑杆的上端固定有伸缩气缸，所述伸缩气缸的伸缩端贯穿滑杆并固定连接有第二驱动装置，所述第二驱动装置的输出轴末端固定连接有固定盘，所述固定盘的下端设有调节盘，所述调节盘的下端与研磨垫的表面相抵，所述滑杆上还套接有滑块，且滑块与滑杆滑动连接，所述滑杆的边缘处固定有固定块，所述滑块的侧壁上固定有移动杆，所述移动杆的一端贯穿固定块，且移动杆与固定块滑动连接，所述固定块的上端设有安装块，所述安装块的上端设有第三驱动装置，所述第三驱动装置的输出轴末端固定连接有圆盘，所述圆盘的边缘处固定有限位杆，所述限位杆上转动连接有活动杆，所述活动杆远离限位杆的一端转动连接在移动杆上，所述研磨垫的上端设有研磨头，所述研磨头的上端固定连接有驱动杆，所述驱动杆的上端设有第四驱动装置，且第四驱动装置的输出轴末端与驱动杆固定连接。
优选地，所述第二驱动装置的两侧均固定连接有导杆，所述导杆的上端均贯穿滑杆，且导杆滑动连接在滑杆上。
优选地，所述第一驱动装置、第二驱动装置、第三驱动装置和第四驱动装置均为伺服电机。
优选地，所述研磨平板为圆形结构。
优选地，所述滑块的侧壁上固定有研磨液供给管。
优选地，所述支撑板与工作台为一体成型。
本实用新型中，使用时，启动第三驱动装置，第三驱动装置带动圆盘转动，圆盘带动活动杆移动，活动杆带动移动杆在固定块上来回滑动，使得滑块可以来回滑动，进而使得研磨液供给管来回运动，实现动态供液，本实用新型结构简单，操作方便，可以动态供液，使得研磨更加充分，适合推广。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种化学机械研磨装置的结构示意图；
图2为图1中A-A向截面图。
图中：1工作台、2转动杆、3第一驱动装置、4支撑板、5延伸块、6调节盘、7固定盘、8研磨平板、9研磨垫、10研磨头、11驱动杆、12研磨液供给管、13第二驱动装置、14滑杆、15导杆、16 伸缩气缸、17滑块、18活动杆、19第三驱动装置、20圆盘、21安装块、22固定块、23移动杆。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1-2，一种化学机械研磨装置，包括工作台1，工作台的内部设有驱动腔，驱动腔的内部设有第一驱动装置3，第一驱动装置 3的输出轴末端固定连接有转动杆2，转动杆2的上端贯穿工作台1 并固定连接有研磨平板8，研磨平板8的上端设有研磨垫9，工作台 1的上端两侧均设有支撑板4，支撑板4的上端设有滑杆14，滑杆14 的上端固定有伸缩气缸16，伸缩气缸16的伸缩端贯穿滑杆14并固定连接有第二驱动装置13，第二驱动装置13的输出轴末端固定连接有固定盘7，固定盘7的下端设有调节盘6，调节盘6的下端与研磨垫9的表面相抵，滑杆14上还套接有滑块17，且滑块17与滑杆14 滑动连接，滑杆14的边缘处固定有固定块22，滑块17的侧壁上固定有移动杆23，移动杆23的一端贯穿固定块22，且移动杆23与固定块22滑动连接，使用时，启动第三驱动装置19，第三驱动装置19 带动圆盘20转动，圆盘20带动活动杆18移动，活动杆18带动移动杆23在固定块22上来回滑动，使得滑块17可以来回滑动，固定块 22的上端设有安装块21，安装块21的上端设有第三驱动装置19，第三驱动装置19的输出轴末端固定连接有圆盘20，圆盘20的边缘处固定有限位杆，限位杆上转动连接有活动杆18，活动杆18远离限位杆的一端转动连接在移动杆23上，研磨垫9的上端设有研磨头10，研磨头10的上端固定连接有驱动杆11，驱动杆11的上端设有第四驱动装置，且第四驱动装置的输出轴末端与驱动杆11固定连接。
本实用新型中，第二驱动装置的两侧均固定连接有导杆15，导杆15的上端均贯穿滑杆14，且导杆15滑动连接在滑杆14上。第一驱动装置3、第二驱动装置13、第三驱动装置19和第四驱动装置均为伺服电机。研磨平板8为圆形结构。滑块17的侧壁上固定有研磨液供给管12。支撑板4与工作台1为一体成型。
本实用新型中，使用时，启动第三驱动装置19，第三驱动装置 19带动圆盘20转动，圆盘20带动活动杆18移动，活动杆18带动移动杆23在固定块22上来回滑动，使得滑块17可以来回滑动，进而使得研磨液供给管12来回运动，实现动态供液。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。