用于光刻法中的光刻胶清洁组合物及其用于处理衬底的方法与流程

技术特征：

技术总结
本文公开了用于剥离膜厚度为3‑150μm的光刻胶图案的光刻胶清洁组合物，其包含(a)季铵氢氧化物、(b)水溶性有机溶剂的混合物、(c)至少一种腐蚀抑制剂和(d)水，及用该光刻胶清洁组合物处理衬底的方法。

技术研发人员：R·L-K·常;G·E·帕里斯;陈秀美;李翊嘉;刘文达;陈天牛;L·M·马兹;R·L·C·洛;孟令人
受保护的技术使用者：弗萨姆材料美国有限责任公司
技术研发日：2016.08.04
技术公布日：2018.05.11