一种稳定性高的铣刀表面抛光用打磨装置的制作方法

文档序号:32128659发布日期:2022-11-09 09:03阅读:39来源:国知局
一种稳定性高的铣刀表面抛光用打磨装置的制作方法

1.本实用新型涉及铣刀技术领域,具体为一种稳定性高的铣刀表面抛光用打磨装置。


背景技术:

2.铣刀,是用于铣削加工的、具有一个或多个刀齿的旋转刀具。立铣刀在使用一段时间后刀体和刀齿表面会出现黄色的污渍,或者其他物质,会影响使用的精确度,一般通过砂纸或者抛光砂进行打磨。
3.现有中国专利,授权公告号为cn215092873u的专利,其公开了一种铣刀表面抛光用打磨装置,包括平台,所述平台顶部的中部固定连接有打磨箱,所述平台的底部固定连接有电机箱,所述电机箱内壁的右侧固定连接有电机,所述电机的输出轴固定连接有连接轴。本实用通过设置电机、连接轴、电动推杆、升降板、压杆、压紧弹簧,压板和施压弹簧起到了具有调节压力的作用,利用施压弹簧弹力增强和减弱实现压力大小调节,对摩擦力大小调节,从而提高抛光的效果,提高铣刀加工生产质量,利用压紧弹簧压紧箱盖,防止抛光砂洒出,还通过设置固定板、缓冲杆和缓冲弹簧起到了缓冲保护功能,利用缓冲弹簧对工作震动进行抵消,减小震动,减小噪音。
4.但是上述专利,在使用中转盘只能带动底部的抛光砂转动,无法均匀的对铣刀进行打磨。


技术实现要素:

5.本实用新型的目的在于提供一种稳定性高的铣刀表面抛光用打磨装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
6.为了解决上述技术问题,本实用新型提供如下技术方案:一种稳定性高的铣刀表面抛光用打磨装置,包括壳体,所述壳体底部转动设有转板,所述转板顶端设有自动伸缩杆二,所述自动伸缩杆二上方设有限位圈一和限位圈二,所述限位圈一通过侧板与所述限位圈二连接,所述侧板底端与所述转板外壁连接,所述转板顶端设有搅拌板,所述转板内部设有传动组件,所述壳体内壁设有电机,所述壳体顶部设有顶盖。
7.进一步的,所述壳体内壁设有若干过滤网,所述壳体内壁于所述过滤网下方滑动设有收集盒,所述收集和内壁活动设有海绵,所述收集盒内壁设有若干排气孔,所述壳体内壁于所述收集盒底端设有出风口,所述排气孔与所述出风口连通,所述顶盖内壁于所述限位圈一上方设有风机。
8.进一步的,所述限位圈一位于所述限位圈二上方,所述搅拌对称设于所述自动伸缩杆二外侧,通过限位圈一和限位圈二对铣刀限位。
9.进一步的,所述传动组件包括空腔,所述空腔设于所述转板内部,所述空腔内壁对称设有支撑轴,所述支撑轴与所述转板转动连接,所述电机的输出轴位于两个所述支撑轴之间,所述支撑轴外壁套设有齿轮一,为本装置提供动力。
10.进一步的,所述电机的输出轴延伸至所述空腔内壁,所述电机的输出轴外壁套设有齿轮二,所述齿轮一与所述齿轮二相啮合,所述支撑轴外壁延伸至所述转板外侧设有搅拌叶,对抛光砂进行搅拌。
11.进一步的,所述壳体外壁设有自动伸缩杆一,所述自动伸缩杆一与所述顶盖连接,所述壳体顶部滑动设有压板,所述顶盖底端设有伸缩杆和弹簧,所述伸缩杆和所述弹簧均与所述压板连接,所述压板内壁设有隔离网,形成密闭的工作空间。
12.与现有技术相比,本实用新型所达到的有益效果是:
13.1、本实用新型通过设置自动伸缩杆一、顶盖、压板、限位圈二、限位圈一、转板、齿轮一、齿轮二和自动伸缩杆二,可以使刀齿、刀体附近的抛光砂运动速度加快,从而加快均匀的对铣刀进行打磨,避免打磨出现遗漏,提高对铣刀进行打磨的稳定性。
14.2、本实用新型通过设置过滤网、海绵、隔离网、风机、出风口、顶盖和收集盒,可以使碎屑从抛光砂的缝隙中向下移动,转板转动带动碎屑进入过滤网,对抛光砂中混杂的碎屑进行清洁,不需要更换抛光砂,便于对抛光产生的碎屑进行集中收集。
附图说明
15.附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
16.图1是本实用新型整体的主视剖面图;
17.图2是本实用新型部分的结构示意图;
18.图3是本实用新型中限位圈一的结构示意图;
19.图4是本实用新型图1中a处的局部放大图;
20.图中:1、壳体;2、转板;3、自动伸缩杆二;4、限位圈一;5、限位圈二;6、侧板;7、弹簧;8、搅拌板;9、传动组件;10、电机;11、顶盖;12、过滤网;13、收集盒;14、出风口;15、海绵;16、风机;17、支撑轴;18、齿轮一;19、齿轮二;20、搅拌叶;21、自动伸缩杆一;22、压板;23、隔离网;24、伸缩杆。
具体实施方式
21.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
22.请参阅图1-图4,本实用新型提供技术方案:一种稳定性高的铣刀表面抛光用打磨装置,包括壳体1,所述壳体1底部转动设有转板2,所述转板2顶端设有自动伸缩杆二3,所述自动伸缩杆二3上方设有限位圈一4和限位圈二5,所述限位圈一4通过侧板6与所述限位圈二5连接,所述侧板6底端与所述转板2外壁连接,所述转板2顶端设有搅拌板8,所述转板2内部设有传动组件9,所述壳体1内壁设有电机10,所述壳体1顶部设有顶盖11,所述限位圈一4位于所述限位圈二5上方,所述搅拌对称设于所述自动伸缩杆二3外侧,限位圈一4、限位圈二5在水平方向对铣刀进行支撑,通过限位圈一4和限位圈二5对铣刀限位,所述传动组件9包括空腔,所述空腔设于所述转板2内部,所述空腔内壁对称设有支撑轴17,所述支撑轴17
与所述转板2转动连接,所述电机10的输出轴位于两个所述支撑轴17之间,所述支撑轴17外壁套设有齿轮一18,带动两个支撑轴17转动,为本装置提供动力,所述电机10的输出轴延伸至所述空腔内壁,所述电机10的输出轴外壁套设有齿轮二19,所述齿轮一18与所述齿轮二19相啮合,所述支撑轴17外壁延伸至所述转板2外侧设有搅拌叶20,支撑轴17带动搅拌叶20转动,转板2带动搅拌板8转动,对抛光砂进行搅拌,所述壳体1外壁设有自动伸缩杆一21,所述自动伸缩杆一21与所述顶盖11连接,所述壳体1顶部滑动设有压板22,所述顶盖11底端设有伸缩杆24和弹簧7,所述伸缩杆24和所述弹簧7均与所述压板22连接,所述压板22内壁设有隔离网23,利用弹簧7的弹力使得压板22与抛光砂接触更紧密,关闭顶盖11,形成密闭的工作空间。
23.具体实施方式为:使用时,自动伸缩杆一21伸长带动顶盖11、压板22上升,将铣刀的刀体向下插入限位圈一4、限位圈二5内,限位圈一4和限位圈二5内壁的通孔与铣刀相匹配,直到铣刀与自动伸缩杆二3接触,自动伸缩杆二3在竖直方向对铣刀进行支撑,限位圈一4、限位圈二5在水平方向对铣刀进行支撑,倒入抛光砂,自动伸缩杆一21收缩带动顶盖11、压板22下降,利用弹簧7的弹力使得压板22与抛光砂接触更紧密,电机10的输出轴带动齿轮二19、转板2转动,齿轮二19与齿轮一18相啮合,带动两个支撑轴17转动,支撑轴17带动搅拌叶20转动,转板2带动搅拌板8转动,刀体处较光滑便于打磨,刀齿处有凹凸较不便打磨,通过搅拌叶20和搅拌板8的配合,使得刀齿附近的抛光砂运动速度加快,从而加快对刀齿的打磨,打磨一段时间后,自动伸缩杆二3伸长带动铣刀向上移动,移动距离等于限位圈一4的高度,从而对刚才被限位圈一4、限位圈二5遮挡的部分进行打磨,避免打磨出现遗漏,提高对铣刀进行打磨的稳定性。
24.请参阅图1-图3,本实用新型提供技术方案:一种稳定性高的铣刀表面抛光用打磨装置,所述壳体1内壁设有若干过滤网12,所述壳体1内壁于所述过滤网12下方滑动设有收集盒13,所述收集和内壁活动设有海绵15,所述收集盒13内壁设有若干排气孔,所述壳体1内壁于所述收集盒13底端设有出风口14,所述排气孔与所述出风口14连通,所述顶盖11内壁于所述限位圈一4上方设有风机16。
25.具体实施方式为:使用时,过滤网12、隔离网23的孔洞的半径小于抛光砂的半径,对铣刀进行打磨而产生的碎屑会混在抛光砂中,风机16排出的风穿过隔离网23吹向抛光砂,气流在壳体1内向下吹动,从而带动碎屑从抛光砂的缝隙中向下移动,碎屑汇集在转板2表面,转板2转动带动碎屑进入过滤网12,含有碎屑的气流穿过海绵15,碎屑留在海绵15中,海绵15的孔洞大于碎屑的体积,气流依次通过排气孔、出风口14排出到壳体1外,可以对抛光砂中混杂的碎屑进行清洁,不需要反复更换抛光砂,长时间使用后,拉动收集盒13表面的把手,将收集盒13、布满碎屑的海绵15取出,更换新的海绵15,再将收集盒13重新插回即可,便于对抛光产生的碎屑进行集中收集。
26.本实用新型的工作原理:
27.参照说明书附图1-附图4,本实用新型通过设置自动伸缩杆一21、顶盖11、压板22、限位圈二5、限位圈一4、转板2、齿轮一18、齿轮二19和自动伸缩杆二3,可以使刀齿、刀体附近的抛光砂运动速度加快,从而加快均匀的对铣刀进行打磨,避免打磨出现遗漏,提高对铣刀进行打磨的稳定性。
28.进一步的,参照说明书附图1-附图3,本实用新型通过设置过滤网12、海绵15、隔离
网23、风机16、出风口14、顶盖11和收集盒13,可以使碎屑从抛光砂的缝隙中向下移动,转板2转动带动碎屑进入过滤网12,对抛光砂中混杂的碎屑进行清洁,不需要更换抛光砂,便于对抛光产生的碎屑进行集中收集。
29.最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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