磁控溅射镀膜设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及磁控溅射中除尘技术领域，特别涉及一种磁控溅射镀膜设备。
【背景技术】
[0002]磁控溅射为工业镀膜中广泛使用的工艺，其主要通过磁控溅射镀膜设备对基材进行镀膜。随着科学技术的不断进步，人们对磁控溅射的技术要求越来越高。
[0003]传统的磁控溅射镀膜设备在对基材进行镀膜时，磁控溅射镀膜设备通过靶材对基材进行镀膜，由于磁控溅射镀膜设备在工作时，溅射过程产生大量的粉尘，粉尘依附在靶材的非溅射区域。磁控溅射镀膜设备长时间工作后，当基材正位于靶材下方镀膜时，位于靶材非溅射区域内粉尘的重力大于粉尘在靶材上的附着力时，粉尘在自身重力的作用下下落至基材表面，基材上被掉落的粉尘覆盖的区域在进行靶材镀膜时无法被镀上膜层，基材在通过磁控溅射工段之后，基材上会出现簇状脱膜区域。
[0004]为了减少基材在镀膜时被掉落的粉尘干扰，工作人员需要整体停机破空将靶材调离机台，工作人员对靶材非溅射区域的粉尘进行清理，然后再将靶材装入磁控溅射镀膜设备上，接着将磁控溅射镀膜设备内部腔体抽真空，由于靶材与外界空气接触还需要练靶，进而除去靶材表面的氧化层，然后磁控溅射镀膜设备才能进行生产，导致磁控溅射镀膜设备除尘时间较长，使得磁控监测镀膜设备的稼动率较低。
[0005]因此，如何解决由于磁控溅射镀膜设备除尘时间长，导致稼动率低的问题，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
【实用新型内容】
[0006]本实用新型的目的是提供一种磁控溅射镀膜设备，以减少由于磁控溅射镀膜设备除尘时间长，导致稼动率低的情况。
[0007]为实现上述目的，本实用新型提供一种磁控溅射镀膜设备，包括壳体，还包括除尘装置，所述除尘装置包括吸盘、除尘磨头、干泵及用于带动所述吸盘和所述除尘磨头沿靶材非溅射区域长度方向移动的除尘移动装置，所述除尘磨头安装在所述吸盘内腔，且顶端高于所述吸盘顶端，所述吸盘内腔与所述干泵吸口连通，所述吸盘、所述除尘磨头及所述除尘移动装置均安装在所述壳体的腔室内。
[0008]优选地，所述除尘移动装置包括伸缩装置、支撑臂、滑动件及与所述滑动件滑动连接的导轨，所述导轨沿靶材非溅射区域长度方向设置，所述支撑臂一端与所述吸盘固定连接，另一端与所述滑动件固定连接，所述伸缩装置的伸缩端与所述滑动件连接，且用于带动所述滑动件在导轨上移动，所述滑动件和所述导轨一者上设有滑槽，另一者上设有位于所述滑槽内的限位块。
[0009]优选地，所述伸缩装置为气缸。
[0010]优选地，还包括弹性限位件，所述弹性限位件一端与所述吸盘固定，另一端与所述除尘磨头下表面固定，所述除尘装置在工作时，所述弹性限位件处于压缩状态。
[0011]优选地，所述除尘磨头为砂纸。
[0012]优选地，所述除尘移动装置包括移动杆及用于带动所述移动杆沿靶材非溅射区域长度方向移动的滑轨气缸，所述移动杆一端与所述滑轨气缸连接，另一端与所述吸盘连接。
[0013]优选地，所述干泵为所述磁控溅射镀膜设备主体上的泵体。
[0014]优选地，所述干泵通过波纹管与所述吸盘内部腔体连通。
[0015]在上述技术方案中，本实用新型提供的磁控溅射镀膜设备包括壳体、除尘装置，其中，除尘装置包括吸盘、除尘磨头、干泵及用于带动吸盘和除尘磨头沿靶材非溅射区域长度方向移动的除尘移动装置，除尘磨头安装在吸盘内腔，且顶端高于吸盘顶端，吸盘内腔与干泵吸口连通，吸盘、除尘磨头及除尘移动装置均安装在壳体的腔室内。除尘装置在工作时，除尘磨头与靶材非溅射区域内的粉尘接触，除尘移动装置带动除尘磨头沿靶材非溅射区域长度方向移动，干泵工作，将落于吸盘内的粉尘吸出。当除尘磨头移动至靶材非溅射区域最远端时，除尘移动装置反向带动除尘磨头回位。
[0016]通过上述描述可知，在本实用新型提供的磁控溅射镀膜设备中，通过除尘磨头清理靶材上的粉尘，粉尘在重力和干泵吸力的作用下下落，最终被干泵吸出，除尘移动装置带动吸盘移动，使得靶材上的粉尘吸出，避免清洗靶材上粉尘时需要将靶材取出清洗的情况，省去了磁控溅射镀膜设备抽真空和除去靶材氧化膜的时间，减少由于磁控溅射镀膜设备除尘时间长，导致稼动率低的情况。
【附图说明】
[0017]图1为本实用新型实施例所提供的除尘装置的结构示意图；
[0018]图2为图1所示除尘装置的俯视图；
[0019]图3为图1所述除尘装置的侧视图；
[0020]图4为本实用新型实施例所提供的伸缩装置的结构示意图；
[0021]图5为本实用新型实施例所提供的磁控溅射镀膜设备的结构示意图。
[0022]其中图1-5中:1-除尘磨头、2-吸盘、3-弹性限位件、4_移动杆、5_滑轨气缸、6_靶材、7-泵组、8-波纹管、9-电磁阀、10-靶材非溅射区域、11-腔室、12-靶座、13-阴极。
【具体实施方式】
[0023]本实用新型的核心是提供一种磁控溅射镀膜设备，以减少由于磁控溅射镀膜设备除尘时间长，导致稼动率低的情况。
[0024]为了使本领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和实施方式对本实用新型作进一步的详细说明。
[0025]请参考图1至图5，在一种【具体实施方式】中，本实用新型提供的磁控溅射镀膜设备包括壳体、靶材6、靶座12、阴极13和除尘装置，靶材6安装在靶座12上，靶材6、阴极13和靶座12均安装在壳体的腔室11内部。除尘装置包括吸盘2、除尘磨头1、干泵及用于带动吸盘2和除尘磨头I沿靶材非溅射区域10长度方向移动的除尘移动装置，吸盘2、除尘磨头I及除尘移动装置均安装在壳体的腔室11内。除尘磨头I安装在吸盘2内腔，且顶端高于吸盘2顶端，具体的，为了便于有效收集粉尘，优选，除尘磨头I位于吸盘2内腔中心位置，具体的，除尘磨头I可以为清洗布，为了提高除尘磨头I的除尘效果，优选，除尘磨头I为砂纸。吸盘2内腔与干泵吸口连通，具体的，干泵通过具有一定长度的软管与吸盘2内腔连通，为了避免吸盘2内腔回位时，软管缠绕的情况，优选，干泵通过波纹管8与吸盘2内腔连通。具体的，除尘位移装置具体可以为伸缩缸，伸缩缸的伸缩端与吸盘2固定，用于带动吸盘2沿靶材非溅射区域10长度方向移动。
[0026]磁控溅射镀膜设备在工作时，靶材6停止镀膜工作，除尘磨头I与靶材非溅