磁控溅射镀膜设备的制造方法_2

文档序号:8765569阅读:来源:国知局
射区域10内的粉尘接触,除尘移动装置带动除尘磨头I沿靶材非溅射区域10长度方向移动,干泵工作,将落于吸盘2内的粉尘吸出。当除尘磨头I移动至靶材非溅射区域10最远端时,除尘移动装置反向带动除尘磨头I回位。
[0027]通过上述描述可知,在本实用新型具体实施例所提供的磁控溅射镀膜设备中,通过除尘磨头I清理靶材6上的粉尘,粉尘在重力和干泵吸力的作用下下落,最终被干泵吸出,除尘移动装置带动吸盘2移动,使得靶材6上的粉尘吸出,避免清洗靶材6上粉尘时需要将靶材6取出清洗的情况,省去了磁控溅射镀膜设备抽真空和除去靶材6氧化膜的时间,解决由于磁控溅射镀膜设备除尘时间长,导致的稼动率低的问题。
[0028]优选的,除尘移动装置包括伸缩装置、支撑臂、滑动件及与滑动件滑动连接的导轨,具体的,伸缩装置可以为液压缸、气缸、伸缩杆等,导轨沿靶材非溅射区域10长度方向设置,支撑臂一端与吸盘2固定连接,另一端与滑动件固定连接,伸缩装置的伸缩端与滑动件连接,且用于带动滑动件在导轨上移动,滑动件和导轨一者上设有滑槽,另一者上设有位于滑槽内的限位块。除尘位移装置在工作时,伸缩装置带动滑动件移动,滑动件带动支撑臂移动,支撑臂带动吸盘2移动,进而进行粉尘清除工作。由于支撑臂带动吸盘2移动,且支撑臂位于靶材非溅射区域10侧面,长度短于靶材非溅射区域10长度,使得吸盘2在移动过程中更加平稳,便于有效清除粉尘。
[0029]更为优选的,除尘移动装置包括移动杆4及用于带动移动杆4沿靶材非溅射区域10长度方向移动的滑轨气缸5,具体的,可以由电磁阀9控制滑轨气缸5运动,移动杆4 一端与滑轨气缸5连接,另一端与吸盘2连接。通过滑轨气缸5带动移动杆4移动,进而实现吸盘2移动,由于滑轨气缸5直接可以买到,有效地降低了工作人员加工除尘移动装置的劳动强度。
[0030]进一步,该除尘装置还包括弹性限位件3,弹性限位件3 —端与吸盘2固定,另一端与除尘磨头I下表面固定,除尘装置在工作时,弹性限位件3处于压缩状态。具体的,该弹性限位件3可以为波纹管8,为了降低弹性限位件3的制造成本,优选,该弹性限位件3为弹簧。通过设置弹性限位件3,使得除尘装置在工作时,保证除尘磨头I保持与靶材非溅射区域10接触,提高了除尘装置的除尘效果,提高了基材的镀膜质量。
[0031]更进一步,该磁控溅射镀膜还包括截止阀,干泵为磁控溅射镀膜设备主体上的泵组7,截止阀位于干泵与吸盘2的通路上。当然,除尘装置的干泵可以为除尘装置独立设置的干泵。由于除尘装置上的气源由磁控溅射镀膜设备上的干泵提供,有效地降低了除尘装置的制造成本。
[0032]本说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
[0033]对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
【主权项】
1.一种磁控溅射镀膜设备,包括壳体,其特征在于,还包括除尘装置,所述除尘装置包括吸盘(2)、除尘磨头(I)、干泵及用于带动所述吸盘(2)和所述除尘磨头(I)沿靶材非溅射区域(10)长度方向移动的除尘移动装置,所述除尘磨头(I)安装在所述吸盘(2)内腔,且顶端高于所述吸盘(2)顶端,所述吸盘(2)内腔与所述干泵吸口连通,所述吸盘(2)、所述除尘磨头(I)及所述除尘移动装置均安装在所述壳体的腔室(11)内。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述除尘移动装置包括伸缩装置、支撑臂、滑动件及与所述滑动件滑动连接的导轨,所述导轨沿靶材非溅射区域(10)长度方向设置,所述支撑臂一端与所述吸盘(2)固定连接,另一端与所述滑动件固定连接,所述伸缩装置的伸缩端与所述滑动件连接,且用于带动所述滑动件在导轨上移动,所述滑动件和所述导轨一者上设有滑槽,另一者上设有位于所述滑槽内的限位块。
3.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述伸缩装置为气缸。
4.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,还包括弹性限位件(3),所述弹性限位件(3) —端与所述吸盘(2)固定,另一端与所述除尘磨头(I)下表面固定,所述除尘装置在工作时,所述弹性限位件(3)处于压缩状态。
5.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述除尘磨头(I)为砂纸。
6.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述除尘移动装置包括移动杆(4)及用于带动所述移动杆(4)沿靶材非溅射区域(10)长度方向移动的滑轨气缸(5),所述移动杆(4) 一端与所述滑轨气缸(5)连接,另一端与所述吸盘(2)连接。
7.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述干泵为所述磁控溅射镀膜设备主体上的泵组(7)。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于,所述干泵通过波纹管(8)与所述吸盘(2)内部腔体连通。
【专利摘要】本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜设备包括壳体、除尘装置,其中除尘装置包括吸盘、除尘磨头、干泵及用于带动吸盘和除尘磨头沿靶材非溅射区域长度方向移动的除尘移动装置,除尘磨头安装在吸盘内腔,且顶端高于吸盘顶端,吸盘内腔与干泵吸口连通,吸盘、除尘磨头及除尘移动装置均安装在壳体的腔室内。在本实用新型提供的磁控溅射镀膜设备中,通过除尘磨头清理靶材上的粉尘,粉尘在重力和干泵吸力的作用下下落,最终被干泵吸出,除尘移动装置带动吸盘移动,使得靶材上的粉尘吸出,避免清洗靶材上粉尘时需要将靶材取出清洗的情况,省去了磁控溅射镀膜设备抽真空和除去靶材氧化膜的时间,解决由于磁控溅射镀膜设备除尘时间长,导致的稼动率低的问题。
【IPC分类】C23C14-35
【公开号】CN204474751
【申请号】CN201520146699
【发明人】蒋文彬, 李宁, 孙忠, 黄智 , 林锦华, 梁师国, 英文, 李保良
【申请人】海南汉能薄膜太阳能有限公司
【公开日】2015年7月15日
【申请日】2015年3月16日
当前第2页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1