技术总结
本发明涉及一种有利于红橙光激光输出的掺镨氟化锶激光陶瓷及其制备方法，所述掺镨氟化锶激光陶瓷还掺有Y3+或Gd3+，掺Y3+或Gd3+的浓度为0.6～10at％。其制备方法为：1)将PrF3、RF3和SrF2配料，其中R为Y或Gd，并加入PbF2作为除氧剂，在真空手套箱内将其充分混合，采用坩埚下降法或温梯法生长晶体，得到掺杂的SrF2晶体；2)将掺杂的SrF2晶体进行锻压处理，锻压结束后进行高精度抛光，即得到掺镨氟化锶激光陶瓷。本发明以单晶结构的SrF2晶体为原料制备得到透明陶瓷，所得陶瓷光学性能优异，而且所得产物为多晶结构的共掺的氟化锶晶体，其硬度、断裂韧性等机械性能均有明显的提高。
技术研发人员：宋京红;鞠强文;梅炳初;李威威;易果强
受保护的技术使用者：武汉理工大学
文档号码：201611226823
技术研发日：2016.12.27
技术公布日：2017.05.17