一种磁流体一体式坩埚旋转机构的制作方法

文档序号:27039089发布日期:2021-10-24 06:39阅读:61来源:国知局
一种磁流体一体式坩埚旋转机构的制作方法

1.本实用新型涉及蒸镀机技术领域,较为具体的,涉及到一种磁流体一体式坩埚旋转机构。


背景技术:

2.在led芯片的制作过程中,需要通过蒸镀机将材料熔融形成蒸汽,然后将蒸汽镀在半导体基片上。蒸镀机包括蒸镀腔以及设置于蒸镀腔内的坩埚和电子枪,坩埚上设置有反应腔,反应腔内盛放有原料,电子枪产生的电子束加热反应腔内的原料,使原料变成蒸汽。
3.原来以及市场上几乎所有的镀膜机厂家的密封方式都是靠密封圈方式进行密封,久而久之,需要对密封圈进行更换,因为长时间旋转会造成密封圈磨损,进而造成真空泄露。一旦真空泄露,会直接影响产品的质量和成膜效果,重则导致产品失效,无法达到客户要求以及相关电性能要求。因此急需一种既可以密封又可以长期使用不泄露的技术来改变现状。


技术实现要素:

4.有鉴于此,为了解决急需一种既可以密封又可以长期使用不泄露的技术来改变现状的问题,本实用新型提出一种磁流体一体式坩埚旋转机构,包括:蒸镀机内腔底板1、坩埚3、磁流体5、电机6、联轴器7、齿轮轴9、第一齿轮10、第二齿轮11,在坩埚3内部设有敞口的多个反应腔4,每个反应腔4 装有的原料不同,通过电机6带动联轴器7带动磁流体5转动,磁流体5带动第一齿轮10转动,第一齿轮10带动齿轮轴9转动,齿轮轴9带动第二齿轮11转动从而带动坩埚3转动,坩埚3的反应腔4的敞口上设有遮板13,遮板13上设有第一通孔14,当坩埚3转动到指定位置,坩埚3的其中一个反应腔4与第一通孔14连通,一体化设计既可以解决繁琐的机械组合,同时又能够满足长时间旋转不漏真空的技术。
5.一种磁流体一体式坩埚旋转机构,包括:蒸镀机内腔底板1、坩埚3、磁流体5、电机6、联轴器7、齿轮轴9、第一齿轮10、第二齿轮11,其特征在于:蒸镀机内腔底板1上设有第一支撑架12,第一支撑架12上部设有遮板 13,遮板13上设有第一通孔14,所述遮板13下部设有坩埚3,所述坩埚3 内部设有敞口的多个反应腔4,所述坩埚3的下部设有轴承15,所述轴承15 外围设有第二齿轮11,所述齿轮轴9的两端设有齿,所述第二齿轮11与齿轮轴9的一端啮合,所述齿轮轴9的另一端与第一齿轮10啮合,所述第一齿轮10套接在磁流体5的一端,所述磁流体5的另一端套接联轴器7的一端,所述联轴器7的另一端连接电机6的电机轴。
6.进一步的,坩埚3的反应腔4的敞口面靠近遮板13的下端面,当坩埚3 转动到指定位置,坩埚3的其中一个反应腔4与第一通孔14连通。
7.进一步的,第一支撑架12为中空框架结构,齿轮轴9的部分位于第一支撑架12内部。
8.进一步的,齿轮轴9连接有一支撑块17,支撑块17的一端设有第二通孔 18,第二通孔18处设有轴套19,齿轮轴9穿过轴套19与第二通孔18套接,支撑块17远离第二通孔18端固
定连接在第一支撑架12的底板上。
9.进一步的,第二齿轮11的下部的轴承15处连接支撑杆20,支撑杆20 对与坩埚3起到支撑作用。
10.进一步的,第一齿轮10与磁流体5通过螺母可拆卸连接。
11.进一步的,蒸镀机内腔底板1上设有第三通孔2,磁流体5上设有连接盘,连接盘固定在蒸镀机内腔底板1下端面且使得磁流体5的上端穿过第三通孔2与第一齿轮10套接,连接盘的下部设有第二支撑架21,第二支撑架 21上部设有第四通孔22,磁流体5穿过第四通孔22与联轴器7套接,第二支撑架21下部设有第五通孔,电机6固定连接第二支撑架21下部且电机轴穿过第五通孔与联轴器7套接。
12.进一步的,联轴器7的中部设有第六通孔8,磁流体5的与第六通孔8 套接的轴为d型杆,电机6的与第六通孔8套接的轴同样也为d型杆,使得电机6带动联轴器7转动,联轴器7带动磁流体5转动。
13.进一步的,磁流体5与联轴器7连接处的侧壁通过螺栓可拆卸连接,电机6与联轴器7连接处的侧壁通过螺栓可拆卸连接。
14.进一步的,第二支撑架21为中空框架结构,减轻重量,使得电机6和蒸镀机内腔底板1连接更加稳固。
15.本实用新型的工作原理:本实用新型提出一种磁流体一体式坩埚旋转机构,包括:蒸镀机内腔底板1、坩埚3、磁流体5、电机6、联轴器7、齿轮轴9、第一齿轮10、第二齿轮11,在坩埚3内部设有敞口的多个反应腔4,每个反应腔4装有的原料不同,通过电机6带动联轴器7带动磁流体5转动,磁流体5带动第一齿轮10转动,第一齿轮10带动齿轮轴9转动,齿轮轴9 带动第二齿轮11转动从而带动坩埚3转动,坩埚3的反应腔4的敞口上设有遮板13,遮板13上设有第一通孔14,当坩埚3转动到指定位置,坩埚3的其中一个反应腔4与第一通孔14连通,一体化设计既可以解决繁琐的机械组合,同时又能够满足长时间旋转不漏真空的技术。
附图说明
16.图1为本实用新型的磁流体一体式坩埚旋转机构的结构图。
17.图2为本实用新型的磁流体一体式坩埚旋转机构的部分爆炸结构图。
18.图3为本实用新型的磁流体一体式坩埚旋转机构的部分爆炸结构图。
19.图4为本实用新型的磁流体一体式坩埚旋转机构的部分爆炸结构图。
20.图5为本实用新型的磁流体一体式坩埚旋转机构的坩埚连接结构图。
21.图6为本实用新型的磁流体一体式坩埚旋转机构的坩埚结构图。
22.主要元件符号说明
[0023][0024][0025]
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本实用新型。
具体实施方式
[0026]
描述以下实施例以辅助对本技术的理解,实施例不是也不应当以任何方式解释为限制本技术的保护范围。
[0027]
在以下描述中,本领域的技术人员将认识到,在本论述的全文中,组件可描述为单独的功能单元(可包括子单元),但是本领域的技术人员将认识到,各种组件或其部分可划分成单独组件,或者可整合在一起(包括整合在单个的系统或组件内)。
[0028]
同时,附图内的组件或系统之间的连接并不旨在限于直接连接。相反,在这些组件之间的数据可由中间组件修改、重格式化、或以其它方式改变。另外,可使用另外或更少的连接。还应注意,术语“联接”、“连接”、或“输入”“固定”应理解为包括直接连接、通过一个或多个中间媒介来进行的间接的连接或固定。
[0029]
在本技术的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“侧面”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该申请产品使用时或惯常认知的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操
作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外,术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂,而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平,并不是表示该结构一定要完全水平,而是可以稍微倾斜。
[0030]
具体实施例:
[0031]
如图1所示,为本实用新型的磁流体一体式坩埚旋转机构的结构图;如
[0032]
图2所示,为本实用新型的磁流体一体式坩埚旋转机构的部分爆炸结构图;
[0033]
图3所示,为本实用新型的磁流体一体式坩埚旋转机构的部分爆炸结构图;
[0034]
图4所示,为本实用新型的磁流体一体式坩埚旋转机构的部分爆炸结构图;
[0035]
图5所示,为本实用新型的磁流体一体式坩埚旋转机构的坩埚连接结构图;
[0036]
图6所示,为本实用新型的磁流体一体式坩埚旋转机构的坩埚结构图。
[0037]
一种磁流体一体式坩埚旋转机构,包括:蒸镀机内腔底板1、坩埚3、磁流体5、电机6、联轴器7、齿轮轴9、第一齿轮10、第二齿轮11,蒸镀机内腔底板1上设有第一支撑架12,第一支撑架12上部设有遮板13,遮板13上设有第一通孔14,所述遮板13下部设有坩埚3,所述坩埚3内部设有敞口的多个反应腔4,所述坩埚3的下部设有轴承15,所述轴承15外围设有第二齿轮11,所述齿轮轴9的两端设有齿,所述第二齿轮11与齿轮轴9的一端啮合,所述齿轮轴9的另一端与第一齿轮10啮合,所述第一齿轮10套接在磁流体5的一端,所述磁流体5的另一端套接联轴器7的一端,所述联轴器7 的另一端连接电机6的电机轴。
[0038]
所述坩埚3的反应腔4的敞口面靠近遮板13的下端面,当坩埚3转动到指定位置,坩埚3的其中一个反应腔4与第一通孔14连通。
[0039]
所述第一支撑架12为中空框架结构,齿轮轴9的部分位于第一支撑架 12内部。
[0040]
所述齿轮轴9连接有一支撑块17,支撑块17的一端设有第二通孔18,第二通孔18处设有轴套19,齿轮轴9穿过轴套19与第二通孔18套接,支撑块17远离第二通孔18端固定连接在第一支撑架12的底板上。
[0041]
所述第二齿轮11的下部的轴承15处连接支撑杆20,支撑杆20对与坩埚3起到支撑作用。
[0042]
所述第一齿轮10与磁流体5通过螺母可拆卸连接。
[0043]
所述蒸镀机内腔底板1上设有第三通孔2,磁流体5上设有连接盘,连接盘固定在蒸镀机内腔底板1下端面且使得磁流体5的上端穿过第三通孔2 与第一齿轮10套接,连接盘的下部设有第二支撑架21,第二支撑架21上部设有第四通孔22,磁流体5穿过第四通孔22与联轴器7套接,第二支撑架 21下部设有第五通孔,电机6固定连接第二支撑架21下部且电机轴穿过第五通孔与联轴器7套接。
[0044]
所述联轴器7的中部设有第六通孔8,磁流体5的与第六通孔8套接的轴为d型杆,电机6的与第六通孔8套接的轴同样也为d型杆,使得电机6 带动联轴器7转动,联轴器7带动磁流体5转动。
[0045]
所述磁流体5与联轴器7连接处的侧壁通过螺栓可拆卸连接,电机6与联轴器7连接处的侧壁通过螺栓可拆卸连接。
[0046]
所述第二支撑架21为中空框架结构,减轻重量,使得电机6和蒸镀机内腔底板1连接更加稳固。
[0047]
本实用新型的工作原理:本实用新型提出一种磁流体一体式坩埚旋转机构,包括:蒸镀机内腔底板1、坩埚3、磁流体5、电机6、联轴器7、齿轮轴9、第一齿轮10、第二齿轮11,在坩埚3内部设有敞口的多个反应腔4,每个反应腔4装有的原料不同,通过电机6带动联轴器7带动磁流体5转动,磁流体5带动第一齿轮10转动,第一齿轮10带动齿轮轴9转动,齿轮轴9 带动第二齿轮11转动从而带动坩埚3转动,坩埚3的反应腔4的敞口上设有遮板13,遮板13上设有第一通孔14,当坩埚3转动到指定位置,坩埚3的其中一个反应腔4与第一通孔14连通,一体化设计既可以解决繁琐的机械组合,同时又能够满足长时间旋转不漏真空的技术。
[0048]
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
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