一种化学气相沉积设备的气体控制装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种气体控制装置，尤其涉及一种化学气相沉积设备的气体控制装置。


背景技术：

2.化学气相沉积简称cvd，是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术，整个工艺过程能够通过化学相沉积装置实现，化学气相沉积法是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术，化学气相沉积法已经广泛应用于提纯物质，研制新晶体，沉淀各种单晶，多晶或玻璃态无机薄膜材料，现有的cvd装置在运行过程中，反应的气体直接进入气相室，反应完的尾气直接排出，易导致反应不完全，且制备不同晶体或者薄膜所需的气体种类和气体量是不同的，反应气体直接进入气相室，也容易导致成型的晶体和薄膜成分不纯。
3.因此，本实用新型设计了一种能够控制不同气体进入气相室体积量的化学气相沉积设备的气体控制装置，来解决上述技术问题。


技术实现要素：

4.本实用新型为了克服现有技术中反应气体直接进入气相室，导致成型晶体或薄膜成分不纯的缺点，本实用新型要解决的技术问题是提供一种能够控制不同气体进入气相室的体积量的化学气相沉积设备的气体控制装置。
5.为了解决上述技术问题，本实用新型提供了这样一种化学气相沉积设备的气体控制装置，包括有支撑底板、反应气体储存罐、输气管、球型阀、气体流量控制器和气相室，支撑底板一侧安装有多个反应气体储存罐，支撑底板上固接有气相室，每个反应气体储存罐和气相室之间均连接有输气管，输气管上均连接有球型阀，输气管上均连接有气体流量控制器，气体流量控制器位于球型阀一侧。
6.优选地，还包括有气阀和尾气储存罐，尾气储存罐放置在支撑底板一侧，尾气储存罐和气相室之间连接有输气管，输气管上连接有气阀。
7.优选地，还包括有气压表，每根输气管上均连接有气压表。
8.优选地，还包括有气罐支架，每个反应气体储存罐底部固接有气罐支架。
9.优选地，还包括有保护外壳，支撑底板右侧栓接有保护外壳，反应气体储存罐位于保护外壳内。
10.优选地，还包括有观察窗，保护外壳上卡接有观察窗。
11.本实用新型具有以下优点：本实用新型通过气体流量控制器可以设定不同气体进入气相室的体积量，适用于成型不同薄膜或晶体，同时能够通过球型阀，控制气体进入气相室，实现不同气体定量进入气相室进行反应，反应完全的尾气，排进尾气储存罐内，避免污染环境。
附图说明
12.图1为本实用新型的立体结构示意图。
13.图2为本实用新型的气相室，底板等零部件部分立体结构示意图。
14.图3为本实用新型的气压表，球型阀等零部件部分立体结构示意图。
15.图4为本实用新型的保护外壳，气阀等零部件部分立体结构示意图。
16.附图中的标记为：1-支撑底板，2-保护外壳，3-反应气体储存罐，4-输气管，5-球型阀，6-气压表，7-气体流量控制器，8-气相室，9-气阀，10-尾气储存罐，11-观察窗，12-气罐支架。
具体实施方式
17.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明。
18.实施例1
19.一种化学气相沉积设备的气体控制装置，如图1-图4所示，包括有支撑底板1、反应气体储存罐3、输气管4、球型阀5、气体流量控制器7和气相室8，支撑底板1右侧安装有三个反应气体储存罐3，支撑底板1左侧焊接有气相室8，气相室8用于气体反应，每个反应气体储存罐3和气相室8之间均连接有输气管4，输气管4上均连接有球型阀5，输气管4上均连接有气体流量控制器7，气体流量控制器7位于球型阀5左侧。
20.当需要使用本装置进行化学气相沉积时，将不同的气体输入进反应气体储存罐3内，使用气体流量控制器7设定不同气体进入气相室8的流量，打开球型阀5，反应气体储存罐3的气体通过输气管4进入气相室8内反应，气体充分反应，在气相室8内的反应基板上成膜后，将尾气排出即可。
21.实施例2
22.在实施例1的基础之上，如图1所示，还包括有气阀9和尾气储存罐10，尾气储存罐10放置在支撑底板1左侧，尾气储存罐10和气相室8之间连接有输气管4，输气管4上连接有气阀9。
23.当不同种类的气体在气相室8内充分反应后，打开气阀9，尾气可以通过输气管4进入尾气储存罐10内，进行储存，避免尾气直接排放到大气中，污染环境，同时尾气可以再次利用。
24.如图2所示，还包括有气压表6，每根输气管4上均连接有气压表6。
25.在气体进入输气管4后，用户可以通过气压表6直观地看到气体经过输气管4的气压，避免当输气管4内压强过高时，输气管4爆炸对用户造成损伤。
26.如图3所示，还包括有气罐支架12，每个反应气体储存罐3底部焊接有气罐支架12。
27.通过设置的气罐支架12，可以对反应气体储存罐3起到支撑作用，提高反应气体储存罐3的稳定性。
28.如图4所示，还包括有保护外壳2，支撑底板1右侧栓接有保护外壳2，反应气体储存罐3位于保护外壳2内，将反应气体储存罐3进行规整，避免反应气体储存罐3放置混乱。
29.如图4所示，还包括有观察窗11，保护外壳2上卡接有观察窗11，方便用户可以直接通过观察窗11观察反应气体储存罐3的工作状态。
30.以上所述实施例仅表达了本实用新型的优选实施方式，其描述较为具体和详细，
但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形、改进及替代，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。


技术特征：
1.一种化学气相沉积设备的气体控制装置，包括有支撑底板（1）、反应气体储存罐（3）和气相室（8），支撑底板（1）一侧安装有多个反应气体储存罐（3），支撑底板（1）上固接有气相室（8），其特征在于，还包括有输气管（4）、球型阀（5）和气体流量控制器（7），每个反应气体储存罐（3）和气相室（8）之间均连接有输气管（4），输气管（4）上均连接有球型阀（5），输气管（4）上均连接有气体流量控制器（7），气体流量控制器（7）位于球型阀（5）一侧。2.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备的气体控制装置，其特征在于，还包括有气阀（9）和尾气储存罐（10），尾气储存罐（10）放置在支撑底板（1）一侧，尾气储存罐（10）和气相室（8）之间连接有输气管（4），输气管（4）上连接有气阀（9）。3.根据权利要求2所述的一种化学气相沉积设备的气体控制装置，其特征在于，还包括有气压表（6），每根输气管（4）上均连接有气压表（6）。4.根据权利要求3所述的一种化学气相沉积设备的气体控制装置，其特征在于，还包括有气罐支架（12），每个反应气体储存罐（3）底部固接有气罐支架（12）。5.根据权利要求4所述的一种化学气相沉积设备的气体控制装置，其特征在于，还包括有保护外壳（2），支撑底板（1）一侧栓接有保护外壳（2），反应气体储存罐（3）位于保护外壳（2）内。6.根据权利要求5所述的一种化学气相沉积设备的气体控制装置，其特征在于，还包括有观察窗（11），保护外壳（2）上卡接有观察窗（11）。

技术总结
本实用新型涉及一种气体控制装置，尤其涉及一种化学气相沉积设备的气体控制装置。本实用新型要解决的技术问题是提供一种能够控制不同气体进入气相室体积量的化学气相沉积设备的气体控制装置。一种化学气相沉积设备的气体控制装置，包括有支撑底板和反应气体储存罐等；支撑底板右侧安装有至少两个反应气体储存罐。本实用新型通过气体流量控制器可以设定不同气体进入气相室的体积量，适用于成型不同薄膜或晶体，同时能够通过球型阀，控制气体进入气相室，实现不同气体定量进入气相室进行反应，反应完全的尾气，排进尾气储存罐内，避免污染环境。染环境。染环境。


技术研发人员：彭杰真
受保护的技术使用者：深圳市山禾乐科技开发有限公司
技术研发日：2022.09.30
技术公布日：2023/1/11