一种首饰母合金用漩涡式研磨抛光设备的制作方法

本实用新型涉及抛光设备领域，特别是涉及一种首饰母合金用漩涡式研磨抛光设备。

背景技术：

对于首饰母合金的表面抛光处理的设备有多种，常用的有磁力抛光设备与振动抛光设备，磁力抛光设备是通过传导细小的研磨不锈钢针产生高速流动、掉头等动作，在母合金的内孔、表面摩擦，达到抛光、去除毛边的研磨效果，其缺点是成本很高、速度较慢；振动抛光设备是通过振动使磨料与母合金进行接触摩擦达到去除毛边的作用，其效率很低。

技术实现要素：

发明目的：为了克服现有技术中存在的不足，本实用新型提供一种利用液体磨料对母金属进行研磨、效率高、成本低的首饰母合金用漩涡式研磨抛光设备。

技术方案：为实现上述目的，本实用新型的首饰母合金用漩涡式研磨抛光设备包括机架，所述机架上设置有研磨结构，所述研磨结构包括研磨桶，所述研磨桶的底部设置有可相对其转动的，所述磨盘由设置在研磨桶下方的电机驱动转动；所述研磨桶的内壁上设有波浪状纹理，所述波浪状纹理由多个圆周阵列设置的、沿垂直方向延伸的条形凸起组成；所述磨盘整体呈盘状，其中间设有隆起，且其上表面上设置有多个沿径向延伸的凸棱。

进一步地，所述研磨结构可整体相对于所述机架转动，且转动轴水平。

进一步地，所述电机安装在电机座内，所述电机座相对于所述研磨桶固定，电机座上设置有转轴，所述机架上设置有与所述转轴配合使用的轴承座。

进一步地，所述电机座的下端设置有可相对于所述机架快速拆卸的快拆机构。

进一步地，所述快拆机构包括固定块，所述固定块上设置有条形孔，所述机架上设置有可相对于机架旋转的手拧转轴，所述手拧转轴的一端设置有可进出所述条形孔的固定块，所述固定块的宽度小于条形孔的宽度，固定块的长度大于条形孔的宽度。

进一步地，所述研磨桶的材质为聚氨酯。

进一步地，还包括控制箱，所述控制箱内设置有控制器，所述控制器通过变频器连接所述电机。

有益效果：本实用新型的首饰母合金用漩涡式研磨抛光设备利用液体磨料对母金属进行研磨，磨盘的转动以及研磨桶内壁的波浪状纹理可使液体磨料产生高速漩涡，使磨料中的固体物质与母合金发生高频率的接触，从而起到去毛刺、抛光的目的，成本低、效率高、研磨效果好。

附图说明

附图1为首饰母合金用漩涡式研磨抛光设备的正视图；

附图2为首饰母合金用漩涡式研磨抛光设备的俯视图；

附图3为首饰母合金用漩涡式研磨抛光设备的立体图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作更进一步的说明。

如附图1所示的首饰母合金用漩涡式研磨抛光设备，包括机架4，所述机架4上设置有研磨结构，所述研磨结构包括研磨桶1，所述研磨桶1的底部设置有可相对其转动的磨盘2，所述磨盘2由设置在研磨桶1下方的电机3驱动转动；所述研磨桶1的内壁上设有波浪状纹理，所述波浪状纹理由多个圆周阵列设置的、沿垂直方向延伸的条形凸起组成；所述磨盘2整体呈盘状，其中间设有隆起21，且其上表面上设置有多个沿径向延伸的凸棱22。工作时，在研磨桶1中注入液体磨料，液体磨料主要包括水以及粒径很小的固体颗粒，通过转动磨盘2可使液体磨料中的固体颗粒与被抛光的母合金进行高频接触，达到研磨母合金表面的目的，磨盘2上的隆起21以及研磨桶1内壁的波浪状纹理对形成漩涡、提高研磨效率具有很大的促进作用。所述研磨桶1的材质为聚氨酯。

为了方便研磨完成后将液体磨料与母合金倒出，所述研磨结构可整体相对于所述机架4转动，且转动轴水平。这样，研磨完成后，可将研磨结构整体翻转将里面的物质倒出，方便更换磨料。具体的，所述电机3安装在电机座6内，所述电机座6相对于所述研磨桶1固定，电机座6上设置有转轴61，所述机架4上设置有与所述转轴61配合使用的轴承座41。

为了方便研磨结构的整体翻转，所述电机座6的下端设置有可相对于所述机架4快速拆卸的快拆机构62。所述快拆机构62包括固定块621，所述固定块621上设置有条形孔，所述机架4上设置有可相对于机架4旋转的手拧转轴42，所述手拧转轴42的一端设置有可进出所述条形孔的固定块43，所述固定块43的宽度小于条形孔的宽度，固定块43的长度大于条形孔的宽度。快拆机构62不仅可以在研磨过程中使研磨结构稳定不会倾覆，而且在更换磨料过程中可以使磨料快速倒出。

还包括控制箱5，所述控制箱5内设置有控制器，所述控制器通过变频器连接所述电机3。控制器通过变频器可实现磨盘2的无极调速以及定时正反转，用户可根据母合金的大小以及母合金的属性灵活调节磨盘2的转速。

本实用新型的首饰母合金用漩涡式研磨抛光设备利用液体磨料对母金属进行研磨，磨盘的转动以及研磨桶内壁的波浪状纹理可使液体磨料产生高速漩涡，使磨料中的固体物质与母合金发生高频率的接触，从而起到去毛刺、抛光的目的，成本低、效率高、研磨效果好。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出：对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。