一种减少铜箔硅烷化处理回流液气泡装置的制作方法

1.本实用新型涉及工业循环体系技术领域，具体来说，涉及一种减少铜箔硅烷化处理回流液气泡装置。


背景技术：

2.当今社会是信息时代，对科技的要求越来越高，也就促使电子产品的发展，为了更加快速及方便的传递信息，则对印制线路的要求越来越高，印刷电路基板通常是通过在铜箔层叠板上形成镀层、然后在所形成的镀层形成电路图案而制造的；
3.对于上述铜箔层叠板中使用的铜箔，可以使用电解铜箔或轧制铜箔，因此，电解铜箔的技术要求也就增大了，如铜箔表面外观对工业有很大影响，导致外观和质量都存在问题，不仅直接影响的品质等级，而且还对下游产品也有较大影响，如做成电池后的电池性能，做成覆铜板和电路板后的性能等均有较大影响；
4.覆铜板作为一种多功能的电子层压复合材料，它是由不同的树脂、增强材料、填料、助剂、铜箔等多种材料组合而成的。由于各种材料的结构、性能差异巨大，各材料间的表面张力、相容性、界面结合力等不同，使覆铜板的性能、稳定性、可靠性、均匀性及各项性能均受到影响。为了消除上述影响，提高覆铜板的综合性能就必须在铜箔加工及覆铜板的制造过程中引入偶联剂，以期解决基体树脂与玻纤布、填料及铜箔之间的界面结合的问题，传统硅烷涂覆回流装置对搅拌桶冲击较大，并产生大量气泡，气泡通过送液管道输送到硅烷槽中，然后附着在箔面上，经过烘烤后破裂导致黑圈产生。


技术实现要素：

5.针对相关技术中的上述技术问题，本实用新型提出一种减少铜箔硅烷化处理回流液气泡装置，能够克服现有技术的上述不足。
6.为实现上述技术目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：
7.一种减少铜箔硅烷化处理回流液气泡装置，包括搅拌储桶，所述搅拌储桶顶部与硅烷涂覆槽连接，所述搅拌储桶底部设有排污口阀门，所述搅拌储桶底部与动力泵连接，所述动力泵分别与搅拌储桶顶部和过滤器连接。
8.更进一步的，所述搅拌储桶内壁上设有缓冲溜槽，所述缓冲溜槽与搅拌储桶采用焊接连接。
9.更进一步的，所述缓冲溜槽在搅拌储桶内壁上呈螺旋状，螺旋角度为45
°
。
10.更进一步的，所述搅拌储桶底部与动力泵之间设有泵进口阀门。
11.更进一步的，所述搅拌储桶侧壁上设有搅拌桶液位计、ph及温度检测系统。
12.更进一步的，所述动力泵与搅拌储桶顶部连接路径上设有分流阀门，所述动力泵与过滤器连接路径上设有泵出口阀门。
13.本实用新型的有益效果：
14.1、本实用新型使硅烷偶联剂保持在最佳温度和ph中配制，保证了硅烷水解液其中
安定性因素稳定；
15.2、通过液位计远程控制监控，解决了使用过程中，偶联剂液位的波动，当液位有变化时能及时反馈做出调整，稳定工艺范围；
16.3、可以使涂覆完成后，多余的偶联剂经过溜槽处理能快速使用，大大节省了成本的浪费；
17.4、通过分流阀，确保偶联剂送液及回液流量稳定；
18.5、通过搅拌桶内部溜槽结构减缓了回流液对搅拌储桶中液的冲击，从而减少气泡的产生，避免因气泡而导致黑圈的发生，提高箔面外观质量。
附图说明
19.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
20.图1是根据本实用新型实施例所述的一种减少铜箔硅烷化处理回流液气泡装置结构示意图；
21.图2是根据本实用新型实施例所述的一种减少铜箔硅烷化处理回流液气泡装置的搅拌储桶内部结构示意图。
22.图中：1、搅拌储桶，2、排污口阀门，3、泵进口阀门，4、动力泵，5、分流阀门，6、泵出口阀门，7、过滤器，8、硅烷涂覆槽，9、搅拌桶液位计，10、ph和温度在线检测系统，11、缓冲溜槽。
具体实施方式
23.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
24.如图 1-2 所示，根据本实用新型实施例所述的一种减少铜箔硅烷化处理回流液气泡装置，包括搅拌储桶1，所述搅拌储桶1顶部与硅烷涂覆槽8连接，所述搅拌储桶1底部设有排污口阀门2，所述搅拌储桶1底部与动力泵4连接，所述动力泵4分别与搅拌储桶1顶部和过滤器7连接。
25.在具体实施例中，所述搅拌储桶1内壁上设有缓冲溜槽11，所述缓冲溜槽11与搅拌储桶1采用焊接连接。
26.在具体实施例中，所述缓冲溜槽11在搅拌储桶1内壁上呈螺旋状，螺旋角度为45
°
。
27.在具体实施例中，所述搅拌储桶1底部与动力泵4之间设有泵进口阀门3。
28.在具体实施例中，所述搅拌储桶1侧壁上设有搅拌桶液位计9、ph及温度检测系统10。
29.在具体实施例中，所述动力泵4与搅拌储桶1顶部连接路径上设有分流阀门5，所述动力泵4与过滤器7连接路径上设有泵出口阀门6。
30.为了方便理解本实用新型的上述技术方案，以下通过具体使用方式上对本实用新型的上述技术方案进行详细说明。
31.在具体使用时，根据本实用新型所述的搅拌储桶设有液位计9，当液位过高和过低dcs系统都会出现报警提示。
32.装置用新型较佳实施方式减少铜箔硅烷化处理回流液气泡装置，用于搅拌桶内部11溜槽的设计消除因气泡而产生铜箔黑圈问题；
33.该减少铜箔硅烷化处理回流液气泡装置包括搅拌储桶1，泵进口阀门3，动力泵4，出口阀门6；过滤器7，硅烷涂覆槽8，及搅拌储桶设计有缓冲溜槽11，溜槽减缓回流液对搅拌桶余液的冲击。
34.该减少铜箔硅烷化处理回流液气泡装置搅拌储桶1，供液泵4，过滤器7，硅烷槽体8，缓冲溜槽11，液位计9，温度和ph在线检测系统10，涂覆完成后，把多余的偶联剂通过回流管进入搅拌桶溜槽，最终补充到搅拌储桶里；
35.减少铜箔硅烷化处理回流液气泡装置使用过程，先将纯水加入搅拌储桶中1，通过液位计控制9来保证定量的液位，ph及温度在线检测系统10来稳定使用过程中影响偶联剂的水解液安定性因素，通过供液泵4，分流阀5进行流量调整进入过滤器对偶联剂进行高精度过滤，送到硅烷涂覆槽8，涂覆后，多余的偶联剂会从硅烷涂覆槽8流回搅拌桶溜槽11，溜槽的结构以倾斜45
°
角的缠绕桶壁焊接，末端距离桶底1/3处。保证了回流液缓速流动，从而降低因冲击而产生的气泡，整个工艺解决了影响偶联剂水解液其安定性因素，和因气泡而导致黑圈问题，提高了外观质量，还节约了生产成本；
36.综上所述，借助于本实用新型的上述技术方案，通过使硅烷偶联剂保持在最佳温度和ph中配制，保证了硅烷水解液其中安定性因素稳定；通过液位计远程控制监控，解决了使用过程中，偶联剂液位的波动，当液位有变化时能及时反馈做出调整，稳定工艺范围；可以使涂覆完成后，多余的偶联剂经过溜槽处理能快速使用，大大节省了成本的浪费；通过分流阀，确保偶联剂送液及回液流量稳定。通过搅拌桶内部溜槽结构减缓了回流液对搅拌储桶中液的冲击，从而减少气泡的产生，避免因气泡而导致黑圈的发生，提高箔面外观质量。
37.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。