一种TFT玻璃薄膜层沉积装置的制作方法

一种tft玻璃薄膜层沉积装置
技术领域
[0001]
本实用新型涉及薄膜沉积装置技术领域，尤其涉及一种tft玻璃薄膜层沉积装置。


背景技术：

[0002]
薄膜沉积设备可被简单地用于大规模生产大尺寸的显示装置并提高生产良率。与其它显示装置相比，有机发光显示装置视角更大、对比度特性更好并且响应速度更快，因此有机发光显示装置作为下一代显示装置而备受瞩目。有机发光显示装置包括设置在彼此相对布置的第一电极和第二电极之间的中间层，所述中间层包括发射层。中间层、第一电极和第二电极可以利用各种方法形成，例如，利用沉积方法。当利用沉积方法来制造有机发光显示装置时，为了形成具有期望图案的薄膜，具有与待形成的薄膜的图案相同的图案的精细金属掩模(fmm)被设置为紧密地接触基底，并且在fmm上沉积薄膜材料。
[0003]
专利号为cn201110029291.3提供一种薄膜沉积设备，所述薄膜沉积设备可被简单应用于大规模生产大尺寸显示装置并提高生产率。薄膜沉积设备包括：沉积源，排出沉积材料；沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的一侧并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴；图案化缝隙片，被设置成与所述沉积源喷嘴单元相对，所述图案化缝隙片包括沿与第一方向垂直的第二方向布置的多个图案化缝隙。但是该薄膜沉积设备在生产薄膜的过程中基底无任何控温装置，当基底受热膨胀变形后成型的薄膜为畸形，尺寸精度差，并且依据基底面积生产薄膜，对薄膜尺寸具有较大的限制，最终成型的薄膜需要长时间的降温，降温后薄膜粘附在基底上，难以脱离。


技术实现要素：

[0004]
本实用新型的目的在于提供一种tft玻璃薄膜层沉积装置，通过流体控温系统向u型管中通入一定温度的流体，实现对基底的控温，避免基底受热膨胀；能够扩大tft玻璃薄膜的最终成型面积，适用大尺寸tft玻璃薄膜的生产；且在移动过程中配合流体控温系统使用，对移出图案化缝隙片所在区域且初步成型的tft玻璃薄膜，极速降温，便于薄膜脱离基底和成型，解决了现有技术中的问题。
[0005]
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种tft玻璃薄膜层沉积装置，包括沉积源、沉积源喷嘴、连接构件、图案化缝隙片、基底、u型管、滑轨、驱动机构和电动伸缩杆，所述沉积源和图案化缝隙片之间通过框形的连接构件相连接，所述沉积源与沉积源喷嘴相连接，所述沉积源喷嘴位于图案化缝隙片的下方，所述连接构件的两侧固定连接有滑轨，两个滑轨相互平行，且滑轨滑动连接有滑块，所述滑块共有四个，分别基底的下端四角处，所述基底的上表面铺设有多根平行排列的u型管，所述基底和滑块之间通过电动伸缩杆连接，且滑块和滑轨之间通过驱动机构相连接。
[0006]
优选的，所述驱动机构包括驱动电机、齿轮、齿条和端板，滑块与端板固定连接，端板的上表面安装有驱动电机，驱动电机通过电机轴连接有齿轮，齿轮与齿条相互啮合，齿条位于滑轨的外侧壁上。
[0007]
优选的，所述u型管上套接有管箍，管箍通过螺栓固定连接有基底。
[0008]
优选的，所述u型管共有六根，每根u型管均通过水管连接有流体控温系统。
[0009]
优选的，所述滑轨和滑块的横截面均为t形，且滑轨的两端封闭。
[0010]
与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：
[0011]
本实用新型的tft玻璃薄膜层沉积装置，通过流体控温系统向u型管中通入一定温度的流体，流体吸收基底的热量或将热量传递至基底，来实现对基底的控温，避免基底受热膨胀；驱动机构带动基底沿滑轨移动，能够扩大tft玻璃薄膜的最终成型面积，适用大尺寸tft玻璃薄膜的生产；且在移动过程中配合流体控温系统使用，对移出图案化缝隙片所在区域且初步成型的tft玻璃薄膜，极速降温，便于薄膜脱离基底和成型。
附图说明
[0012]
图1为本实用新型的整体结构图；
[0013]
图2为本实用新型未安装基底的结构图；
[0014]
图3为本实用新型图2中a处局部放大图；
[0015]
图4为本实用新型的基底结构图。
[0016]
图中：1、沉积源；2、沉积源喷嘴；3、连接构件；4、图案化缝隙片；5、基底；6、u型管；61、管箍；7、滑轨；8、驱动机构；81、驱动电机；82、齿轮；83、齿条；84、端板；9、电动伸缩杆；10、滑块。
具体实施方式
[0017]
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0018]
请参阅图1，一种tft玻璃薄膜层沉积装置，包括沉积源1、沉积源喷嘴2、连接构件3、图案化缝隙片4、基底5、u型管6、滑轨7、驱动机构8和电动伸缩杆9，沉积源1和图案化缝隙片4之间通过框形的连接构件3相连接，沉积源1与沉积源喷嘴2相连接，沉积源喷嘴2位于图案化缝隙片4的下方，连接构件3的两侧固定连接有滑轨7，两个滑轨7相互平行，且滑轨7滑动连接有滑块10，滑轨7和滑块10的横截面均为t形，且滑轨7的两端封闭，能够有效防止滑块10脱离滑轨7。
[0019]
请参阅图2-3，驱动机构8包括驱动电机81、齿轮82、齿条83和端板84，滑块10与端板84固定连接，端板84的上表面安装有驱动电机81，驱动电机81通过电机轴连接有齿轮82，齿轮82与齿条83相互啮合，齿条83位于滑轨7的外侧壁上，驱动电机81带动齿轮82转动，齿轮82沿齿条83移动，从而带动滑块10沿滑轨7滑动。
[0020]
请参阅图4，滑块10共有四个，分别基底5的下端四角处，基底5的上表面铺设有多根平行排列的u型管6，基底5和滑块10之间通过电动伸缩杆9连接，电动伸缩杆9用于调节基底5和图案化缝隙片4之间的距离，且滑块10和滑轨7之间通过驱动机构8相连接，u型管6上套接有管箍61，管箍61通过螺栓固定连接有基底5，用于对u型管6固定，u型管6共有六根，每根u型管6均通过水管连接有单独的流体控温系统，便于对基底5局部控温，u型管6的一端通
过水管接入流体控温系统中的流体管，另一端通过水管排水，其中，流体控温系统为专利号cn201910913222.5提供的一种流体控温系统及其方法、以及控制流体温度装置。
[0021]
工作原理：从沉积源1发射并通过沉积源喷嘴2和图案化缝隙片4排出的沉积材料以期望图案沉积到基底5上，图案化缝隙片4的温度必须充分地低于沉积源1的温度，通过流体控温系统向u型管6中通入一定温度的流体，流体吸收基底5的热量或将热量传递至基底5，来实现对基底5的控温，避免基底5受热膨胀，且在沉积材料沉积至基底5的局部区域后，驱动机构8带动基底5沿滑轨7移动，能够扩大基底5的作用棉结，进而扩大tft玻璃薄膜的最终成型面积，适用于对大尺寸tft玻璃薄膜的生产，当基底5的左侧已经沉积有薄膜后，驱动机构8带动基底5向左移动，薄膜区移出图案化缝隙片4所在区域，而后向基底5左侧的u型管6中通入低温水，对基底5局部极速降温，便于薄膜脱离基底5和成型。
[0022]
综上所述：本实用新型的tft玻璃薄膜层沉积装置，通过流体控温系统向u型管6中通入一定温度的流体，流体吸收基底5的热量或将热量传递至基底5，来实现对基底5的控温，避免基底5受热膨胀；驱动机构8带动基底5沿滑轨7移动，能够扩大tft玻璃薄膜的最终成型面积，适用大尺寸tft玻璃薄膜的生产；且在移动过程中配合流体控温系统使用，对移出图案化缝隙片4所在区域且初步成型的tft玻璃薄膜，极速降温，便于薄膜脱离基底5和成型。
[0023]
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
[0024]
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。