衬底托盘、衬底定位方法及衬底定位系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及金属有机化合物化学气相沉淀技术领域，更为具体的说，涉及一种衬底托盘、衬底定位方法及衬底定位系统。
【背景技术】
[0002]MOCVD (Metal-organic Chemical Vapor Deposit1n，金属有机化合物化学气相沉淀)是用来外延各种II1-V族、I1-VI族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料的一种重要技术。MOCVD技术特点是可以精确控制和生长具有多种不同原子层结构的材料，MOCVD在材料结构比较复杂的应用领域有着不可替代性。
[0003]MOCVD生长工艺过程中，需要对衬底表面的薄膜反射率等参数进行监控测量。具体的，结合图1a和图1b所示，对现有的MOCVD设备进行具体说明，其中，图1为现有的一种MOCVD设备的结构示意图，图2为现有的一种衬底托盘的结构示意图，MOCVD设备包括:反应室100、监控装置200等单元，其中，反应室100内设置有转轴101和被转轴带动而转动的衬底托盘102。衬底托盘102上设置有多个沿反射率监控圆环1021设置的多个等间隔的衬底放置区1022，监控装置200用于输出入射光至反射率监控圆环1021上某一点，通过转轴101带动衬底托盘102转动时，沿反射率监控圆环1021实时采集反射率数据。
[0004]现有的MOCVD设备中，转轴和衬底托盘之间的关系分为固定和不固定两类。其中，转轴和衬底托盘不固定的MOCVD设备，衬底托盘的自平衡可以使石墨托盘高速旋转，但是由于衬底托盘与转轴之间不固定，衬底托盘在加速、减速或高速旋转时，衬底托盘与转轴之间会发生滑移，因此很难在采集的反射率数据中确定数据与衬底之间的对应关系。
【发明内容】
[0005]有鉴于此，本发明提供了一种衬底托盘、衬底定位方法及衬底定位系统，通过在衬底托盘的第一间隔至第N间隔中设置至少一个定位间隔，进而通过相邻衬底放置区的间隔的距离和反射率柱形图中相邻柱形的间隔的距离对定位间隔进行确定，并通过衬底托盘的转动方向以最终定位衬底。
[0006]为实现上述目的，本发明提供的技术方案如下:
[0007]—种衬底托盘，所述衬底托盘设置有多个沿反射率监控圆环间隔设置的第一衬底放置区至第N衬底放置区；
[0008]其中，自所述第一衬底放置区起，相邻两个衬底放置区的间隔分别为第一间隔至第N间隔，所述第一间隔至第N间隔中包括有至少一个定位间隔，且其余间隔的距离相同，所述定位间隔的距离与任意相邻衬底放置区的间隔的距离不同，N为不小于2的整数。
[0009]优选的，所述第一间隔至第N间隔中包括有一个定位间隔。
[0010]优选的，所述衬底托盘为石墨托盘。
[0011]优选的，所述石墨托盘表面还形成有耐高温包覆涂层。
[0012]相应的，本发明还提供了一种衬底定位方法，应用于MOCVD生长工艺中沿反射率监控圆环实时采集衬底托盘上衬底表面的薄膜的反射率的过程，所述衬底托盘为上述的衬底托盘，所述衬底定位方法包括:
[0013]获取采集的反射率数据；
[0014]根据所述反射率数据绘制反射率柱形图；
[0015]根据所述衬底托盘的转动方向、相邻衬底放置区的间隔的距离和反射率柱形图中相邻柱形的间隔的距离，确定所述反射率柱形图中每个柱形所对应的衬底。
[0016]相应的，本发明还提供了一种衬底定位系统，用于上述的衬底定位方法，其中，所述衬底定位系统包括:
[0017]获取单元，所述获取装置用于获取采集的反射率数据；
[0018]绘图单元，所述绘图单元用于根据所述反射率数据绘制反射率柱形图；
[0019]以及，定位单元，所述定位单元用于根据所述衬底托盘的转动方向、相邻衬底放置区的间隔的距离和反射率柱形图中相邻柱形的间隔的距离，确定所述反射率柱形图中每个柱形所对应的衬底。
[0020]相应的，本发明还提供了一种衬底定位方法，应用于MOCVD生长工艺中沿反射率监控圆环实时采集衬底托盘上衬底表面的薄膜的反射率的过程，所述衬底托盘为上述的衬底托盘，所述衬底定位方法包括:
[0021]获取采集的反射率数据；
[0022]以预设周期将所述反射率数据划分为多个数据组；
[0023]对所述数据组绘制反射率柱形图；
[0024]根据所述衬底托盘的转动方向、相邻衬底放置区的间隔的距离和反射率柱形图中相邻柱形的间隔的距离，确定所述反射率柱形图中每个柱形所对应的衬底。
[0025]优选的，所述预设周期为带动所述衬底托盘转动的转轴每转动一圈的时间。
[0026]优选的，所述转轴通过伺服电机带动，以带动所述衬底托盘转动，其中，通过获取伺服电机每转动一圈发送的触发信号确定所述转轴每转动一圈的时间。
[0027]优选的，对所述数据组绘制反射率柱形图的同时，还包括:
[0028]以第一个数据组所对应的反射率柱形图为参考，对后续每一数据组所对应的反射率柱形图进行平移，保证与所述第一个数据组所对应的反射率柱形图的相位一致。
[0029]相应的，本发明还提供了一种衬底定位系统，用于上述的衬底定位方法，其中，所述衬底定位系统包括:
[0030]获取单元，所述获取装置用于获取采集的反射率数据；
[0031]分组单元，所述分组单元用于以预设周期将所述反射率数据划分为多个数据组；
[0032]绘图单元，所述绘图单元用于对所述数据组绘制反射率柱形图；
[0033]以及，定位单元，所述定位单元用于根据所述衬底托盘的转动方向、相邻衬底放置区的间隔的距离和反射率柱形图中相邻柱形的间隔的距离，确定所述反射率柱形图中每个柱形所对应的衬底。
[0034]相较于现有技术，本发明提供的技术方案至少具有以下优点:
[0035]本发明提供了一种衬底托盘、衬底定位方法及衬底定位系统，所述衬底托盘设置有多个沿反射率监控圆环间隔设置的第一衬底放置区至第N衬底放置区；其中，自所述第一衬底放置区起，相邻两个衬底放置区的间隔分别为第一间隔至第N间隔，所述第一间隔至第N间隔中包括有至少一个定位间隔，且其余间隔的距离相同，所述定位间隔的距离与任意相邻衬底放置区的间隔的距离不同，N为不小于2的整数。
[0036]由上述内容可知，本发明提供的技术方案，在沿反射率监控圆环实时采集衬底托盘上衬底表面的薄膜的反射率的过程中，获取采集反射率数据并绘制为反射率柱形图，由于在衬底托盘的第一间隔至第N间隔中设置至少一个定位间隔，进而通过相邻衬底放置区的间隔的距离和反射率柱形图中相邻柱形的间隔的距离对定位间隔进行确定，并通过衬底托盘的转动方向，以最终确定发射率柱形图中每个柱形所对应的衬底。
【附图说明】
[0037]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
[0038]图1a为现有的一种MOCVD设备的结构示意图；
[0039]图1b为现有的一种衬底托盘的结构示意图；
[0040]图2a为本申请实施例提供的一种衬底托盘的结构不意图；
[0041]图2b为本申请实施例提供的一种MOCVD设备的结构示意图；
[0042]图3a为本申请实施例提供的一种衬底定位方法的流程图；
[0043]图3b为本申请实施例提供的一种衬底定位系统的结构示意图；
[0044]图4a为本申请实施例提供的另一种衬底定位方法的流程图；
[0045]图4b为本申请实施例提供的另一种衬底定位系统的结构示意图。
【具体实施方式】
[0046]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0047]正如【背景技术】所述，现有的MOCVD设备中，转轴和衬底托盘之间的关系分为固定和不固定两类。其中，转轴和衬底托盘不固定的MOCVD设备，衬底