一种全景灰色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法与流程

文档序号：22324303发布日期：2020-09-25 17:51阅读：157来源：国知局

本发明属于磁控溅射镀膜技术领域，具体涉及一种全景灰色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法。

背景技术：

low-e玻璃作为一种新型建筑及装饰材料，其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有以下明显优势：1)优异的热性能，外门窗玻璃的热损失是建筑物能耗的主要部分，占建筑物能耗的50％以上。低辐射镀膜玻璃根据不同膜层结构相较于普通结构白玻门窗，可以减少该部位能量损耗的60％-90％。2)良好的光学性能。low-e玻璃对太阳光中可见光有高的透射比，可达80％以上。而反射比则很低，这使其与传统的镀膜玻璃相比，光学性能大为改观。从室外观看，外观更透明、清晰。即保证了建筑物良好的采光，又避免了以往大面积玻璃幕墙、中空玻璃门窗光反射所造成的光污染现象，营造出更为柔和、舒适的光环境。

根据近年来的市场销售情况分析，目前市场对灰色系低辐射镀膜玻璃越来越认可，灰色系产品的需求也逐渐旺盛。但是随着技术的逐渐成熟推广，同质化竞争也日趋明显，客户对幕墙的外观颜色的要求也越来越高。就幕墙墙玻璃的实际安装效果而言，由于墙体面积较大、建筑楼层较高，幕墙在近距离观测时不同位置的玻璃其观测角度也不同，对于双银低辐射镀膜玻璃而言由于多层膜的干涉及透过色影响，不同角度观测时其颜色也不同，进而导致幕墙整体颜色不一致，影响装饰效果，同时很多产品由于过度追求室外颜色导致室内颜色装饰性较差，与室外面颜色存在很大差异。现有技术的缺点：

1)现有双银低辐射镀膜玻璃主要偏向蓝色系与绿色系。

2)现有的双银膜系普遍存在小角度变色，室内外颜色差异较大的现象。

技术实现要素：

本发明的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种全景灰色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法，本发明所要解决的技术问题是如何通过镀膜层的设计，提高镀膜玻璃外观颜色的一致性。

本发明的目的可通过下列技术方案来实现：一种全景灰色双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十三个膜层，其中第一层为sinx层，第二层为znsno层,第三层为zno层，第四层为ag层，第五层为nicr层,第六层为azo层,第七层为sinx层,第八层为znsno层，第九层为zno层，第十层为ag层，第十一层为nicr层，第十二层为azo层，第十三层为sinx层。

在上述一种全景灰色双银低辐射镀膜玻璃中，所述第一层、第二层和第三层为第一电介质组合层，所述第四层为低辐射功能层，所述第五层为阻挡保护层，所述第六层为第一晶床介质层，所述第七层、第八层和第九层组成第二电介质组合层，所述第十层为低辐射功能层,所述第十一层为第二阻挡保护层，所述第十二层为第二晶床介质层，所述第十三层为第三电介质层。

一种全景灰色双银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，本方法包括如下步骤：

1)、磁控溅射镀膜层；

a、磁控溅射第一层：

靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(sial)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为20～23nm；

b、磁控溅射第二层：

靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置锌锡(znsn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为17.5～19nm；

c、磁控溅射第三层：

靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置为锌铝(znal)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为8～9nm；

d、磁控溅射第四层：

靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(ag)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10^-3mbar；镀膜厚度为2.5～2.8nm；

e、磁控溅射第五层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(nicr)；工艺气体：纯氩气；溅射气压为2～3×10^-3mbar；镀膜厚度为0.5～1.0nm；

f、磁控溅射第六层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为氧化锌铝(azo)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3×10^-3mbar；镀膜厚度为7～9nm；

g、磁控溅射第七层：

靶材数量：交流旋转靶3～5个；靶材配置为硅铝(sial)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为32～33nm；

h、磁控溅射第八层：

靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为锌锡(znsn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为12～13nm；

i、磁控溅射第九层：

靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为银锌铝(znal)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2；溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为17～19nm；

j、磁控溅射第十层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为银(ag)；工艺气体比：纯氩气；溅射气压为2～3×10^-3mbar；镀膜厚度为3.8～4.2nm；

磁控溅射第十层还可以为：

靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(ag)；工艺气体比：纯氩气；溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为4.6～4.8nm；

k、磁控溅射第十一层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(nicr)；工艺气体：纯氩气；溅射气压为：2～3:×10^-3mbar；镀膜厚度为1.5～1.8nm；

l、磁控溅射第十二层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为氧化锌铝(azo)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3×10^-3mbar；镀膜厚度为6～8nm；

m、磁控溅射第十三层：

靶材数量：交流旋转靶4～6个；靶材配置为硅铝(sial)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14；溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为47～49nm；

2)、镀膜层总厚度控制在188-195nmnm之间。

本全景灰色双银低辐射镀膜玻璃中，其第一介质层厚度达45.5～51之间，而其第一低辐射功能层很薄为2.5～2.8之间，其第二低辐射功能层则较厚为3.8～4.8之间，故而实现了其外观颜色于多角度观察下均呈灰色，一致性很高，具体各项具体的颜色值(cie1976l*a*b*色空间)。

本发明优点：

1、本专利技术产品玻面、膜面、透过颜色均为灰色，具体测量结果如下：6mm单片透过率＞55％，透过色a*∈[-2.5,-3]，b*∈[-3.8，-3.3]；玻面颜色a*∈[-2.0,-2.5]，b*∈[-5.0，-4.5]，膜面颜色a*∈[0,0.5]，b*∈[-5，-4.5]。

2、玻面小角度颜色如下：a*∈[-2.5,-2.0]，b*∈[-5.0，-4.5]，玻面60°和10°反射色对比，△a*＜0.5，△b*＜0.5。

附图说明

图1是本全景灰色双银低辐射镀膜玻璃的层状结构示意图。

图中，g、玻璃基片层；1、第一层；2、第二层；3、第三层；4、第四层；5、第五层；6、第六层；7、第七层；8、第八层；9、第九层；10、第十层；11、第十一层；12、第十二层；13、第十三层。

具体实施方式

以下是本发明的具体实施例并结合附图，对本发明的技术方案作进一步的描述，但本发明并不限于这些实施例。

如图1所示，一种全景灰色双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片层和镀膜层，镀膜层自玻璃基片层g向外依次复合有十三个膜层，其中第一层1为sinx层，第二层2为znsno层,第三层为zno层，第四层为ag层，第五层为nicr层,第六层为azo层,第七层为sinx层,第八层为znsno层，第九层为zno层，第十层为ag层，第十一层为nicr层，第十二层为azo层，第十三层为sinx层；第一层1、第二层2和第三层为第一电介质组合层，第四层为低辐射功能层，第五层为阻挡保护层，第六层为第一晶床介质层，第七层、第八层和第九层组成第二电介质组合层，第十层为低辐射功能层,第十一层为第二阻挡保护层，第十二层为第二晶床介质层，第十三层为第三电介质层。