本实用新型涉及不锈钢加工装置技术领域，具体为高精度CMP不锈钢抛光装置。
背景技术：
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。但是在工业生产中，CMP抛光的精度往往成为应该这项技术最大的难度，抛光出来的产品经常质量良莠不一成为了人们的困扰。
所以，如何设计高精度CMP不锈钢抛光装置，成为我们当前要解决的问题。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供高精度CMP不锈钢抛光装置，以解决上述背景技术中提出CMP不锈钢抛光精度低的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：高精度CMP不锈钢抛光装置，包括机械抛光室和化学抛光室，所述机械抛光室和化学抛光室之间设置有工作传输轨道，所述工作传输轨道起始段设置有传输电机，所述机械抛光室内部设置有抛光轮，所述抛光轮上方安装有驱动电机，所述机械抛光室末端外侧设置有吸尘设备，所述化学抛光室上方安装有化学抛光液储存罐和蒸馏水储存罐，所述化学抛光液储存罐和蒸馏水储存罐下方均设置有液体喷头，所述化学抛光液储存罐以及蒸馏水储存罐与所述液体喷头之间通过管道相连接，所述化学抛光室底部设置有废弃抛光液存放池。
进一步的，所述传输电机和所述驱动电机均为三相异步变频电机，所述传输电机型号为90L-8，所述驱动电机型号为YVF2-71M2。
进一步的，所述吸尘设备包括吸尘器和管道，所述吸尘设备采用透浦式强力吸风机，所述管道四周设置有密封胶条。
进一步的，所述化学抛光液储存罐和蒸馏水储存罐下端均设置有调节阀门，所述液体喷头喷口处设置有喷速调节器。
进一步的，所述化学抛光液储存罐内部存放有过氧化氢或氢氟酸，所述化学抛光液储存罐采用PVC塑料制作而成。
进一步的，所述废弃抛光液存放池的容积为10L，所述废弃抛光液存放池采用PVC塑料制作而成。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该种高精度CMP不锈钢抛光装置，设置有机械抛光和化学抛光，传输电机和驱动电机均为三相异步变频电机，便于调节速度，传输电机控制抛光的时间，驱动电机通过转速控制物理抛光的程度，从而提升了物理抛光的精度。化学抛光液储存罐和蒸馏水储存罐均设置有调节阀门，以此来调节化学抛光液的浓度，液体喷头也设有喷速调节器，从而改变化学抛光液的抛光时间，从双方面提升了化学抛光的精度。机械抛光室后设置有吸尘设备，化学抛光后设置有废弃抛光液存放池，以免工业废料带来不必要的污染。
附图说明
图1是本实用新型的整体结构示意图；
图2是本实用新型的俯视图结构示意图；
图中：1-机械抛光室；2-化学抛光室；3-工作传输轨道；4-传输电机；5-抛光轮；6-驱动电机；7-管道；8-吸尘设备；9-吸尘器；10-液体喷头；11-化学抛光液储存罐；12-蒸馏水储存罐；13-调解阀门；14-喷速调节器；15-废弃抛光液存放池。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-2，本实用新型提供一种技术方案：高精度CMP不锈钢抛光装置，包括机械抛光室1和化学抛光室2，所述机械抛光室1和化学抛光室2之间设置有工作传输轨道3，所述工作传输轨道3起始段设置有传输电机4，所述机械抛光室1内部设置有抛光轮5，所述抛光轮5上方安装有驱动电机6，所述机械抛光室1末端外侧设置有吸尘设备8，所述化学抛光室2上方安装有化学抛光液储存罐11和蒸馏水储存罐12，所述化学抛光液储存罐11和蒸馏水储存罐12下方均设置有液体喷头10，所述化学抛光液储存罐11以及蒸馏水储存罐12与所述液体喷头10之间通过管道相连接，所述化学抛光室2底部设置有废弃抛光液存放池15。
更具体而言，所述传输电机4和所述驱动电机6均为三相异步变频电机，所述传输电机4型号为90L-8，所述驱动电机6型号为YVF2-71M2，三相异步变频电机便于调节速度，所述吸尘设备8包括吸尘器9和管道7，所述吸尘设备8采用透浦式强力吸风机，所述管道7四周设置有密封胶条，所述管道7密封性良好，所述化学抛光液储存罐11和蒸馏水储存罐12下端均设置有调节阀门13，所述液体喷头10喷口处设置有喷速调节器14，便于进行精确控制，所述化学抛光液储存罐11内部存放有过氧化氢或氢氟酸，所述化学抛光液储存罐11采用PVC塑料制作而成，塑料材质不易于过氧化氢或者氢氟酸发生化学反应，所述废弃抛光液存放池15的容积为10L，所述废弃抛光液存放池15采用PVC塑料制作而成，取用非常方便。
工作原理：首先，该种高精度CMP不锈钢抛光装置，包括机械抛光室1和化学抛光室2，机械抛光室1和化学抛光室2穿设置有工作传输轨道3，工作传输轨道3起始段设置有传输电机4，机械抛光室1内部设置有抛光轮5，抛光轮5上方安装有驱动电机6，正常工作时传输电机4和驱动电机6通电后工作，传输电机4和驱动电机6均为三相异步变频电机，可以调节速度，需要程度深一点的机械抛光时，可以将传输电机4的速度调慢，驱动电机6的速度调快。化学抛光部分，化学抛光室上方安装化学抛光液储存罐11和蒸馏水储存罐12，调节阀门13来控制化学抛光液的浓度，液体喷头10的喷速调节器14可以控制喷速，同样传输电机4的速度也可以控制化学抛光的时间，从而共同提高化学抛光的精度。机械抛光室1末端外侧设置有吸尘设备8，化学抛光室2底部设置有废弃抛光液存放池15，以免工业废料带来不必要的污染。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。