技术总结
本实用新型公开了一种化学机械研磨装置，包括工作台，所述工作台的内部设有驱动腔，所述驱动腔的内部设有第一驱动装置，所述第一驱动装置的输出轴末端固定连接有转动杆，所述转动杆的上端贯穿工作台并固定连接有研磨平板，所述研磨平板的上端设有研磨垫，所述工作台的上端两侧均设有支撑板，所述支撑板的上端设有滑杆，所述滑杆的上端固定有伸缩气缸，所述伸缩气缸的伸缩端贯穿滑杆并固定连接有第二驱动装置，所述第二驱动装置的输出轴末端固定连接有固定盘，所述固定盘的下端设有调节盘，所述调节盘的下端与研磨垫的表面相抵。本实用新型结构简单，操作方便，可以动态供液，使得研磨更加充分，适合推广。
技术研发人员：隗阳
受保护的技术使用者：隗阳
技术研发日：2017.10.27
技术公布日：2018.08.17