一种高透低雾光学基膜及其制备方法与流程

本发明涉及薄膜，尤其涉及一种高透低雾光学基膜及其制备方法。

背景技术：

1、目前双向拉伸聚酯薄膜(bopet)是一种综合性能优良的高分子薄膜材料，它以聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)为主要原料，经结晶干燥、挤出熔融、铸片和双轴拉伸定向而得，其具有机械强度高、耐温性好、电绝缘性能优良和耐化学腐蚀的有点，被广泛使用在护目镜以及各种头盔的镜片保护上。

2、但在前述的现有技术中，在使用过程中，遭遇雨水、受潮或者冷气，容易导致膜面起雾，影响使用，同时光学基膜的透明性也较差，因此使用体验不佳。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种高透低雾光学基膜及其制备方法，解决现有技术中在使用过程中，遭遇雨水、受潮或者冷气，容易导致膜面起雾，影响使用，同时光学基膜的透明性也较差，因此使用体验不佳的问题。

2、为实现上述目的，本发明提供了一种高透低雾光学基膜，按重量份计，其制备原料包括：

3、100-130份苯二甲酸、100-130份乙二醇、1-3份醋酸钴、10-12份纳米分散液、1-3份聚乙烯基吡咯烷酮、1-3份平平加、10-12份蒸馏水、2-6份光固化剂、2-6份光引发剂和1-3份催化剂。

4、其中，所述光固化剂为酚醛环氧丙烯酸酯、改性环氧丙烯酸酯或环氧化油丙烯酸酯的一种。

5、其中，所述光引发剂为二芳基碘鎓盐、三芳基硫鎓盐或烷基硫鎓盐的一种。

6、本发明还提供一种高透低雾光学基膜制备方法，采用上述所述的高透低雾光学基膜，包括如下步骤：

7、将所述苯二甲酸、所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物；

8、将所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物；

9、将所述聚乙烯基吡咯烷酮、所述平平加和所述蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物；

10、将所述第二产物和所述第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物；

11、在所述第四产物内依次加入所述光固化剂、所述光引发剂和所述催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物；

12、将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜。

13、其中，在所述将苯二甲酸、所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物的步骤中：

14、搅拌速率为100-130r/min。

15、其中，在将所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物的步骤中：

16、搅拌速率为100-130r/min，温度为220-260℃。

17、其中，在将所述聚乙烯基吡咯烷酮、所述平平加和所述蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物的步骤中：

18、搅拌速率为100-130r/min，温度为220-260℃，沉淀时间为24-26小时。

19、其中，在将所述第二产物和所述第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物的步骤中：

20、搅拌速率为100-130r/min，温度为220-260℃。

21、其中，在所述第四产物内依次加入所述光固化剂、所述光引发剂和所述催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物的步骤中：

22、搅拌速率为100-130r/min，温度为220-260℃，反应时间为1-3小时。

23、其中，在将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜的步骤中：

24、预热温度为70-90℃，热定型温度为220-260℃。

25、本发明的一种高透低雾光学基膜及其制备方法，将所述苯二甲酸、所述乙二醇和所述醋酸钴依次加入所述蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物，将所述纳米分散液加入所述第一产物并搅拌加热，得到第二产物，将所述聚乙烯基吡咯烷酮、所述平平加和所述蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物，将所述第二产物和所述第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物，在所述第四产物内依次加入所述光固化剂、所述光引发剂和所述催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物，将所述第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜，由此使得光学基膜具备高透光性和低雾的使用性能。

技术特征：

1.一种高透低雾光学基膜，其特征在于，按重量份计，其制备原料包括：

2.如权利要求1所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，

3.如权利要求2所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，

4.一种高透低雾光学基膜制备方法，采用如权利要求3所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，包括如下步骤：

5.如权利要求4所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，

6.如权利要求5所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，

7.如权利要求6所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，

8.如权利要求7所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，

9.如权利要求8所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，

10.如权利要求9所述的高透低雾光学基膜制备方法，其特征在于，

技术总结
本发明涉及薄膜技术领域，具体涉及一种高透低雾光学基膜及其制备方法，包括如下步骤：将苯二甲酸、乙二醇和醋酸钴依次加入蒸馏水，使用搅拌机搅拌均匀，得到第一产物；将纳米分散液加入第一产物并搅拌加热，得到第二产物；将聚乙烯基吡咯烷酮、平平加和蒸馏水进行混合搅拌，使其溶解，然后等待沉淀，得到第三产物；将第二产物和第三产物混合搅拌并加热，得到第四产物；在第四产物内依次加入光固化剂、光引发剂和催化剂，并进行均匀搅拌和加热，然后等待其反应结束，得到第五产物；将第五产物送入腔体中进行成型，再进行冷却铸片，最后经过重新预热拉伸后完成定型，得到高透低雾光学基膜，由此使得光学基膜具备高透光性和低雾的使用性能。

技术研发人员：李绪猛,刘晓军,梁仙发
受保护的技术使用者：佛山赛和薄膜科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16