1.一种通过原位离子共注入构筑高承载低摩擦橡胶表面的方法，是将以金属靶材和碳靶材作为离子共注入材料，采用真空电弧离子源，在清洗后的橡胶表面原位共注入金属和碳元素作为承载层，然后采用磁控溅射在承载层上沉积碳薄膜，从而获得高承载高结合低摩擦橡胶表面。
2.如权利要求1所述一种通过原位离子共注入构筑高承载低摩擦橡胶表面的方法，其特征在于：橡胶基底为丁腈橡胶、氟橡胶及硅橡胶中的一种，橡胶表面粗糙度≤200nm，橡胶厚度为3~5mm。
3.如权利要求1所述一种通过原位离子共注入构筑高承载低摩擦橡胶表面的方法，其特征在于：承载层的注入沉积：抽真空至1×10-6pa；调节碳靶材电流45~60a，占空比为40~50%，束流密度为0.48~0.64a/100cm2·s，注入时间为480s；同时，调节金属靶电流从0a逐渐增至40a，占空比50%，束流密度从0a逐渐增至0.42a/100cm2·s，注入时间为360s；控制加速电压-20~-30kv，频率1~3hz。
4.如权利要求3所述一种通过原位离子共注入构筑高承载低摩擦橡胶表面的方法，其特征在于：金属靶材采用ti、cr、w靶中的一种。
5.如权利要求1所述一种通过原位离子共注入构筑高承载低摩擦橡胶表面的方法，其特征在于：碳靶材采用石墨靶。
6.如权利要求1所述一种通过原位离子共注入构筑高承载低摩擦橡胶表面的方法，其特征在于：所述磁控溅射沉积碳薄膜：采用石墨靶，靶基距为8~12cm，靶电流为3a，氩气流量为45~60sccm，ar/ch4的流量比为1.5:1，基底偏压为-700v，气压为1~1.5pa，占空比为40~45%，频率为60~70khz，沉积时间为120~150min。