一种熔盐体系下低温晶化氧化硅的方法与流程

技术特征：
1.一种熔盐体系下低温晶化氧化硅的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将氧化硅加入熔盐体系中，并研磨得到混合粉体；(2)将混合粉体在空气中常压条件下，500℃下熔盐反应4-6小时；(3)反应结束后，用去离子水溶解去除熔盐，并离心，干燥处理得到晶化氧化硅；步骤(1)所述的熔盐为NaNO3熔盐；步骤(1)所述的氧化硅为介孔氧化硅SBA-15；步骤(1)中所述的氧化硅与熔盐的重量比为1:(10～50)。2.根据权利要求1所述的一种熔盐体系下低温晶化氧化硅的方法，其特征在于，步骤(1)中，先将熔盐预先研磨均匀后，再加入氧化硅充分研磨。3.根据权利要求1所述的一种熔盐体系下低温晶化氧化硅的方法，其特征在于，步骤(2)中将混合粉体置于坩埚中，一并放入管式炉高温区进行熔盐反应。4.根据权利要求1所述的一种熔盐体系下低温晶化氧化硅的方法，其特征在于，步骤(3)中干燥处理的温度为60～100℃，时间为4h～8h。