技术特征：
技术总结
本发明涉及变体抗体和产生与工艺杂质的结合水平降低的所述抗体的方法。具体而言，本发明描述了在重链恒定区中的Kabat残基203和256之间的区域中的氨基酸的任一个或组合处已经被修饰的变体IgG4抗体，其中所述变体IgG4抗体相比于未修饰的IgG4抗体具有与宿主细胞蛋白(HCP)的降低的结合水平。本发明还涉及包含所述变体IgG4抗体的组合物。
技术研发人员：H.博斯蒂尔斯;陈书贵;K.法罗;R.库恰-特兰;W.J.K.刘易斯;A.S.汤森;M.尤登
受保护的技术使用者：葛兰素史克知识产权开发有限公司
技术研发日：2017.10.03
技术公布日：2019.05.21