技术总结
本实用新型公开了一种半导体钨化硅装置沉积环部件洗净喷砂专用保护治具，属于洗净喷砂遮蔽技术领域，包括外遮蔽保护圈和内遮蔽保护圈，所述外遮蔽保护圈和内遮蔽保护圈独立设置；所述外遮蔽保护圈为圆环状结构，其包括相连接的凸台A和外挡圈；所述内遮蔽保护圈包括相连接的凸台B和内挡圈，凸台B和内挡圈的连接处设有多个卡接槽，所述凸台B中设有中间把手；本实用新型不会使被保护的沉积环部件表面留下残胶，可以重复利用，且提高了喷砂范围的精度。
技术研发人员：朱光宇;陈智慧;张正伟;李泓波;贺贤汉
受保护的技术使用者：富乐德科技发展（大连）有限公司
技术研发日：2018.07.24
技术公布日：2019.02.15