真空镀膜生产线的制作方法

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，特别涉及一种真空镀膜生产线。

背景技术：

连续真空镀膜生产线具有生产效率高、工艺稳定等优点，被广泛应用于现代化工业生产。

通常，为了实现连续生产，连续真空镀膜生产线入口段和出口段均布置有连通于镀膜腔室的缓冲腔室和过渡腔室，过渡腔室实现大气状态、真空状态的交替切换和变速传输基板的功能，缓冲腔室实现变速传输基板的功能。为了实现以上功能，过渡腔室和缓冲腔室需要安装数量较多的装置和元器件。上述装置和元器件出现故障时，需要对整个连续真空镀膜生产线停机并在大气状态下进行维护工作。然而，镀膜腔室由于具有较高的生产温度，需要降温至安全状态方可对整个生产线进行破真空和维护工作，不仅耗费时间，且提高了生产成本。

技术实现要素：

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种真空镀膜生产线，所述真空镀膜生产线无需对镀膜腔室降温，能够节省时间，降低生产成本。

根据本实用新型实施例的真空镀膜生产线，包括：镀膜腔室，所述镀膜腔室的两侧分别设置入口段和出口段，所述入口段和出口段皆包括缓冲腔室和过渡腔室，所述缓冲腔室两端分别与所述镀膜腔室及所述过渡腔室连通；其中，所述过渡腔室背向所述缓冲腔室的一端设置有用于控制所述过渡腔室与外界通断的第一控制装置，所述过渡腔室和所述缓冲腔室的连通处设置有用于控制二者连通的第二控制装置，所述镀膜腔室和所述缓冲腔室之间设置有用于控制二者通断的第三控制装置。

根据本实用新型实施例的真空镀膜生产线，至少具有如下有益效果：通过在过渡腔室背向缓冲腔室的一端设置有用于控制过渡腔室与外界通断的第一控制装置、过渡腔室与缓冲腔室连通处设置有用于控制二者连通的第二控制装置，实现了连续真空镀膜生产；且在镀膜腔室和缓冲腔室之间设置有用于控制二者通断的第三控制装置，当第一控制装置和第三控制装置之间的腔室内任一装置和元器件出现故障时，通过第三控制装置使得镀膜腔室与缓冲腔室隔断连通，镀膜腔室成为独立的个体，可以无需根据镀膜腔室状态进行维修工作，与现有技术相比，本技术方案无需等待镀膜腔室降温并对其破真空，能够节省时间，降低生产成本。

根据本实用新型的一些实施例，所述入口段和出口段均还包括传输腔室，所述传输腔室位于所述镀膜腔室和所述缓冲腔室之间，所述传输腔室的两端分别与所述镀膜腔室和所述缓冲腔室连通，所述第三控制装置设置于所述传输腔室和所述镀膜腔室连通处。

根据本实用新型的一些实施例，所述传输腔室和所述缓冲腔室的连通处设置有用于控制二者通断的第四控制装置。

根据本实用新型的一些实施例，所述过渡腔室上连通有用于破真空的破真空装置。

根据本实用新型的一些实施例，所述破真空装置包括储气罐、第二管道和用于控制所述第二管道关闭和开启的第二开关，所述第二管道一端连通于所述储气罐的出气端，所述第二管道另一端连通于所述过渡腔室，所述第二开关设置于所述第二管道。

根据本实用新型的一些实施例，还包括输送装置，所述输送装置包括用于输送基板的输送单元和与所述输送单元传动连接的驱动机构，所述输送单元可转动地设置于所述镀膜腔室、所述传输腔室、所述缓冲腔室和所述过渡腔室内。

根据本实用新型的一些实施例，所述镀膜腔室、所述传输腔室、所述缓冲腔室和所述过渡腔室均设置有用于检测所述基板的检测装置。

根据本实用新型的一些实施例，所述缓冲腔室和所述过渡腔室上均设置有检测真空度的真空计。

根据本实用新型的一些实施例，所述过渡腔室上设置有用于检测气体压力的气压传感器。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本实用新型实施例的真空镀膜生产线第一实施例的结构示意图；

图2为本实用新型实施例的真空镀膜生产线第二实施例的结构示意图；

图3为本实用新型实施例的过渡腔室的结构示意图；

图4为本实用新型实施例的输送装置的结构示意图；

附图标记：

镀膜腔室10、缓冲腔室20、过渡腔室30；

第一控制装置41、第二控制装置42、第三控制装置43、第四控制装置44、第五控制装置45；

传输腔室50、抽真空装置60、破真空装置70；

输送装置80、输送单元81、驱动机构82；

检测装置91、真空计92、气压传感器93。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。

本实用新型的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本实用新型中的具体含义。

如图1至图3所示，根据本实用新型的实施例的真空镀膜生产线，包括：镀膜腔室10，镀膜腔室10的两侧分别设置入口段和出口段，入口段和出口段皆包括缓冲腔室20和过渡腔室30，缓冲腔室20两端分别与镀膜腔室10及过渡腔室30连通；其中，过渡腔室30背向缓冲腔室20的一端设置有用于控制过渡腔室30与外界通断的第一控制装置41，过渡腔室30和缓冲腔室20的连通处设置有用于控制二者连通的第二控制装置42，镀膜腔室10和缓冲腔室20之间设置有用于控制二者通断的第三控制装置43。

需要说明的是，在镀膜腔室10内设置有镀膜装置；在本实用新型的一些实施例中，镀膜腔室10的数量设置为两个，当然亦可设置为一个，或者三个、三个以上，在此不做限定。

根据本实用新型实施例的真空镀膜生产线，通过过渡腔室30背向缓冲腔室20的一端设置有用于控制过渡腔室30与外界通断的第一控制装置41、过渡腔室30与缓冲腔室20连通处设置有用于控制二者连通的第二控制装置42，实现了连续真空镀膜生产，且在镀膜腔室10和缓冲腔室20之间设置有用于控制二者通断的第三控制装置43，当第一控制装置41和第三控制装置43之间的腔室内任一装置和元器件出现故障时，通过第三控制装置43使得镀膜腔室10与缓冲腔室20隔断连通，镀膜腔室10成为独立的个体，可以无需根据镀膜腔室10状态进行维修工作，与现有技术相比，本技术方案无需等待镀膜腔室10降温并对其破真空，能够节省时间，降低生产成本。

在本实用新型的一些实施例中，入口段和出口段均还包括传输腔室50，传输腔室50位于镀膜腔室10和缓冲腔室20之间，传输腔室50的两端分别与镀膜腔室10和缓冲腔室20连通，第三控制装置43设置于传输腔室50和镀膜腔室10连通处，可以隔离更多腔室与镀膜腔室10的连通，且通过第三控制装置43，能够在线维修传输腔室50、缓冲腔室20、过渡腔室30。

在本实用新型的一些实施例中，传输腔室50和缓冲腔室20的连通处设置有用于控制二者通断的第四控制装置44，可以单独在线维修缓冲腔室20。

需要说明的是，如图1和图2所示，在本实用新型的一些实施例中，缓冲腔室20和过渡腔室30均连通有用于抽取真空的抽真空装置60。抽真空装置60包括真空泵、第一管道和第一开关，第一管道的一端连通于真空泵的抽气端，第一管道的另一端连通于缓冲腔室20或者过渡腔室30，第一开关设置于第一管道，第一开关用于控制第一管道的关闭和开启。

当然地，在一些实施例中，抽真空装置60亦可连通于镀膜腔室10，在此不做限定。

当然地，在一些实施例中，抽真空装置60亦可连通于传输腔室50，在此不做限定。

如图1至图3所示，在本实用新型的一些实施例中，过渡腔室30上连通有用于破真空的破真空装置70。当第一控制装置41和第三控制装置43之间的腔室内任一装置和元器件出现故障时，通过第三控制装置43使镀膜腔室10隔断与缓冲腔室20连通成为独立的个体，通过第二控制装置42使过渡腔室30与缓冲腔室20连通、第四控制装置44使缓冲腔室20与传输腔室50连通，通过破真空装置70破真空，进行相应的维护工作。

在本实用新型的一些实施例中，破真空装置70包括储气罐、第二管道和用于控制第二管道关闭和开启的第二开关，第二管道一端连通于储气罐的出气端，第二管道另一端连通于过渡腔室30，第二开关设置于第二管道，结构设计合理，便于实现对过渡腔室30进行间断性破真空。通过抽真空装置60和破真空装置70联合实现生产时过渡腔室30在真空状态和大气状态之间切换，使大气环境中的基板可以顺利进出该真空镀膜生产线。

可以理解的是，如图1所示，在本实用新型的一些实施例中，传输腔室50和过渡腔室30之间设置有一个缓冲腔室20。当然地，如图2所示，在一些实施例中，传输腔室50和过渡腔室30之间设置有至少两个缓冲腔室20，相邻的两个缓冲腔室20之间设置有用于控制两个缓冲腔室20通断的第五控制装置45。

需要说明的是，上述第一控制装置41、第二控制装置42、第三控制装置43、第四控制装置44和第五控制装置45均设置为插板阀，安装合理，简单紧凑，且密封可靠。当然地，在一些实施例中，第一控制装置41、第二控制装置42、第三控制装置43、第四控制装置44和第五控制装置45亦可均设置为其他控制阀，在此不做限定。

如图1至图4所示，在本实用新型的一些实施例中，还包括输送装置80，输送装置80包括用于输送基板的输送单元81和与输送单元81传动连接的驱动机构82，输送单元81可转动地设置于镀膜腔室10、传输腔室50、缓冲腔室20和过渡腔室30内，结构合理，传输可靠。需要说明的是，输送单元81为多个输送辊，输送辊配置为可转动，上述驱动机构82为同步带轮传动装置，当然在一些实施例中，驱动机构82亦可为齿轮传动装置或链条传动装置，在此不做限定。

如图1至图3所示，在本实用新型的一些实施例中，镀膜腔室10、传输腔室50、缓冲腔室20和过渡腔室30内均设置有用于检测基板的检测装置91。检测装置91检测生产线是否输送有基板和判断基板的位置，检测装置91可以为一组或者多组。具体地实施例中，检测装置91为光电传感器，检测距离长、分辨率高且便于调整。需要说明的是，光电传感器可以采用对射式光电传感器、反射式光电传感器或者光纤式光电传感器。在本实用新型的一些实施例中，光电传感器采用对射式光电传感器，另外，还可以采用其他类型的传感器实现相同的检测功能，在此不做赘述。

如图1至图3所示，在本实用新型的一些实施例中，缓冲腔室20和过渡腔室30上均设置有检测真空度的真空计92。过渡腔室30上设置有用于检测气体压力的气压传感器93。真空计92和气压传感器93参与生产线的开启，便于输送基板。

在一些实施例中，镀膜腔室10和传输腔室50亦可设置有真空计92，其仍具有上述效果。

以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

当然，本实用新型创造并不局限于上述实施方式，熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可作出等同变形或替换，这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。