加载装置及基因测序系统的制作方法

文档序号:17711540发布日期:2019-05-21 21:20阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种加载装置,用于将液体反应剂加载于测序芯片上进行生化反应,其特征在于:包括盖板和底座,所述盖板底面上开设有密封槽和流道槽,所述流道槽设于所述密封槽的内侧,且至少有一C型结构,所述盖板通过嵌入所述密封槽的密封件抵触于所述测序芯片上并形成腔体,所述流道槽设有进液口和出液口,所述进液口或所述出液口通过所述盖板内部的对应流道跨越所述密封槽,且与所述底座上的电磁阀连通,所述电磁阀用于控制加液和排液。

2.根据权利要求1所述的加载装置,其特征在于:所述腔体为方形,所述流道槽设有一直槽和与其正对的C槽,所述流道槽上设有若干进液口和出液口,所述进液口或所述出液口与所述底座的接口处设有第二密封件。

3.根据权利要求2所述的加载装置,其特征在于:所述直槽的端部分别设有一进液口和一出液口。

4.根据权利要求2所述的加载装置,其特征在于:所述C槽的拐角处分别设有一出液口。

5.根据权利要求2所述的加载装置,其特征在于:所述电磁阀包括对应数量的进液阀、排液阀及一排气阀,其中所述进液阀与输液口、所述进液口以管道相连导通成加液流路,每一所述排液阀与对应的一所述出液口、以及废液口以管道相连导通成排液流路,所述排气阀与所述输液口、所述进液阀、至少一所述排液阀及所述废液口以管道相连导通成排气流路。

6.根据权利要求1所述的加载装置,其特征在于:所述底座自上而下依次设有第一导热板、阀座和第二导热板,所述阀座为中空结构,所述第一导热板的底部与所述第二导热板接触且固定,所述第一导热板的侧边上表面与所述盖板接触且螺钉固定,且下表面与所述阀座接触。

7.根据权利要求6所述的加载装置,其特征在于:所述第一导热板的顶面设有一侧导通外部的凹槽,用于卡设所述测序芯片,且安装后所述测序芯片顶面与所述第一导热板的侧边上表面平齐。

8.根据权利要求7所述的加载装置,其特征在于:所述第一导热板的凹槽出口用于所述测序芯片的伸出。

9.根据权利要求1所述的加载装置,其特征在于:所述盖板与所述底座之间通过螺钉固定来实现腔体的深度调节,所述盖板上设有定位通孔。

10.一种基因测序系统,其特征在于:包括流体系统、加热系统、以及如权利要求1至9中任一项所述的加载装置,所述流体系统与所述加载装置的输液口连通,且自动程序控制所述电磁阀的开启和关闭,所述加热系统与所述加载装置的第二导热板的底部接触来提供并控制反应所需的温度。

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