一种TFT-LCD全氧燃烧电熔炉烟道的制作方法

文档序号:18489439发布日期:2019-08-21 00:41阅读:164来源:国知局
一种TFT-LCD全氧燃烧电熔炉烟道的制作方法

本实用新型属于TFT-LCD生产技术领域,尤其涉及一种TFT-LCD全氧燃烧电熔炉烟道。



背景技术:

TFT-LCD粉状的玻璃混合原料投加到熔炉熔化,根据熔炉的日设计能力(8吨-12吨玻璃),需要用全氧燃烧的方式,将玻璃进行完全熔化,为了能够保证熔炉的炉压稳定,完全满足熔炉工艺生产的需要,熔炉产生的废烟需经过烟道排入烟处理系统进行处理,环保排放。传统的烟道密封性不好,不易清理,容易堵塞,排烟处理不达标,且安装缺乏稳定性。因此,设计出稳定、可靠、简单易行的全氧燃烧电熔炉烟道具有重要意义。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于克服现有技术存在的以上问题,提供一种TFT-LCD全氧燃烧电熔炉烟道,使高温的熔炉烟气能顺利地进入烟处理系统,保证熔炉的炉压稳定,烟气处理指标达标处理,能够满足全氧燃烧电熔炉正常的生产需要。

为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本实用新型通过以下技术方案实现:

一种TFT-LCD全氧燃烧电熔炉烟道,包括全氧燃烧电熔炉,全氧燃烧电熔炉一侧安装装有烟道,烟道下端安装有支撑结构;

所述烟道包括垂直砖烟道,垂直砖烟道上端垂直设有水平砖烟道,水平砖烟道远离垂直砖烟道的一端安装有竖直向下的钢烟道,垂直砖烟道靠近全氧燃烧电熔炉的一侧上端安装有温度调节装置,钢烟道顶部安装有钢烟道检查口,钢烟道远离水平砖烟道的一侧上端安装有水平烟道检查口,水平砖烟道与钢烟道的连接处安装有烟道密封层;

所述支撑结构包括支撑底板,支撑底板上端一侧安装有垂直烟道支撑机构,支撑底板上端另一侧安装有水平烟道支撑机构,支撑底板下端安装有移动装置;

所述垂直烟道支撑机构包括底部支撑机构和水平夹持机构;

所述底部支撑机构包括水平分布的第一支撑板,第一支撑板下端连接有伸缩气缸;

所述水平夹持机构包括对称分布在第一支撑板两端的支撑立板,支撑立板外侧上端安装有内螺纹连接短管,内螺纹连接短管内旋有螺纹柱;

所述水平烟道支撑机构包括水平分布的第二支撑板,第二支撑板下端垂直连接有升降支撑柱,升降支撑柱下端滑动连接有支撑管,升降支撑柱底部安装有涡轮丝杆升降结构,支撑管下端与支撑底板固定连接。

进一步地,所述所述涡轮丝杆升降结构包括丝杆,丝杆上连接有涡轮,丝杆顶部设有连接法兰,连接法兰与升降支撑柱底部固定连接,涡轮一侧啮合连接有蜗杆,蜗杆一端安装有手摇柄,手摇柄位于支撑管外部。

进一步地,所述全氧燃烧电熔炉一侧上端设有与垂直砖烟道对接的出烟口,垂直砖烟道与出烟口的连接处安装有烟道密封层。

进一步地,所述烟道密封层为耐高温棉层。

进一步地,所述伸缩气缸活动端与第一支撑板下端固定连接,伸缩气缸底座安装在支撑底板上端。

进一步地,所述升降支撑柱与第二支撑板之间设有加强筋。

进一步地,所述第一支撑板(2211)和第二支撑板(231)均为绝缘板,螺纹柱(2223)与垂直砖烟道(11)的接触端面设有绝缘层。

本实用新型的有益效果是:

1、通过本实用新型中烟道的实施,使高温的熔炉烟气能顺利地进入烟处理系统,保证熔炉的炉压稳定,烟气处理指标达标处理,能够满足全氧燃烧电熔炉正常的生产需要;

2、在本实用新型中,烟道与支撑结构为两个相互独立的结构,支撑结构移动、使用方便,支撑结构可用于对不同烟道的支撑,不会因为一个烟道的损坏而失去作用,延长了支撑结构的使用寿命,通过支撑结构中水平烟道支撑机构、底部支撑机构、水平夹持机构的相互配合能够对烟道起到很好的支撑作用,保证了烟道的安装稳定性。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,构成本申请的一部分,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是本实用新型的局部结构示意图;

图3是本实用新型的局部结构示意图;

图4是本实用新型的局部结构爆炸图;

图5是本实用新型的局部结构示意图;

图6是本实用新型的局部结构剖视图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“开孔”、“上”、“下”、“厚度”、“顶”、“中”、“长度”、“内”、“四周”等指示方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的组件或元件必须具有特定的方位,以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。

如图1所示的一种TFT-LCD全氧燃烧电熔炉烟道,包括全氧燃烧电熔炉3,全氧燃烧电熔炉3一侧安装装有烟道1,烟道1下端安装有支撑结构2。

如图2所示,烟道1包括垂直砖烟道11,垂直砖烟道11上端垂直设有水平砖烟道12,水平砖烟道12远离垂直砖烟道11的一端安装有竖直向下的钢烟道13,钢烟道13下端直接通入烟处理系统,全氧燃烧电熔炉3一侧上端设有与垂直砖烟道11对接的出烟口41,垂直砖烟道11与出烟口41的连接处安装有烟道密封层17,垂直砖烟道11靠近全氧燃烧电熔炉3的一侧上端安装有温度调节装置14,温度调节装置14能够将烟道1内烟气的温度控制在烟气处理要求的工艺温度范围内,钢烟道13顶部安装有钢烟道检查口15,钢烟道13远离水平砖烟道12的一侧上端安装有水平烟道检查口16,水平烟道检查口16与水平砖烟道12水平对齐,通过钢烟道检查口15和水平烟道检查口16可以检查烟道1堵塞情况,及时运用工具进行彻底清理,保证烟道1的正常使用功能、延长烟道1的使用寿命,水平砖烟道12与钢烟道13的连接处安装有烟道密封层17,烟道密封层17为耐高温棉层,烟道密封层17能够保证整个烟道1的密封性,使排出的废烟能够全部排入烟处理系统中。

如图3所示,支撑结构2包括支撑底板21,支撑底板21上端一侧安装有垂直烟道支撑机构22,支撑底板21上端另一侧安装有水平烟道支撑机构23,支撑底板21下端安装有移动装置24。

如图4所示,垂直烟道支撑机构22包括底部支撑机构221和水平夹持机构222;底部支撑机构221包括水平分布的第一支撑板2211,第一支撑板2211为绝缘板,第一支撑板2211下端连接有伸缩气缸2212,伸缩气缸2212活动端与第一支撑板2211下端固定连接,伸缩气缸2212底座安装在支撑底板21上端,在实际使用过程中,第一支撑板2211上端与垂直砖烟道11底部紧密接触;水平夹持机构222包括对称分布在第一支撑板2211两端的支撑立板2221,支撑立板2221外侧上端安装有内螺纹连接短管2222,内螺纹连接短管2222内旋有螺纹柱2223,螺纹柱2223内端与垂直砖烟道11侧壁紧密接触,螺纹柱2223与垂直砖烟道11的接触端面设有绝缘层,向内旋紧螺纹柱2223可以将垂直砖烟道11夹紧;通过底部支撑机构221和水平夹持机构222能够保证垂直砖烟道11的稳定性。

如图5所示,水平烟道支撑机构23包括水平分布的第二支撑板231,第二支撑板231为绝缘板,第二支撑板231上端与水平砖烟道12下端紧密接触,第二支撑板231下端垂直连接有升降支撑柱232,升降支撑柱232与第二支撑板231之间设有加强筋235,升降支撑柱232下端滑动连接有支撑管233,升降支撑柱232底部安装有涡轮丝杆升降结构234,支撑管233下端与支撑底板21固定连接;水平烟道支撑机构23能够对水平砖烟道12起到支撑作用,保证水平砖烟道12安装的稳定性。

如图6所示,涡轮丝杆升降结构234包括丝杆2341,丝杆2341上连接有涡轮2342,丝杆2341顶部设有连接法兰2343,连接法兰2343与升降支撑柱232底部固定连接,涡轮2342一侧啮合连接有蜗杆2344,蜗杆2344一端安装有手摇柄2345,手摇柄2345位于支撑管233外部。

高温的熔炉烟气(1400℃-1500℃)通过垂直砖烟道11,经过温度调节装置14后,再经过水平砖烟道12,又经过钢烟道13,最终熔炉烟气进入烟处理系统,使烟气温度控制在烟气处理要求(600℃-800℃)的工艺温度范围,并且可以进行数据调整,最终烟气指标处理并环保排放,通过钢烟道检查口15和水平烟道检查口16可以检查烟道1堵塞情况,及时运用工具进行彻底清理,保证烟道1的正常使用功能、延长烟道1的使用寿命。

在本实用新型中,烟道1与支撑结构2为两个相互独立的结构,烟道1与全氧燃烧电熔炉3的使用周期相同,支撑结构2移动、使用方便,支撑结构2可用于对不同烟道1的支撑,不会因为一个烟道1损坏而失去作用,延长了支撑结构2的使用寿命,通过水平烟道支撑机构23、底部支撑机构221、水平夹持机构222的相互配合能够对烟道1起到很好的支撑作用,能够保证烟道1的安装稳定性,其中绝缘板与绝缘层能够使烟道整体绝缘,不使熔炉电压传递到烟道结构上。

在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。

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