本实用新型属于静电吸附领域，具体涉及一种制备纳米SiO2气凝胶的静电吸附成型装置。
背景技术：
纳米SiO2气凝胶是一种新型轻质多孔材料，具有低密度、高孔隙率、低热导率和高透光率、低折射率和低的声传播速度，是一种新型高效透光隔热保温和隔音材料。本产品具有高透光率和低热导率，特别适合用于太阳能光热低温平板热水器、中温平板集热器、建筑玻璃窗等既要求透光又要求高效保温的运用场所。
利用大功率层流等离子束发生器产生温度超过一万摄氏度的稳定长弧等离子体射流，通过高精度送粉器将原材料粉末或颗粒送进等离子体内部瞬间汽化、冷凝，最后通过带高压的基板静电吸附并成型。通过高压电场让冷凝的絮状纳米SiO2粒子带上电荷，再利用静电力吸附并成型在带静电的基板上，具有收集效率高、密度及结构易调节、工艺简单、节能、成本低等优点。
申请号为CN02235179.5，名称为静电吸附式快速成型机的实用新型专利，公开了一种静电吸附式快速成型机，包括计算机控制系统、静电吸附机构、粉末基体材料输送机构、工作台进给机构和预固化机构。计算机控制系统控制静电的产生、粉末黏结材料的吸附、粉末基体材料的输送、工作台的进给等各环节的顺序工作。形成了三维物体的一层整体的截面，重复如此过程，就可形成该三维物体。
纳米SiO2气凝胶在蒸发汽化后需要成型，目前没有相关的现有技术对汽化的纳米SiO2粒子进行静电吸附成型处理。
技术实现要素：
为了解决上述问题，本实用新型提出了一种制备纳米SiO2气凝胶的静电吸附成型装置，实现了连续化对汽化的纳米SiO2粒子进行静电吸附成型的目的。
为了达到上述技术效果，本实用新型采用了以下技术方案：
一种制备纳米SiO2气凝胶的静电吸附成型装置，其特征在于：包括成型箱、基板、粒子输入端、粒子分散机构、高压发生器、静电发生器、基板轨道、基板进端轨道和基板出端轨道；所述基板进端轨道、基板轨道和基板出端轨道依次连接，且基板轨道位于成型箱内部；所述基板位于基板轨道上，所述粒子分散机构与基板相对设置，所述粒子输入端与粒子分散机构连接。
本实用新型所述粒子输入端与静电发生器绝缘连接。
本实用新型所述粒子输入端连接旋转盘。
本实用新型所述粒子分散机构包括多个粒子出口，均匀设置在内表面。
本实用新型所述高压发生器和静电发生器均设置在成型箱底部。
本实用新型所述基板为抛光铝基板或者PCB基板。
本实用新型带来的有益效果有：
1、本实用新型将基板从基板进端轨道放置后旋转到基板轨道，通过静电发生器使得基板带上静电，通过粒子输入端将纳米SiO2粒子输入，在高压发生器产生的电场下静电吸附成型在基板上。完成吸附成型的基板从基板出端轨道输出。
2、本实用新型的粒子输入端与静电发生器绝缘连接，减少纳米SiO2粒子带电荷而运动无规律的形成几率。
3、本实用新型的粒子输入端连接旋转盘，纳米SiO2粒子进入后被旋转，均匀分散到进入基板轨道上的基板上，基板完成纳米SiO2粒子的静电吸附过程。
4、本实用新型的粒子分散机构包括多个粒子出口，粒子出口均匀设置，保证粒子的喷出时能够与基板正面接触，在电场的作用下均匀吸附。
5、本实用新型的基板采用材质柔软的，可以采用抛光铝基板或者PCB基板，能够保证基板能够在基板轨道上放置并顺利运动，且不易损坏。
附图说明
图1为本实用新型的示意图；
附图标记：1、成型箱，2、基板，3、粒子输入端，4、粒子分散机构，7、基板轨道，8、基板进端轨道，9、基板出端轨道，10、旋转盘。
具体实施方式
实施例1
一种制备纳米SiO2气凝胶的静电吸附成型装置，其特征在于：包括成型箱1、基板2、粒子输入端3、粒子分散机构4、高压发生器、静电发生器、基板轨道7、基板进端轨道8和基板出端轨道9；所述基板进端轨道8、基板轨道7和基板出端轨道9依次连接，且基板轨道7位于成型箱1内部；所述基板2位于基板轨道7上，所述粒子分散机构4与基板2相对设置，所述粒子输入端3与粒子分散机构4连接。
实施例2
一种制备纳米SiO2气凝胶的静电吸附成型装置，其特征在于：包括成型箱1、基板2、粒子输入端3、粒子分散机构4、高压发生器、静电发生器、基板轨道7、基板进端轨道8和基板出端轨道9；所述基板进端轨道8、基板轨道7和基板出端轨道9依次连接，且基板轨道7位于成型箱1内部；所述基板2位于基板轨道7上，所述粒子分散机构4与基板2相对设置，所述粒子输入端3与粒子分散机构4连接。
本实用新型所述粒子输入端3与静电发生器绝缘连接。
实施例3
一种制备纳米SiO2气凝胶的静电吸附成型装置，其特征在于：包括成型箱1、基板2、粒子输入端3、粒子分散机构4、高压发生器、静电发生器、基板轨道7、基板进端轨道8和基板出端轨道9；所述基板进端轨道8、基板轨道7和基板出端轨道9依次连接，且基板轨道7位于成型箱1内部；所述基板2位于基板轨道7上，所述粒子分散机构4与基板2相对设置，所述粒子输入端3与粒子分散机构4连接。
本实用新型所述粒子输入端3连接旋转盘10。
实施例4
一种制备纳米SiO2气凝胶的静电吸附成型装置，其特征在于：包括成型箱1、基板2、粒子输入端3、粒子分散机构4、高压发生器、静电发生器、基板轨道7、基板进端轨道8和基板出端轨道9；所述基板进端轨道8、基板轨道7和基板出端轨道9依次连接，且基板轨道7位于成型箱1内部；所述基板2位于基板轨道7上，所述粒子分散机构4与基板2相对设置，所述粒子输入端3与粒子分散机构4连接。
本实用新型所述粒子分散机构4包括多个粒子出口，均匀设置在内表面。
实施例5
一种制备纳米SiO2气凝胶的静电吸附成型装置，其特征在于：包括成型箱1、基板2、粒子输入端3、粒子分散机构4、高压发生器、静电发生器、基板轨道7、基板进端轨道8和基板出端轨道9；所述基板进端轨道8、基板轨道7和基板出端轨道9依次连接，且基板轨道7位于成型箱1内部；所述基板2位于基板轨道7上，所述粒子分散机构4与基板2相对设置，所述粒子输入端3与粒子分散机构4连接。
本实用新型所述高压发生器和静电发生器均设置在成型箱底部。
实施例6
一种制备纳米SiO2气凝胶的静电吸附成型装置，其特征在于：包括成型箱1、基板2、粒子输入端3、粒子分散机构4、高压发生器、静电发生器、基板轨道7、基板进端轨道8和基板出端轨道9；所述基板进端轨道8、基板轨道7和基板出端轨道9依次连接，且基板轨道7位于成型箱1内部；所述基板2位于基板轨道7上，所述粒子分散机构4与基板2相对设置，所述粒子输入端3与粒子分散机构4连接。
本实用新型所述基板2为抛光铝基板或者PCB基板。
实施例7
一种制备纳米SiO2气凝胶的静电吸附成型装置，其特征在于：包括成型箱1、基板2、粒子输入端3、粒子分散机构4、高压发生器、静电发生器、基板轨道7、基板进端轨道8和基板出端轨道9；所述基板进端轨道8、基板轨道7和基板出端轨道9依次连接，且基板轨道7位于成型箱1内部；所述基板2位于基板轨道7上，所述粒子分散机构4与基板2相对设置，所述粒子输入端3与粒子分散机构4连接。
本实用新型所述粒子输入端3与静电发生器绝缘连接。
本实用新型所述粒子输入端3连接旋转盘10。
本实用新型所述粒子分散机构4包括多个粒子出口，均匀设置在内表面。
本实用新型所述高压发生器和静电发生器均设置在成型箱底部。
本实用新型所述基板2为抛光铝基板或者PCB基板。