涂敷装置的制作方法

文档序号:3774641阅读:185来源:国知局
专利名称:涂敷装置的制作方法
技术领域
本发明涉及在基板上涂敷涂敷液的涂敷装置。
背景技术
在液晶显示器和等离子显示器等的平面显示器中,使用在玻璃基板上 涂敷抗蚀剂液的显示器(称涂敷基板)。该涂敷基板通过均匀地涂敷抗蚀 剂液的涂敷装置而形成。
该涂敷装置具有载置基板的载物台和喷出抗蚀剂液的涂敷组件,通过 在从涂敷组件喷出涂敷液的同时移动涂敷组件,而在基板上形成均匀厚度 的抗蚀剂液膜。
在上述涂敷装置中,作为将基板保持在载物台上的单元,较普遍的是, 在载物台形成有吸引孔,在该吸引孔产生吸引力,从而将基板吸附保持于 载物台上(参照例如专利文献l)。具体的是,通过配管连接吸引孔和吸引 力产生装置,使该吸引力产生装置动作,从而通过配管在吸引孔产生吸引 力。即,当吸引力产生装置动作时,配管内的大气被排气,而配管内成为 由吸引力产生装置设定的设定压力(比大气压小的压力),在吸引孔产生 与该设定压力对应的吸引力。如此,能够使基板吸附保持在载物台上。
专利文献1日本特开2006-281091号公报。
在上述涂敷装置中,为了吸附保持基板需要较长时间,存在涂敷装置 整体的生产周期变长的问题。即,在吸引口产生吸引力所需时间依赖于吸 引力产生装置的排气速度,因此,为将基板迅速地吸附于载物台上,必须 以高速进行排气。
但是,吸引力产生装置通常设置在设有涂敷装置工厂,还连接有需要 吸引力产生装置的其他装置,因此,当为了提高排气速度而变更吸引力产 生装置的设定压力时,有对其他装置带来影响之虞。

发明内容
本发明是鉴于上述问题点而作出的,其目的在于提供一种涂敷装置, 其能够在不变更吸引力产生装置的设定压力的情况下,通过迅速产生吸附 基板的吸引力而縮短吸附时间,从而提高作为涂敷装置整体的生产周期。
为解决上述课题,本发明的涂敷装置具备载物台,其载置基板;基
板保持机构,其在形成于所述载物台的表面的吸引孔产生吸引力而将基板
吸附保持于载物台的表面;涂敷组件,其相对于保持在载物台表面的基板 相对地移动的同时喷出涂敷液,所述涂敷装置的特征在于,所述基板保持 机构的吸引孔通过配管与产生吸引力的吸引力产生装置连通连接,所述配 管具备能够利用主阀开闭的主配管和能够利用副阀开闭的副配管,在所述 副配管设有具备储存部的储存箱,所述储存部在比所述副阀靠吸引力产生 装置侧具有规定容量,该储存部具有比一定区间的副配管的容量大的容
根据上述涂敷装置,由于设置有具有比一定区间的副配管的容量大的 所述储存部的储存箱,因此,能够使载物台的吸引孔产生吸引力而迅速吸 附基板。具体而言,通过使吸引力产生装置在主阀和副阀处于关闭的状态 进行动作,而使储存箱的储存部维持于在吸引力产生装置设定的设定压力 (比大气压低的压力)。并且,通过使主阀和副阀在基板载置于载物台的 表面的状态下设定打开状态,而将保持在所述设定压力的储存箱的储存部 瞬间开放,从而将从副阀至吸引孔的配管内的大气瞬间吸入储存部。由此, 能够在吸引孔迅速地产生吸引力。从而,仅使副阀进行动作即可在吸引孔 迅速地产生吸引力,因此,能够在不变更吸引力产生装置的设定压力的情 况下,縮短吸附基板的吸附时间,进而能够提高作为涂敷装置整体的生产 周期。
另外,所述储存部的容量可以比从所述副阀至所述吸引孔的配管的容 量的总和大。
根据该结构,通过设置储存箱的储存部,存在于从副阀至吸引孔的配 管内的大气全部吸入储存部,因此,能够可靠产生吸引孔的吸引力。
另外,可以在所述副配管设置有辅助配管,该辅助配管绕过所述储存 箱而与吸引侧副配管和阀侧副配管相连通地连接,其中,所述吸引侧副配
5管在吸引力产生装置侧连接于所述储存箱,所述阀侧副配管在副阀侧连接 于所述储存箱。
根据该结构,通过瞬间开放保持在设定压力的储存箱的储存部,而将 配置在储存箱两侧的阀侧副配管内及吸引侧副配管内的大气瞬间吸入储 存箱内。随之,与吸引侧副配管连通的辅助配管内的大气也通过吸引侧副 配管吸入储存箱内,由此,阀侧副配管内的大气进而通过辅助配管吸入储 存箱内。S卩,通过设置该辅助配管,与没有设置辅助配管的情况相比,阔 侧副配管内的大气吸入储存箱的流量变大,因此,从阀侧副配管至吸引孔 的配管内的大气瞬间吸入储存部。由此,能够更加迅速地产生吸引孔的吸 引力。
另外,可以具备对所述主阀及副阀的开闭动作进行控制的控制装置, 该控制装置使主阀及副阀处于关闭状态下使吸引力产生装置进行动作,由 此使所述储存箱的储存部维持在比大气压小的压力,在基板载置于载物台 的表面之后,使主阀和副阀处于打开状态,由此将基板吸附在载物台表面。
另外,具备对所述主阀及副阀的开闭动作进行控制的控制装置,该控 制装置将主阀及副阀维持在关闭状态,当在载物台表面载置有基板时,通 过使主阀和副阀处于打开状态而将基板吸附在载物台表面,然后,当吸引 孔的压力达到规定的压力的情况下,使副阀处于关闭状态来维持基板保持 在载物台表面上的状态。
根据该结构,通过使主阀及副阔从关闭状态到打开状态,而将基板迅 速地吸附在载物台的表面时,有在吸引孔产生必要以上的大的吸引力的情 况。并且,在以必要以上的吸引力持续吸附基板的情况下进行涂敷时,有 在与吸引孔相当的基板部分产生涂敷不均匀之虞。从而,当吸引孔的压力 达到规定压力的情况下,使副阀处于闭状态,仅用主配管进行吸附,由此, 能够抑制在吸引孔产生必要以上的大的吸引力,从而能够抑制在与吸引孔 相当的基板部分产生涂敷不均匀。
发明效果
根据本发明,能够在不变更吸引力产生装置的设定压力的情况下,通 过迅速产生吸附基板的吸引力而缩短吸附时间,从而提高作为涂敷装置整 体的生产周期。


图1是表示本发明实施方式的涂敷装置的立体图。
图2是表示涂敷组件的脚部附近的概略图。 图3是表示上述涂敷装置的配管系统的概略图。 图4是表示上述涂敷装置的控制系统的方框图。 图5是表示上述涂敷装置的动作的流程图。 图6是表示储存箱附近的配管内的大气流动的参考图。 图中10-基板,21-载物台,21a-吸引孔,40-基板保持机构,50-配管, 51-主配管,51a-主阀,52-副配管,52a-副阀,52b-阀侧副配管,52c-吸引 侧副配管,53-压力计,54-储存箱,54a-储存部,55-辅助配管。
具体实施例方式
结合

本发明的实施方式。
图1是概略地表示本发明一实施方式的涂敷装置的立体图,图2是表 示涂敷组件脚部附近的图,图3是表示涂敷装置的配管系统的图。
如图1 图3所示,涂敷装置是在基板10上形成药液和抗蚀剂液等液 状物(以下称涂敷液)的涂敷膜的装置,具备基板2、用于载置基板IO 的载物台21和构成为能够相对于该载物台21向确定方向移动的涂敷组件 30。
此外,在以下说明中,以将涂敷组件30移动的方向作为X轴方向、 与之在水平面上正交的方向作为Y轴方向、与X轴及Y轴方向双方正交 的方向作为Z轴方向进行说明。
在所述基座2的中央部分配置有载物台21。该载物台21载置有送入 的基板IO。在该载物台21上设有基板保持机构40,利用该基板保持机构 40保持基板10。具体而言,形成有在载物台21的表面形成的多个吸引孔 21a,通过在该吸引孔21a产生吸引力能够将基板10吸附保持在载物台21 的表面。
艮口,如图3所示,与其他装置共用使用的与已经设置的真空泵81 (吸 引力产生装置)相连的配管50与多个吸引孔21a相连通地连接,当真空 泵81动作时,配管50内成为低压(比大气压小的压力),由此能够在吸
7引孔21a产生吸引力而将基板10保持在载物台21上。
在所述配管50设置有主配管51和副配管52,这些主配管51及副配 管52与吸引孔21a相连通地连接。即,在图3所示的例子中,与真空泵 81连接的配管50与主配管51及副配管52连接,这些主配管51及副配管 52通过配管50与吸引孔21a连接。具体而言,主配管51及副配管52通 过配管50a、配管50b和配管50c与吸引孔21a连接,所述配管50a连接 所述主配管51及副配管52,所述配管50b从该配管50a分支连接,所述 配管50c从该配管50b分支连接。
主配管51形成为圆筒形状,整个长度方向具有大致相同的内径。并 且,在主配管51上设置有主阀51a和调节器51b。通过开闭该主阀51a能 够使真空泵81与吸引孔21a连通或隔断。另外,调节器51b是将主配管 51设定为规定压力的器件,在本实施方式中,由调节器51b设定的压力设 定为保持基板10的合适的保持压力(比大气压低的压力),即进行涂敷 时在与吸引孔21a对应的基板10部分不会有产生涂敷不均匀之虞的压力。
从而,通过使真空泵81在关闭副阀52a、完全打开主阀51a的状态下 动作,使得主配管51内控制为保持压力,在吸引孔21a产生与保持压力 对应的吸引力,保持在载物台21表面载置的基板10不会偏移。
副配管52形成为圆筒形状,整个长度方向具有大致相同的内径D并 且,在副配管52上设置有副阀52a和储存箱54。该副阀52a与主阀51a 相同,通过开闭该副阀52a,能够通过副配管52连通或隔断真空泵81和 吸引孔21a。
另外,储存箱54用于在吸引孔21a迅速地产生吸引力,其配置在比 副阀52a靠真空泵81侧。该储存箱54具备具有规定容量的储存部54a。 在本实施方式中,该储存部54a形成为比副配管52的内径大的直径,并 且形成沿与径向正交的方向延伸的圆筒形状。由此,储存部54a在一定区 间中具有比副配管52的容量大的容量。
此外,本发明的一定区间是指以由真空泵81 (吸引力产生装置)动作 而使大气流动的方向(称流动方向)为基准的规定长度(区间)。即,一 定区间的容量大是指在流动方向的区间(例如500mm的区间)的容量大。 在本实施方式中,副配管52和储存箱54的储存部54a具有圆筒形状,与副配管52的内径相比,储存部54a直径大,因此, 一定区间的容量在储 存部54a变大。并且,在本实施方式中,储存部54a的容量比从副阀52a 至吸引孔21a的配管50的容量的总和大。g卩,储存部54a的容量比从副 阀52a至吸引孔21a的配管50 (配管50a、配管50b、配管50c)的容量的 总和大。
另外,储存部54a配置为副配管52延伸的方向与储存部54a延伸的 方向相通,在储存部54a的一侧端部连结有副配管52 (阀侧副配管52b), 在储存部54a的长度方向的另一端部连结有副配管52 (吸引侧副配管 52c)。从而,当真空泵81在副阀52a关闭的状态下动作时,储存箱54的 储存部54a与阀侧副配管52b、吸引侧副配管52c —起保持在真空泵81的 设定压力。
此外,设定压力是指在吸引孔21a产生将基板IO吸附于载物台21所 必需的压力。并且,是比大气压低的压力,且比保持压力还低的压力。
另外,在副配管52以绕过储存箱54的方式设置有辅助配管55。该辅 助配管55用于使在吸引孔21a产生的吸引力迅速产生。具体而言,辅助 配管55具有与副配管52的内径相同尺寸的内径,阀侧副配管52b和吸引 侧副配管52c相连通地连接。由此,当使真空泵81在关闭副阀52a的状 态下动作时,从副阀52a至真空泵81侧的副配管52内、储存箱54的储 存部54a内及辅助配管55内保持为设定压力。此外,该辅助配管55的容 量比储存箱54的储存部54a容量小。
另外,在配管50设有压力计53。该压力计53检测配管50内的压力, 在本实施方式中设置有载物台21正下方的吸引孔21a附近的配管50。由 此,与设置在从吸引孔21a远离的位置的情况相比,抑制了压力损伤等影 响,因此,能够高精度测定吸引孔21a的压力状态。
另外,在载物台21上设有使基板10进行升降动作的基板升降机构。 基体而言,在载物台21的表面形成有多个销孔,在该销孔中埋设有能够 在Z轴方向上进行升降动作的升降销(未图示)。即,能够以使升降销从 载物台21的表面突出的状态送入基板10时,使升降销的前端部分与基板 IO抵接而保持基板IO,通过使升降销下降而收容于销孔,能够将基板IO 载置于载物台21的表面。另外,通过使升降销在基板10载置于载物台21的表面的状态下上升,
能够使升降销的前端部分与基板10抵接,利用多个升降销的前端部分来 将基板10保持在规定的高度位置。由此,能够有效抑制与基板10的接触 部分来进行保持,从而能够在不损坏基板10的情况下顺利地进行更换。
另外,涂敷组件30是在基板10上涂敷涂敷液的组件。如图1、图2 所示,该涂敷组件30具有与基座2连结的脚部31和沿Y轴方向延伸的管 部34,并以在Y轴方向横跨在基座2上的状态且能够在X轴方向移动地 安装基座2上。具体而言,在基座2的Y轴方向两端部分分别设置有沿X 轴方向延伸的导轨22,脚部31滑动自如地安装在该导轨22上。并且,在 脚部31上安装有线性电动机33,通过驱动控制该线性电动机33,涂敷组 件30能够在X轴方向移动并在任意位置停止。
如图2所示,在涂敷组件30的脚部31安装有进行涂敷液的涂敷的管 部34。具体而言,在该脚部31设置有沿Z轴方向延伸的导轨37和沿该 导轨37滑动的滑块35,连结所述滑块35和管部34。并且,在滑块35安 装有用伺服电动机36 (参照图4)驱动的滚珠丝杠机构,通过驱动控制该 伺服电动机36,滑块35在Z轴方向上移动,并且,能够在任意位置停止。 即,管部34被支承为相对于保持在载物台21的基板10可接近及远离。
管部34是涂敷涂敷液而在基板10上形成涂敷膜的部件。该管部34 是具有向单方向延伸的形状的柱状部件,并设置为与涂敷组件30的行进 方向大致正交。在该管部34设有沿长度方向延伸的狭缝喷嘴34a,供给于 该管部34的涂敷液从狭缝喷嘴34a在整个长度方向上均匀地喷出。从而, 在涂敷液从该狭缝喷嘴34a喷出的状态下,涂敷组件30在X轴方向行进, 由此沿沿狭缝喷嘴34a的整个长度方向在基板10上形成具有一定厚度的 涂敷膜。
以下,结合图4所示的方框图说明针对上述涂敷装置的控制系统的结构。
图4是表示设置于该实际安装装置的控制装置卯的控制系统的方框 图。如图4所示,该涂敷装置设置有对上述各种组件的驱动进行控制的控 制装置90。该控制装置90具有控制主体部91、驱动控制部92、压力控制 部93、输入输出装置控制部94、外部装置控制部95。
10控制主体部91具备:进行推理演算的公知的CPU;预先存储对该CPU 进行控制的各种程序等的ROM;暂时存储装置动作中各种数据的RAM;
存储各种程序和OS还有生产程序等各种数据的HDD等。并且,控制主 体部91具有主控制部91a、判定部91b、存储部91c。
主控制部91a为了按预先存储的程序进行一系列的涂敷动作,通过驱 动控制部92驱动控制各组件的伺服电动机36、线性电动机33等驱动装置。
判定部91b判定在吸引孔21a是否产生了保持被吸附的基板10的适 当的吸引力。具体而言,对吸引孔21a附近的压力状态是否合适进行判断。 即,对由压力计53检测的压力是否达到真空泵81的设定压力进行判定。 在后述的存储部91c存储有预先设定的设定压力数据,对检测的压力是否 为该设定压力进行判断。假设达到设定压力,经由后述的压力控制部93 控制以使副阀52a变为关闭状态。由此,通过将连通吸引孔21a和真空泵 81的配管50仅切换为主配管51,而将在吸引孔21a产生的压力调节为由 调节器51b设定的保持压力。另外,当压力计53没有达到设定压力时, 使主阀51a及副阀52a的状态维持在该状态。
存储部91c用于存储各种数据且暂时存储演算结果。具体而言,存储 设定压力、保持压力等数据。
驱动控制部92基于来自控制主体部91的控制信号,驱动控制线性电 动机33、伺服电动机36等。具体而言,通过控制线性电动机33及伺服电 动机36,而驱动控制涂敷组件30的移动以及管部34的升降动作等。
压力控制部93检测配管50内的压力,还基于来自控制主体部91的 控制信号,对在吸引孔21a产生的压力进行控制。具体而言,利用来自压 力计53的信号,检测吸引孔21a附近的配管50内的压力。另夕卜,基于压 力计53示出的设定压力,而从控制主体部91输送切换为保持压力的信号 的情况下,对副阀52a的驱动进行控制,以使副阀52a从打开状态成为关 闭状态,由此,将配管50内(准确的是吸引孔21a附近)控制为保持压 力。
输入输出装置控制部94对键盘83、触摸面板82等各输入输出装置进 行控制。具体而言,利用键盘83、触摸面板82进行涂敷动作的条件设定 等,能够随意进行设定压力、保持压力等的设定。另外,在从设定压力调节为保持压力的情况,配管50内进行了调节而没有成为保持压力的情况 下,在触摸面板上进行警告显示,对操作人员进行提醒警告。
外部装置控制部95基于来自控制主体部91的控制信号,进行外部装 置的驱动控制。在本实施方式中,通过与真空泵81连接,对该真空泵81 进行驱动,从而能够在吸引孔21a产生吸引力。
:接着,参照图5所示的流程图对该涂敷装置的动作进行说明。
首先,在步骤S1进行基板10的送入。具体而言,在多个升降销从载 物台21的表面突出的状态待机,利用未图示的机械手,将基板10载置于 升降销的前端部分。这时,确认主阀51a及副阀52a处于关闭状态。从而, 不会在载物台21的插通孔21a产生吸引力。
接着,在步骤S2中,将基板10载置于载物台21。具体而言,使升降 销从在升降销前端部分载置有基板10的状态下降,而将基板10载置于升 降销21的表面。这时,利用未图示的定位机构将基板10定位在规定位置。
接着,根据步骤S3 S5,基板10被吸附保持在载物台21上。首先, 根据步骤S3,进行基板吸附动作,基板10被吸附在载物台21上。具体而 言,通过以主阀51a及副阀52a成为打开状态的方式进行驱动控制,从而 连通连接吸引孔21a和真空泵81,因此,在吸引孔21a产生吸引力而使基 板10迅速地吸附在载物台21上。
艮口,在步骤S1、 S2中,在主阀51a及副阀52a为关闭的状态,由真 空泵81进行排气,因此,储存箱54的储存部54a内维持在设定压力(比 大气压低的压力)。并且,当主阀51a及副阀52a从该状态打开时,保持 在设定压力的储存箱54的储存部54a瞬间开放,因此,从主阀51a及副 阀52a到吸引孔21a的配管50内的大气瞬间吸入储存箱54的储存部54a 内。由此,能够在吸引孔21a迅速产生与设定压力对应的吸引力。
另外,在本实施方式中,设有辅助配管55,因此,能够在吸引孔21a 更加迅速地产生吸引力。即,在关闭主阀51a及副阀52a的状态,如图6 (a)所示,存在于辅助配管55内的大气通过吸引侧副配管52c向真空泵 81侧排气。并且,当从该状态打开主阀51a及副阀52a而瞬间开放储存箱 54的储存部54a时,吸入与储存部54a的两端部连接的副配管52内的大 气。SP,如图6 (b)所示,吸引侧副配管52c内的大气吸入储存部54a,因此,阀侧副配管52b内的大气通过辅助配管55吸入储存箱54,由此,阀侧副配管52b的大气被吸入储存部54a的流量变大。从而,通过从阀侧副配管52b至吸引孔21a的配管内的大气被吸入储存部54a的流量变大,由此能够更加迅速地产生在吸引孔21a的吸引力。由此,在吸引孔21a迅速地产生吸引力,从而基板10瞬时吸附在载物台21上。
接着,当基板10吸附在载物台21的表面时,对配管50内的压力是否达到设定压力进行判断(步骤S4)。具体而言,对压力计53是否达到设定压力进行判断,在没有达到设定压力的情况下,向"否"方向进行,继续进行基板的吸附动作。
另外,在压力计53达到设定压力的情况下,向"是"方向进行,进行基板的吸附保持动作(步骤S5)。具体而言,将副阀52a从打开状态切换为关闭状态。即,真空泵81与吸引孔21a的连通仅为主配管51,从而,吸引孔21a的吸引力被调节为与由调节器51b设定的保持压力相应的吸引力。从而,基板10被与保持压力对应的吸引力吸附保持在载物台21上。
接着,在步骤S6中,进行涂敷动作。即,使涂敷组件30在确定方向行进,同时喷出涂敷液,由此,在基板10的表面形成涂敷膜。
接着,在步骤S7中,进行基板10的取出。即,基于S6的涂敷动作在基板10表面形成涂敷膜之后,使真空泵81停止,使吸引孔21a的压力返回大气压。并且,通过使升降销上升,而在升降销的前端部分保持基板10,在未图示的机械手进行基板10的交接,从载物台21的表面排出基板10。
根据上述涂敷装置,主阀51a和副阀52a从关闭的状态成为打开状态,由此,保持在设定压力的储存箱54的储存部54a瞬间开放,因此,从副阀52a至吸引孔21a的配管50内的大气瞬间被吸入储存部54a。 SP,能够在吸引孔21a迅速地产生吸引力而使基板IO瞬时吸附于载物台21上。从而,仅使主阀51a和副阀52a进行动作,即能够在吸引孔21a迅速地产生吸引力,因此,能够在不变更真空泵81的设定压力的情况下,縮短吸附基板10的吸附时间,进而能够提高作为整体的生产周期。
另外,在上述实施方式中,对储存箱54的储存部54a具有直径比副配管52的内径大的圆筒形状的情况进行说明,但是,与规定区间的副配
13管52的容量相比,具有大的容量即可。S卩,如果与副配管52的容量相比具有大的容量,则使主阀51a及副阀52a从关闭状态变为打开状态,由此,保持在设定压力的储存箱54的储存部54a瞬间开放,从副阀52a至吸引孔21a的配管50内的大气吸入储存部54a。由此,能够在吸引孔21a迅速地产生吸引力而使基板10瞬时吸附在载物台21上。作为具体的储存部54a的例子,如果如上述实施方式那样为圆筒形状,则能够使用具有通用性的通常的箱,从而能够将成本抑制到较低。另外,截面并不限于圆筒形状,也可以为四边形和多边形等,形成为筒状即可。这时,在设置储存箱54的空间被限制的情况下,具有适合空的空间的形状来设计储存箱54,从而容易进行设置的优点。另外,储存箱54整体可以为具有规定螺距的螺旋形状,在比规定区间的副配管52的容量较大的形成。
另外,在上述实施方式中,对设有辅助配管55的例子进行了说明,但是,也可以为不设置该辅助配管55而仅具有储存箱54的结构。即使在该情况下,通过使保持在设定压力的储存箱54的储存部54a瞬间开放,从而能够在吸引孔21a产生吸引力而将基板10迅速地吸附在载物台21的表面。
另外,在上述实施方式中,对设置一根辅助配管55的例子进行了说明,但是,也可以设置多根辅助配管55。即使在该情况下,当储存箱54的储存部54a瞬间开放时,存在于多根辅助配管55内的大气通过吸引侧副配管52c进入储存部54a,从而,阀侧副配管52b内的大气进入储存部54a的流量增大,能够更加迅速地产生在吸引孔21a的吸引力。此外,即使在该情况下,多根辅助配管55的容量与储存部54a的容量相比较小地形成,由此,能够更加有效且迅速地在吸引孔21a产生吸引力。
此外,在上述实施方式中,对使用己经在工厂等设置的真空泵81的情况进行了说明,但是,也可以另行单独设置用作涂敷装置的真空泵。即使在该情况下,也能够在不变更真空泵81的设定压力的情况下,迅速地产生吸附基板10的吸引力。
权利要求
1. 一种涂敷装置,其具备载物台,其载置基板;基板保持机构,其使形成于所述载物台的表面的吸引孔产生吸引力而将基板吸附并保持于所述载物台的表面;涂敷组件,其相对于保持在所述载物台的表面的基板相对地移动,并且喷出涂敷液,所述涂敷装置的特征在于,所述基板保持机构的吸引孔通过配管与产生吸引力的吸引力产生装置相连通地连接,所述配管具备能够利用主阀开闭的主配管和能够利用副阀开闭的副配管,在所述副配管设有储存箱,该储存箱在比所述副阀靠吸引力产生装置侧具备具有规定容量的储存部,且该储存部具有比一定区间内的副配管的容量大的容量。
2. 根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,所述储存部的容量比从所述副阀至所述吸引孔的配管的容量的总和大。
3. 根据权利要求1或2所述的涂敷装置,其特征在于, 在所述副配管设置有辅助配管,该辅助配管绕过所述储存箱而与吸引侧副配管和阀侧副配管相连通地连接,其中,所述吸引侧副配管在吸引力 产生装置侧连接于所述储存箱,所述阀侧副配管在副阀侧连接于所述储存 箱。
4. 根据权利要求1 3中任一项所述的涂敷装置,其特征在于, 具备对所述主阀及副阀的开闭动作进行控制的控制装置,该控制装置在主阀及副阀处于关闭状态下使吸引力产生装置工作,由此使所述储存箱 的储存部维持在比大气压小的压力,在基板载置于载物台的表面之后,使 主阀和副阀处于打开状态,由此将基板吸附在载物台表面。
5. 根据权利要求4所述的涂敷装置,其特征在于,所述控制装置使主阀和副阀处于打开状态而将基板吸附于载物台表 面之后,在吸引孔的压力达到规定压力的情况下,使副阀处于关闭状态, 以比所述规定压力大且比大气压小的压力来维持基板保持在载物台的表 面上的状态。
全文摘要
本发明提供一种通过迅速产生吸附基板的吸引力而缩短吸附时间,从而能够提高涂敷装置整体的生产周期的涂敷装置。其具备基板保持机构,其在形成于载物台的表面的吸引孔产生吸引力而将基板吸附保持于载物台的表面;涂敷组件,其相对于基板相对移动的同时喷出涂敷液,其中,在基板保持机构的吸引孔连通连接与产生吸引力的吸引力产生装置连接的主配管及副配管,在主配管设有开闭主配管路径的主阀,在副配管设有开闭副配管路径的副阀,并设置有具备储存部的储存箱,所述储存部在比该副阀靠吸引力产生装置侧具有规定容量,储存部具有比一定区间的副配管的容量大的容量。
文档编号B05C13/00GK101518769SQ20091000682
公开日2009年9月2日 申请日期2009年2月27日 优先权日2008年2月27日
发明者森俊裕, 釜谷学 申请人:东丽工程株式会社
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