V法铸造用连续负压输送系统的制作方法

文档序号:10835604阅读:311来源:国知局
V法铸造用连续负压输送系统的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种V法铸造用连续负压输送系统,其特征在于,包括:滑块,滑块上设置有第二接口以与砂箱上的第一接口相连接,滑块经配置以与所述砂箱做同步运动;滑槽,滑块与滑槽接触并能在所述滑槽中进行气密性滑动,滑槽上设置有一个以上抽气孔以向所述滑块提供负压且经由所述滑块向所述砂箱提供负压;还包括负压提供装置,其包括提供负压的负压源及与所述负压源相连接的负压输送管道,所述负压输送管道连接至所述滑槽以向所述滑槽输送由所述负压源提供的负压。本实用新型在砂型输送的过程中不需要停顿,并且可以实现多型紧密型同时输送,极大地提高了输送效率,进而也提高了铸造造型的效率。同时,还能为实现对铸型的压力受控浇注创造条件。
【专利说明】
V法铸造用连续负压输送系统
技术领域
[0001]本实用新型涉及V法铸造工艺。更具体地,本实用新型涉及一种V法铸造用连续负压输送系统,即用于在V法铸造工艺中向砂箱提供连续负压的系统。
【背景技术】
[0002]V法铸造为负压铸造或称真空密封造型的一种常用方法,它区别于传统翻砂铸造的一个最大特点在于靠真空抽气系统抽出型内空气而实现铸型。也就是说,V法铸造的铸型是靠负压产生的压力差使处于密封状态的砂粒受到压力而在相互之间产生摩擦力而达到固型。因此,V法铸造在造型、输送直到浇注完毕都必须使铸型始终保持一定负压才能维持铸型不坍塌。由此,自动化V法铸造生产线的输送系统的一个重要功能就在于能够向砂箱或铸型提供连续、高效、稳定的负压。
[0003]然而,现有技术中常用的输送系统却无法实现这一目标。具体地,在现有技术中,铸型被放置在专用托盘上以向目标工位(例如浇注工位)行进。为了向铸型提供负压,铸型要在行进过程中停留在预设点处完成负压管的自动交替对接。
[0004]因此,现有技术中需要一种能够克服上述缺点的,向砂型提供连续、稳定、高效的负压的系统。
【实用新型内容】
[0005]为了解决上述问题,本实用新型提供一种V法铸造用连续负压输送系统,其包括:滑块,所述滑块上设置有第二接口以与砂箱上的第一接口相连接,所述滑块经配置以与所述砂箱做同步运动;滑槽,所述滑块与滑槽接触并能在所述滑槽中进行气密性滑动,所述滑槽上设置有一个以上抽气孔以向所述滑块提供负压且经由所述滑块向所述砂箱提供负压。
[0006]进一步的,还包括:负压提供装置,其包括提供负压的负压源及与所述负压源相连接的负压输送管道,所述负压输送管道连接至所述滑槽以向所述滑槽输送由所述负压源提供的负压。
[0007]进一步的,还包括:一个以上电磁阀,所述电磁阀设置在所述负压输送管道和所述滑槽的所述抽气孔之间,以控制所述负压源的开启和关闭。
[0008]进一步的,还包括:触发部件,其设置在所述滑块上;和一个以上传感器,所述传感器与所述电磁阀一一对应连接,其中,当所述砂箱移动时,所述触发部件被触发进而使得所述传感器启动,从而开启或关闭所述电磁阀。
[0009]进一步的,所述传感器包括接近开关和行程开关中的至少一者。
[0010]进一步的,所述触发部件的长度M与所述传感器的间距N的关系应满足:M/N>I。
[0011]进一步的,所述滑块的运动由驱动所述砂箱运动的驱动件来控制。
[0012]进一步的,所述驱动件包括位于砂箱小车上的拔杆和位于所述砂箱与托辊之间的托盘上的拔杆中的至少一者。
[0013]进一步的,所述滑块的长度L与相邻的所述抽气孔之间的间距L’的关系应满足:L/L’ > I。
[0014]进一步的,所述抽气孔的直径D的取值与所述砂箱的大小匹配,D的取值范围为:20_30mmo
[0015]相较于现有技术,本实用新型的在V法铸造工艺中向砂箱提供连续负压的系统在砂型输送的过程中不需要停顿,并且可以实现多型紧密型同时输送,极大地提高了输送效率,进而也提高了铸造造型的效率。同时,还能为实现对铸型的压力受控浇注创造条件。
【附图说明】
[0016]附图1示出了V法铸造用连续负压输送系统的示意图;
[0017]附图2示出了V法铸造用连续负压输送系统中的滑块结构的俯视的示意图;
[0018]附图3示出了V法铸造用连续负压输送系统中的滑块结构的正视的示意图;
[0019]附图4示出了V法铸造用连续负压输送系统中的滑块结构的A-A剖视的示意图;
[0020]附图5示出了与V法铸造用连续负压输送系统中的滑块连接的砂箱俯视的示意图;
[0021]附图6示出了与V法铸造用连续负压输送系统中的滑块连接的砂箱正视的示意图。
【具体实施方式】
[0022]如下,结合附图及优选实施例对根据本实用新型实施例的在V法铸造工艺中向砂箱提供连续负压的系统做更详细地描述。图1示出了根据本实用新型一实施例的V法铸造用连续负压输送系统的示意图。如图1-6所示,该系统包括砂箱11,滑块I和滑槽5。砂箱11为V法铸造中常用的砂箱,其上设置有第一接口 12以用于使负压接入砂箱11内。
[0023]滑块I被提供在滑槽5上,滑块I与滑槽5接触并能在滑槽5中进行气密性滑动。本领域技术人员可以理解,气密性滑动是指滑动时不漏气。特别地,使滑块I与滑槽5的滑动面均是密鼓的从而达到使二者在运动时不漏气的效果。滑块I经配置以与砂箱11做同步运动。进一步地,滑块I上设置有第二接口 2,本领域技术人员可以理解,该接口也可以设置为接头,其可与砂箱11上的第一接口 12相连从而将负压环境连续地提供至砂箱11内部。滑块I上还设置有用于固定、定位的定位螺栓4。
[0024]滑槽5是一固定装置,其通过底座与地基紧固性连接。滑槽5的安放方式是不受限制的。根据生产线的不同要求,滑槽5的与滑块I接触的滑面可以向上放置,也可以向下放置,还可以垂直放置。进一步地,滑槽5上设置有一个以上抽气孔6,这些抽气孔6可以用于对滑块I进行抽气,进而对砂箱11内部进行抽气以实现砂箱11内部保持负压环境。抽气孔之间的距离L’与滑块I的长度L和所需负压环境,例如负压强度,流速等有关。滑块I的长度L与抽气孔间距L’的关系应满足如下条件:L/L’ > 1,也就是说,滑块I的长度应至少能密封一个抽气孔6。
[0025]本实用新型的系统进一步包括负压提供装置,其包括提供负压环境的负压源和与负压源相连接并向外输送负压的负压输送管道13。在本实用新型中,负压输送管道13连接至所述滑槽20上的抽气孔6以向所述滑槽提供由所述负压源提供的负压。
[0026]进一步地,为了实现对抽气孔的控制,本实用新型的系统还包括一个以上电磁阀
8、一个以上传感器和一个以上触发部件10。触发部件10还包括触发部件连接件7。传感器和电磁阀一一对应,或者一个传感器可用于控制多个电磁阀。本领域技术人员可以理解,传感器可以采用压力传感器,而且还可以对应地设置与其匹配的专用控制装置或系统,在充型浇注时,根据产品结构确定浇注时砂型负压,从而实现对铸型的压力受控浇注。
[0027]在一个实施例中,触发部件10设置在滑块I上,传感器与电磁阀8电连接,且电磁阀8设置在负压输送管道13和滑槽5的抽气孔6之间以接通和关断负压源提供的负压。
[0028]砂箱11的运动由与其对应匹配的驱动件来驱动控制,滑块I的运动由驱动砂箱11运动的该驱动件来驱动控制而与砂箱11做同步运动。该驱动件为砂箱的小车上的拔杆和位于该砂箱11与托辊之间的托盘(或托架)上的拔杆中的至少一者,在一个实施例中,该驱动件为砂箱11的小车上的拔杆3。当砂箱11由输送小车或托辊带动而在预定轨道上移动,触发部件10检测到砂箱11已经移动到预定位置时,触发部件10被触发并触发传感器,进而开启和关闭对应的电磁阀8。电磁阀8处于开启状态时,负压源提供的负压可以经由负压输送管道13输入至滑槽5,进而经由抽气孔6提供至滑块I并最终提供至砂箱11的内部。电磁阀8处于关闭状态时,负压无法到达砂箱11内部。
[0029 ]触发部件1在滑块I滑动的前进方向上被逐一触发并使得与其对应的电磁阀逐一被开启,触发部件10的长度M与传感器的间距N之间的关系应当满足如下条件:M/N > I。该比例关系确保了滑块I在运动过程中能够启动至少一个电磁阀进而打开至少一个与之对应的抽气孔6而对砂箱11进行抽气。
[0030]传感器包括接近开关和行程开关中的至少一者,在一具体的实施例中,优选的,其为接近开关9。电磁阀8包括但不限于液压电磁阀、气动电磁阀等。
[0031]抽气孔之间的间距、直径D和电磁阀的型号要根据砂箱大小来确定。抽气孔的直径D的取值与所述砂箱的大小匹配,D的取值范围为:20-30_。在一个具体实施例中,以砂箱为1400mm X 2000mm为例,抽气孔之间的间距为80mm,抽气孔的直径为25_30mm即可。
[0032]本领域技术人员可以理解,附图1仅仅示出了连续输送负压系统的一部分,在生产线上,连续负压输送系统从造型区一直延伸到打箱区。也就是说,滑槽5从造型区一直延伸到打箱区,电磁阀、传感器和触发部件也在整个区域上分布。
[0033]相较于现有技术,本实用新型的在V法铸造工艺中向砂箱提供连续负压的系统在砂型输送的过程中不需要停顿,并且可以实现多型紧密型同时输送。
[0034]本实用新型的
【申请人】结合说明书附图对本实用新型的实施例做了详细的说明与描述,但是本领域技术人员应该理解,以上实施例仅为本实用新型的一种实施例,仅用于说明本实用新型,其中各部件的结构、连接方式等都是可以变化的,详尽的说明只是为了帮助读者更好地理解本实用新型精神,而并非对本实用新型保护范围的限制,相反,任何基于本实用新型的精神所作的任何改进或修饰以及等同变换和改进均不应排除在本实用新型的保护范围之外。
【主权项】
1.一种V法铸造用连续负压输送系统,其特征在于,包括: 滑块,所述滑块上设置有第二接口以与砂箱上的第一接口相连接,所述滑块经配置以与所述砂箱做同步运动; 滑槽,所述滑块与滑槽接触并能在所述滑槽中进行气密性滑动,所述滑槽上设置有一个以上抽气孔以向所述滑块提供负压且经由所述滑块向所述砂箱提供负压。2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,进一步包括: 负压提供装置,其包括提供负压的负压源及与所述负压源相连接的负压输送管道,所述负压输送管道连接至所述滑槽以向所述滑槽输送由所述负压源提供的负压。3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,进一步包括: 一个以上电磁阀,所述电磁阀设置在所述负压输送管道和所述滑槽的所述抽气孔之间,以控制所述负压源的开启和关闭。4.根据权利要求3所述的系统,其特征在于,进一步包括: 触发部件,其设置在所述滑块上;和 一个以上传感器,所述传感器与所述电磁阀--对应连接, 其中,当所述砂箱移动时,所述触发部件被触发进而使得所述传感器启动,从而开启或关闭所述电磁阀。5.根据权利要求4所述的系统,其特征在于,所述传感器包括接近开关和行程开关中的至少一者。6.根据权利要求5所述的系统,其特征在于,所述触发部件的长度M与所述传感器的间距N的关系应满足:M/N> 107.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述滑块的运动由驱动所述砂箱运动的驱动件来控制。8.根据权利要求7所述的系统,其特征在于,所述驱动件包括位于砂箱小车上的拔杆和位于所述砂箱与托辊之间的托盘上的拔杆中的至少一者。9.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述滑块的长度L与相邻的所述抽气孔之间的间距L’的关系应?两足:L/L’ > I ο10.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述抽气孔的直径D的取值与所述砂箱的大小匹配,D的取值范围为:20-30mm。
【文档编号】B22C9/03GK205519484SQ201620065706
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年1月22日
【发明人】王治国
【申请人】文水县易鑫铸造有限公司
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