一种传感器单晶硅刻蚀用片架定位装置的制作方法

1.本实用新型涉及单晶硅相关设备技术领域，尤其涉及一种传感器单晶硅刻蚀用片架定位装置。


背景技术：

2.单晶硅是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在凝固时硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核，如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒，则这些晶粒平行结合起来便结晶成单晶硅。单晶硅具有准金属的物理性质，有较弱的导电性，其电导率随温度的升高而增加，有显著的半导电性，被广泛应用于传感器的制作生产。
3.现有技术中，通常将多个单晶硅叠放在片架上，通过向片架所在位置导入反应气体，使得反应气体在电场环境下产生等离子体，以对单晶硅进行刻蚀，刻蚀过程中旋转片架以增加单晶硅与等离子体的接触均度，然而片架的旋转可能导致位置偏移，影响其刻蚀效果。为此，我们提出了一种传感器单晶硅刻蚀用片架定位装置。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种传感器单晶硅刻蚀用片架定位装置，以克服现有技术中存在的技术问题。
5.为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型提供如下技术方案：
6.一种传感器单晶硅刻蚀用片架定位装置，包括工作台，所述工作台的底部四角连接有立柱，所述工作台的底部中心连接有转向电机，所述转向电机的顶部输出端连接有转向轴，所述转向轴的外壁上下两侧对称连接有定位座，所述转向轴的外壁中段连接有多个环形座，所述环形座的圆周外侧壁周向连接有多个夹持机构，所述环形座的外侧嵌设有电磁环，所述环形座的外部套设有套筒，所述套筒的外壁左右两侧连接有侧支座，所述侧支座与工作台之间连接有液压杆，所述工作台的外壁连接有plc控制器。
7.优选的，一种传感器单晶硅刻蚀用片架定位装置中，所述定位座靠近环形座的一侧周向开设有四个t型槽，所述t型槽内滑动连接滑块，所述滑块的端部连接有横杆，所述横杆的端部安装有导向轮，所述转向轴外部套设有升降套环，所述升降套环与定位座之间连接有电动推杆，所述升降套环与滑块之间铰接有牵引杆。
8.优选的，一种传感器单晶硅刻蚀用片架定位装置中，所述夹持机构包括三角块，所述三角块上周向开设有三个通槽，所述通槽内贯穿有方杆，所述方杆与通槽内壁之间连接有复位弹簧，所述方杆靠近电磁环的一端连接有金属块，所述方杆的另一端连接有弧块。
9.优选的，一种传感器单晶硅刻蚀用片架定位装置中，所述套筒的外壁设有电磁线圈，所述工作台的顶部左侧连接有气源室，所述气源室的上端连通有导流管，所述套筒顶部与导流管之间连通有波纹管。
10.优选的，一种传感器单晶硅刻蚀用片架定位装置中，所述工作台的底部右侧连接有真空泵，所述真空泵与工作台之间连通有抽气管，所述抽气管上端位于套筒开口下方。
11.优选的，一种传感器单晶硅刻蚀用片架定位装置中，所述套筒的下端连接有密封圈。
12.本实用新型的有益效果是：
13.本实用新型结构设计合理，操作方便，套筒高度可调，便于将单晶硅置于夹持机构中，电磁环通电后对金属环进行吸附，使得弧块夹紧单晶硅，环形座随转向轴同步移动，牵引杆偏转后横杆带动导向轮移动，导向轮能够抵接套筒内壁，避免运转过程中发生偏移，能够提高单晶硅与等离子体的接触均度，同时保障刻蚀效果，方便实用。
附图说明
14.为了更清楚地说明本实用新型的技术方案，下面将对具体实施方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
15.图1为本实用新型的整体结构示意图；
16.图2为本实用新型中定位座的结构示意图；
17.图3为本实用新型中三角块的结构示意图；
18.图4为图1中a处的局部放大示意图。
19.图中：1、工作台；2、立柱；3、转向电机；4、转向轴；5、定位座；6、环形座；7、夹持机构；8、电磁环；9、套筒；10、侧支座；11、液压杆；12、plc控制器；101、气源室；102、导流管；103、真空泵；104、抽气管；501、t型槽；502、滑块；503、横杆；504、导向轮；505、升降套环；506、电动推杆；507、牵引杆；701、三角块；702、通槽；703、方杆；704、复位弹簧；705、金属块；706、弧块；901、电磁线圈；902、波纹管；903、密封圈。
具体实施方式
20.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
21.请参阅图1-4所示，本实施例为一种传感器单晶硅刻蚀用片架定位装置，包括工作台1，工作台1的底部四角连接有立柱2，工作台1的底部中心连接有转向电机3，转向电机3的顶部输出端连接有转向轴4，转向轴4的外壁上下两侧对称连接有定位座5，转向轴4的外壁中段连接有多个环形座6，环形座6的圆周外侧壁周向连接有多个夹持机构7，环形座6的外侧嵌设有电磁环8，环形座6的外部套设有套筒9，套筒9的外壁左右两侧连接有侧支座10，侧支座10与工作台1之间连接有液压杆11，工作台1的外壁连接有plc控制器12。
22.定位座5靠近环形座6的一侧周向开设有四个t型槽501，t型槽501内滑动连接滑块502，滑块502的端部连接有横杆503，横杆503的端部安装有导向轮504，转向轴4外部套设有升降套环505，升降套环505与定位座5之间连接有电动推杆506，升降套环505与滑块502之间铰接有牵引杆507，横杆503能够带动导向轮504移动，便于贴合套筒9内壁。
23.夹持机构7包括三角块701，三角块701上周向开设有三个通槽702，通槽702内贯穿
有方杆703，方杆703与通槽702内壁之间连接有复位弹簧704，方杆703靠近电磁环8的一端连接有金属块705，方杆703的另一端连接有弧块706，便于对单晶硅进行夹持。
24.套筒9的外壁设有电磁线圈901，工作台1的顶部左侧连接有气源室101，气源室101的上端连通有导流管102，套筒9顶部与导流管102之间连通有波纹管902，便于将反应气体送入。
25.工作台1的底部右侧连接有真空泵103，真空泵103与工作台1之间连通有抽气管104，抽气管104上端位于套筒9开口下方，便于将反应气体抽离。
26.套筒9的下端连接有密封圈903，便于提高密封效果。
27.本实用新型的具体实施方式为：
28.本装置在使用时外接电源，通过立柱2对工作台1进行支撑，利用液压杆11带动侧支座10移动，能够调整套筒9高度，便于将单晶硅置于夹持机构7中，方杆703能够沿通槽702移动，在复位弹簧704的弹力作用下弧块706抵接单晶硅，电磁环8通电后生磁，能够对金属环705进行吸附，使得弧块706夹紧单晶硅，套筒9下降后气源室101将反应气体送入内腔，利用转向电机3带动转向轴4旋转，环形座6随转向轴4同步移动，通过电动推杆506带动升降套环505升降，t型槽501配合滑块502进行导向，牵引杆507偏转后横杆503带动导向轮504移动，导向轮504能够抵接套筒9内壁，从而达到定位效果，避免运转过程中发生偏移，能够提高单晶硅与等离子体的接触均度，同时保障刻蚀效果，方便实用。
29.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
30.以上公开的本实用新型优选实施例只是用于帮助阐述本实用新型。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该实用新型仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本实用新型的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本实用新型。本实用新型仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。