专利名称：真空溅射镀膜机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种真空溅射镀膜装置。
中国专利ZL94219770.4公开了一种卧式真空镀膜机，其缺点是只能镀膜平面材料，而不能镀膜弧形面材料特别是玻璃材料，且设备成本高，占地面积大。
本实用新型的目的是设计一种能镀膜弧形材料特别是弧形玻璃的立式真空溅射镀膜机。
本实用新型包括一个真空炉，其外联接有扩散泵、机械泵、滑阀真空泵、罗茨真空泵与传动减速装置，炉体顶部设有导气管，真空炉为立式，炉体底部装有弧形导轨，其上装有由传动减速装置控制的可沿导轨移动的靶座，真空炉的炉门为弧形。
本实用新型采用立式真空炉，设备成本低，占地面积小，其中弧形导轨与弧形夹具可随弧形材料的弧度更换，从而可以镀各种规格的弧形材料，且成品的镀层均匀、牢固，光洁度好，广泛应用于建筑、装璜等领域。
图1为本实用新型的结构示意图图2为
图1中炉体1的正面示意图。
本实用新型的实施例如下立式真空炉包括炉体1与弧形炉门2，炉体背面联接有滑阀真空泵15、罗茨真空泵14、扩散泵11、机械泵12及传动减速装置13，炉体顶端设有导气管10。炉门底部装有夹具3，炉体底部装有弧形导轨8，其上装有可移动的靶座5，靶座上固定有两个靶6，传动减速装置13通过滑轮9与牵引绳控制靶座在导轨上移动。
工作时，将钛靶6固定在靶座上，弧形玻璃4固定在夹具3上后关上炉门2。先启动滑阀真空泵15与罗茨真空泵14预抽，然后启动机械泵12、扩散泵11将炉内抽真空，从导气管10向炉内通入氩气。通过金属软管7中的导线向钛靶6通电，调节靶电流使钛靶正常辉光放电，此时氩气被电离为Ar+后向钛靶高速撞击，将钛以原子形式撞出并溅射到弧形玻璃表面形成镀膜层，同时启动传动减速装置13控制靶座沿导轨8移动，完成整个弧面的镀膜。
如为了保护钛膜，还可以再镀一层耐蚀层，本实施例采用不锈钢1Cr18Ni9Ti作靶材，重复以上步骤再镀一层不锈钢膜。
权利要求一种真空溅射装置，包括一个真空炉，其外联接有扩散泵、机械泵、滑阀真空泵、罗茨真空泵与传动减速装置，炉体顶部设有导气管，其特征是真空炉为立式，炉体底部装有弧形导轨，其上装有由传动减速装置控制的可沿弧形导轨移动的靶座，真空炉的炉门为弧形。
专利摘要一种真空溅射装置,包括一个真空炉,其外联接有扩散泵、机械泵、滑阀真空泵、罗茨真空泵与传动减速装置,炉体顶部设有导气管,真空炉为立式,炉体底部装有弧形导轨,其上装有由传动减速装置控制的可沿弧形导轨移动的靶座,真空炉的炉门为弧形。本实用新型,设备成本低,占地面积小,可以镀各种规格的弧形材料,且成品的镀层均匀、牢固,光洁度好,广泛应用于建筑、装璜等领域。
文档编号C23C14/34GK2300656SQ97235969
公开日1998年12月16日 申请日期1997年5月6日 优先权日1997年5月6日
发明者沈琪, 张小清 申请人:常州市太湖磁控溅射技术研究所