技术特征：
技术总结
本发明涉及镀膜设备技术领域，具体涉及一种镀制非均匀多层薄膜的方法，包括如下步骤：S1.丙酮清洗试样(3)；S2.将试样(3)干燥；S3.将试样(3)放入试样台(3)上；S4.镀制第一薄膜层(301)：工控系统驱动光圈(5)的孔径由零开始以速度V1增大；S5.镀制第二薄膜层(302)：工控系统驱动遮挡装置(6)由半径为最小状态开始以速度V2增大，S6.镀制第三薄膜层(303)：工控系统驱动光圈(5)的孔径由零开始以速度V3增大，S7.镀膜完成，关闭非均匀多层薄膜的镀膜设备。采用这种结构后，该方法可以镀制非均匀多层薄膜，为科研人员对非均匀多层薄膜的研究工作做铺垫。
技术研发人员：鲍明东
受保护的技术使用者：宁波工程学院
技术研发日：2018.10.23
技术公布日：2019.01.15