技术总结
本发明涉及光谱学与光谱分析技术领域，具体涉及一种磷酸二氢钾插层改性高岭土复合物的制备方法。一种磷酸二氢钾插层改性高岭土复合物的制备方法，包括以下步骤：（1）高岭土‑二甲基亚砜K‑DMSO制备；（2）高岭土‑醋酸钾K‑KAc制备；（3）高岭土‑磷酸二氢钾K‑KDP制备。本发明以K‑DMSO为前驱体，K‑KAc为预插层体，通过插层取代的方法最终将KDP插入到高岭土层间，制备了K‑KDP插层复合物，产物的插层率可以达到81.3％。高岭土的层间距由原来的0.716nm增加到1.56nm，比原始高岭土的颗粒更为均匀，粒径更小，基本没有团聚现象。
技术研发人员：王耀斌
受保护的技术使用者：陕西盛迈石油有限公司
文档号码：201611015084
技术研发日：2016.11.18
技术公布日：2017.05.31