一种往复运行式CVD镀膜设备的制作方法

一种往复运行式cvd镀膜设备
技术领域
1.本实用新型涉及cvd镀膜技术领域，尤其涉及一种往复运行式cvd镀膜设备。


背景技术：

2.现有玻璃镀膜技术多种多样，有在线cvd镀膜工艺；也有离线镀膜玻璃工艺。在线工艺指在玻璃原板生产线上直接安装镀膜设备并进行玻璃镀膜加工的技术，包括在线cvd技术、在线喷涂技术、在线电化学镀膜技术等；而离线镀膜技术包括离线cvd技术、离线真空磁控溅射镀膜技术、离线凝胶镀膜技术等。
3.cvd技术可获得优质镀膜玻璃产品，但在线cvd镀膜技术往往会对生产线造成一些不利影响，因此离线cvd技术越来越受到业内重视。但是离线cvd技术一个很大的难题就是cvd工艺过程中，化学前驱体在经过加工设备喷嘴喷向玻璃载片时如何密封；如果镀膜前驱体气体密封失败将造成薄膜厚度失控、性能不稳、空间污染等问题，使镀膜工艺过程难以持续进行。
4.由于现有载片玻璃镀膜工艺中，cvd镀膜设备因为必须使用玻璃载片才能维持cvd镀膜过程中的基本气封，存在以下固有缺陷：一是载片反复装载所造成的工作效率大幅度下降。二是载片与玻璃基片之间存在黏连风险，当镀膜温度偏高时会造成玻璃基片与载片之间的黏连或者是玻璃基片表面光洁度、平整度的破坏。三是能耗因反复加热冷却载片而大幅度提高。四是玻璃基片因为受载片影响往往不能均匀受热，经常造成边部应力超标引发开裂破片，影响成品率。五是玻璃基片容易受到载片影响造成玻璃基片受热不均匀，影响镀膜均匀性。六是载片的反复加热、冷却极易造成载片破损，成本上升明显。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的是提供一种往复运行式cvd镀膜设备，能够在无载片的状态下实现对玻璃基板的镀膜操作，对镀膜器喷射出的化学原料气体进行密封，维持镀膜工艺的稳定性，保证镀膜效果；同时避免了利用载片带来的诸多不利影响。
6.本实用新型采用以下技术方案：
7.一种往复运行式cvd镀膜设备,包括加热炉，所述加热炉内设置有镀膜区，所述镀膜区的上方设置有镀膜器，所述镀膜器下方设置有对玻璃基板进行承载及输送的往复式传动机构；所述镀膜区内的所述加热炉体内设置有加热器。
8.优选地，所述的往复式传动机构为由陶瓷托板组成的履带式传输带。
9.优选地，所述的镀膜区两侧的所述加热炉内分别设置有加热区及退火区。
10.优选地，所述的加热区及所述退火区内均设置有与所述往复式传动机构对接的输送机构。
11.优选地，所述的输送机构为由若干间隔设置的陶瓷辊组成的输送带。
12.优选地，所述的加热区内设置有加热器，且所述加热器设置在所述加热区的上下两端。
13.优选地，所述的退火区内设置有与冷源导通连接的冷风管道，且所述冷风管道设置在所述退火区的上下两端。
14.优选地，所述的加热炉上设置有保温层。
15.与现有技术相比本实用新型的有益效果是：本实用新型通过设置往复式传动机构，能够在玻璃基板运行至其上时对玻璃基板提供平稳的支撑，并与镀膜器配合实现对玻璃基板的镀膜输送操作，有效密封镀膜器在工作中喷射出的化学原料气体，维持镀膜工艺稳定，确保获得优质镀膜产品；同时免除使用载片带来的工作效率低、成本高、能耗高等问题。
附图说明
16.图1为本申请实施例的结构示意图。
具体实施方式
17.以下将结合附图和实施例对本实用新型作以清楚和完整的说明：
18.如图1所示，本实用新型所述的一种往复运行式cvd镀膜设备,包括加热炉1，加热炉1上设置有保温层2以减少内部能量的散失，加热炉1内设置有镀膜区3，镀膜区3的上方设置有镀膜器4，通过镀膜器4喷射出的化学原料气体对玻璃基板5进行镀膜操作，镀膜器4下方设置有对玻璃基板5进行承载及输送的往复式传动机构，往复式传动机构能够对运行至其上的玻璃基板5提供支撑及输送，往复式传动机构，采用具有高温耐受性的材料加工制成，以保证在加热炉1内部的高温环境下依然能保持稳定的工作，优选地，往复式传动机构为由陶瓷托板6组成的履带式传输带，当陶瓷托板6运行至顶端时，相邻的陶瓷托板6之间紧密接触，形成对玻璃基板5承载的平面，有效密封从镀膜器4中喷射出的化学原料气体，防止化学原料气体向下流动导致镀膜厚度失控以及污染的问题，维持镀膜工艺稳定，保证获得优质镀膜产品；同时省去了对载片的使用，免除了因使用载片带来的工作效率低、成本高、能耗高等诸多问题；镀膜区3内的加热炉1体内设置有加热器7，加热器7分布在镀膜区3的上下两端，以保证镀膜区3内温度的均衡，同时确保运行中的陶瓷托板6受热均匀，从而使玻璃基板5均匀受热，可大幅度提高玻璃基板5温度均匀性，减少使用载片工艺经常出现的玻璃热不匀引起的破损，降低玻璃基板5受热不匀形成的温度差造成的镀膜质量问题。
19.镀膜区3两侧的加热炉1内分别设置有加热区8及退火区9；其中加热区8设置在镀膜区3的前端，用于对运行至镀膜区3内的玻璃基板5进行升温加热；加热区8内设置有加热器7，且加热器7设置在加热区8的上下两端，以保证玻璃基板5受热的均匀性。退火区9用于在镀膜完成后对产品进行降温处理，退火区9内设置有与冷源导通连接的冷风管道10，且冷风管道10设置在退火区9的上下两端，以保证对镀膜完成的产品进行均匀降温。此外在加热区8及退火区9内均设置有与往复式传动机构对接的输送机构，以便实现将玻璃基板5向往复式传动机构上的输入输出操作；输送机构优选设置为由若干间隔设置的陶瓷辊11组成的输送带，采用陶瓷辊11能够增强其对高温的耐受性，确保工作运行时的稳定性；陶瓷辊11的间隔设置，能够保证加热及降温冷却时热量及冷量的透过缝隙与玻璃基板5接触，保证加热及降温的效果。
20.本实用新型在工作时，玻璃基板5从加热区8加热逐渐升温，达到550
°
c以上接近软
化点时，经过前端的输送机构进入镀膜区3内往复运行的陶瓷托板6上，被回转至上部的陶瓷托板6形成的平面体托起，在镀膜器4喷出的化学原料气体下进行镀膜操作，由于运行至上方的陶瓷托板6紧密排列有效阻止了化学原料气体的下移，反应完成后及多余的化学原料气体则被镀膜器4的排气室吸收处理后排放；玻璃基板5随陶瓷托板6同步向前运行，镀膜区3内温度达到玻璃基板5软化点至750
°
c范围时，由加热炉1连接的电加热系统控制逐渐降低加热功率，玻璃基板5温度逐渐降低，达到近550
°
c脱离玻璃软化点后，经过后部的输送机构输送到退火区9的陶瓷辊11上，同步继续前行并持续退火降温至70
°
c以下后，出退火炉完成玻璃基板5的加热、镀膜、退火工序，形成表面光滑、镀膜质量稳定可控、退火应力均匀的镀膜玻璃产品。


技术特征：
1.一种往复运行式cvd镀膜设备,其特征在于：包括加热炉，所述加热炉内设置有镀膜区，所述镀膜区的上方设置有镀膜器，所述镀膜器下方设置有对玻璃基板进行承载及输送的往复式传动机构；所述镀膜区内的所述加热炉体内设置有加热器。2.根据权利要求1所述的往复运行式cvd镀膜设备,其特征在于：所述的往复式传动机构为由陶瓷托板组成的履带式传输带。3.根据权利要求1所述的往复运行式cvd镀膜设备,其特征在于：所述的镀膜区两侧的所述加热炉内分别设置有加热区及退火区。4.根据权利要求3所述的往复运行式cvd镀膜设备,其特征在于：所述的加热区及所述退火区内均设置有与所述往复式传动机构对接的输送机构。5.根据权利要求4所述的往复运行式cvd镀膜设备,其特征在于：所述的输送机构为由若干间隔设置的陶瓷辊组成的输送带。6.根据权利要求3所述的往复运行式cvd镀膜设备,其特征在于：所述的加热区内设置有加热器，且所述加热器设置在所述加热区的上下两端。7.根据权利要求3所述的往复运行式cvd镀膜设备,其特征在于：所述的退火区内设置有与冷源导通连接的冷风管道，且所述冷风管道设置在所述退火区的上下两端。8.根据权利要求1所述的往复运行式cvd镀膜设备,其特征在于：所述的加热炉上设置有保温层。

技术总结
本实用新型涉及CVD镀膜技术领域，公开了一种往复运行式CVD镀膜设备,包括加热炉，所述加热炉内设置有镀膜区，所述镀膜区的上方设置有镀膜器，所述镀膜器下方设置有对玻璃基板进行承载及输送的往复式传动机构；所述镀膜区内的所述加热炉体内设置有加热器；本实用新型，能够在无载片的状态下实现对玻璃基板的镀膜操作，对镀膜器喷射出的化学原料气体进行密封，维持镀膜工艺的稳定性，保证镀膜效果；同时避免了利用载片带来的诸多不利影响。避免了利用载片带来的诸多不利影响。避免了利用载片带来的诸多不利影响。


技术研发人员：李西平 周鹏华 舒尊启 梅芳 王大鹏 陶奎任
受保护的技术使用者：宸亚（兰考县）科技有限公司
技术研发日：2022.10.27
技术公布日：2023/3/23