专利名称：具有减小的摩擦特性的装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及ー种具有基底和在基底上涂覆的涂层的装置，特别是用于显示装置的覆盖面板或监视器前面板或用于输入装置的表面，这样的装置的使用以及用于制造这样的装置的方法。
背景技术：
从DE19848591A1中已经公知ー种具有有机氟化物的光学玻璃片。按照DE19848591A1，通过对具有有机氟化物的玻璃片特别是汽车的风挡玻璃，窗玻璃或前照灯玻璃涂层，提供由于高耐摩性、小空气摩擦、改进的风档刮水器滑动性以及抗污染性而杰出的玻璃片。DE19848591A1限于传统玻璃范围。特别是没有描述在显示器面板领域重要的对指印的避免。
从US6472017B2中已经公知一种用于基底的特殊的涂层系统，其包括类似金刚石的碳层和由氟代烷基硅氧烷聚合物组成的涂层。类似金刚石的碳层用于提供耐久性和/或疏水性。氟代烷基硅氧烷聚合物层用于提供涂层系统的高接触角。US6472017B2也没有描述对指印的避免。DE19829172A1涉及ー种用于制造基底上的抗反射层的方法，特别是用于对光学组件进行调质处理。在DE19829172A1没有提及层的摩擦特性。从DE102007058927A1公知ー种具有溶胶-凝胶层和势垒层以及减反射层的基底。减反射层可以利用溶胶-凝胶方法来涂覆。来自DE102007058927A1的涂层用作为太阳能电池领域的耐磨、环境稳定的复合材料。在DE102007058927A1中没有描述摩擦系数，特别
是起始摩擦系数。从DE3941797A1公知一种用于基底的具有高抗反射作用的涂层系统，其中涂层借助CVD或反应喷涂被涂覆。DE10213036A1描述了ー种具有多层干涉涂层的塑料膜的涂层，其中多层干涉涂层可以用于抗反射系统。在DE3941797A1中以及在DE10213036A1中都没有给出涂层系统的摩擦系数。按照前面描述的，涂覆的基底通常具有如下问题，S卩，这些涂层的表面尽管接触角高但是通常是非常粗糙的。这一点导致，在例如用于显示器领域的玻璃片的情况下，圆珠笔或笔刮擦，这导致不稳固的书写并且此外还损伤表面。而正是在显示器产品中应用包含了触摸面板应用的玻璃面板-即，通过接触表面的部分可以直接控制技术设备的程序流程的ー种表面-的情况下，上(玻璃)表面和其特性是重要的。在现有技术中上玻璃表面由于前面示出的问题而不能可靠识别书写。此外现有技术中的玻璃表面容易受到例如指印污染。因此在现有技术中为了清洁玻璃表面必须使用具有专业的和商用玻璃清洗剂的清洗溶液
发明内容
本发明要解决的技术问题是，特别是在触摸面板应用情况下避免现有技术中的缺陷。特别地，玻璃表面上的指印应当被最大程度地避免或者是不太可见的。按照本发明，上述技术问题通过ー种装置解决，所述装置具有基底以及在该基底上涂覆的涂层，其中表面上的涂层具有在0. 01和0. 12之间，特别是在0. 02和0. I之间、特别优选在0. 03和0. 09之间的范围中的摩擦系数(tan a )。摩擦系数是在以角度a倾斜的斜面上确定的摩擦系数。在平面上布置的砝码发生滑动的情况下的角度a确定所述摩擦系数。就此而言，摩擦系数按照本发明是与滑动摩擦系数或动态摩擦系数相反的附着摩擦系数或起始摩擦系数或静态摩擦系数。按照本发明的涂层确保，表面看起来光滑或者变光滑并且其特征特别是降低了摩擦系数。 如果表面具有按照本发明的涂层，则例如可以在该表面上移动输入设备，而没有如典型地在利用塑料笔尖的笔或手指在通常的玻璃表面上发生的情况那样的“刮擦”或干扰的“附着”。此外明显降低了污物或指印在表面上的附着，从而可以干法清洁表面上的具有减小的附着的该污物。这一点特别是在触摸面板应用中是具有优势的。此外有机物质、例如油、特别是皮脂在具有按照本发明的涂层的基底上的附着或者说粘着明显减少或实际上被完全防止，从而指印最大程度被避免或者至少不太可见。因为皮脂不太或者说实际上完全没有附着在涂层上，所以也减轻了对具有按照本发明的涂层的基底的清洁。在ー种完全优选的实施方式中，在例如显示器或触摸面板的情况下通过有机物质或皮脂的污染甚至是可干法擦除的，即，可以不用对于有机的污染所必须用的清洗齐U。在一种扩展的实施方式中，涂层包括减反射涂层。包括了减反射涂层或者说抗反射涂层的涂层优选具有在0. 01和0. 12之间、优选在0. 02和0. I之间、特别优选在0. 03和
0.09之间范围中的在表面上的摩擦系数(tana)或静态摩擦系数。这一点通常通过涂覆到减反射涂层或者说抗反射涂层上的覆盖层来实现。降低了摩擦系数的覆盖层的厚度位于< 20nm、优选< IOnm的范围、特别地其位于0. Inm至IOnm的范围中。基底优选是玻璃片，特别是碱石灰玻璃片或硅酸硼玻璃，其例如借助拉制方法，例如上拉或下拉-拉制方法或浮法技术或通过铸制玻璃或轧制玻璃获得。特别是在后ー种方法中，即，铸制或轧制玻璃的情况下，可以是，经过抛光技术实现表面的所需光学品质，该品质例如对于显示器前面板来说是必须的。替换地，基底也可以是塑料基底。对于小规格的显示器玻璃，特别是触摸面板或触摸屏的应用来说，当基底具有彡Imm的厚度并且特别是薄基底吋，是优选的。肖特公司(SCHOTT AG)的最薄玻璃D263、B270或Borofloat是特别优选的。如果对于更大面积、例如具有大于Im2的面积，采用用于显示器的覆盖面板、可选地也称为触摸面板或触摸屏的装置，则优选使用具有4至6_厚度的基底，从而一起具有显示器的机械保护功能。片既可以是单层片也可以是复合片。复合片例如包括两个片，第一和第二片，它们例如利用PVB膜相连。在复合片的向外的表面中至少ー个表面装备有具有按照本发明的、具有在0. 01和0. 12之间、优选在0. 02和0. I之间、特别优选在0. 03和0. 09之间范围中的摩擦系数或静态摩擦系数(tana)的摩擦降低的表面。为了不仅提供表面的高平坦性而且提供可简单地利用液体清洗剂清洗的表面，按照本发明的层具有> 50度、特别是> 70度的接触角。具有> 50度、特别是> 70度的接触角的层除了前面描述的干法清洁之外附加地还可以借助液体的清洗剂如玻璃清洁剂或水来简单清洗玻璃表面的污物。降低的附着机制基本上可以确保按照本发明的层或涂层的良好的可清洗性，特别是干法清洁，该降低的附着机制例如通过小的摩擦系数来标志。按照本发明的层或涂层虽然同样具有甚至可以大于100°的高的接触角，但是对于可干法清洗性来说，关键的是污物、特别是有机污物在涂层的表面 上的低附着，而不是高接触角。在此描述的具有基底和其上涂覆的具有小的摩擦系数的涂层的装置的主要应用是用作覆盖面板，其提供机械保护功能和/或用于输入装置的表面，特别是在显示装置，所谓的显示器的情况下。特别地，所述装置用于通过接触所述装置的表面的部分而可以操作技术设备的情況，即，在具有交互输入的触摸面板应用领域。因为这样的片将附加的交界面引入到显示器的光学整体系统中，所以在仅使用通常的浮法玻璃作为基底材料、而在显示器上没有抗反射涂层的情况下，实现大约8%的反射性。该反射性干扰显示器的有效对比度，因为镜反射与显示器的有用信号竞争。由于这个原因，特别是对于该应用有利的是，将减反射涂层或者说抗反射涂层涂覆到基底上，即，采用减反射的片，其在可见波长范围的反射率Rvis在标准光D65情况下明显降低并且优选小于4%，特别优选< 2%。该玻璃或塑料片然后包括减反射涂层，其也称为抗反射涂层，其具有以下结构之一或者利用以下涂覆方法之一被涂覆a)借助流体技术涂覆减反射涂层或者说抗反射涂层，其中借助以下技术之ー提供借助流体技术涂覆的层-减反射涂层借助溶胶-凝胶技术来涂覆；-减反射涂层作为单层干涉涂层根据溶胶-凝胶技术来制备；-减反射涂层作为多层干涉涂层根据溶胶-凝胶技术来制备，其中多层干涉涂层特别是三层至七层干涉涂层；-减反射涂层作为三层干涉涂层根据溶胶-凝胶技术来制备，其中第一层具有在
I.6和I. 8之间的折射率，第二层具有在I. 9和2. 5之间的折射率并且第三层具有在I. 4和
I.5之间的折射率。b)减反射涂层或者说抗反射涂层借助高真空技术来制备，其中利用以下技术之ー提供借助高真空技术涂覆的层-减反射涂层借助高真空技术作为多层干涉涂层系统来制备，其中多层干涉涂层特别是三层至七层干涉涂层；-减反射涂层借助高真空技术作为单层系统来制备；-减反射涂层在高真空条件下根据喷涂处理来制备；-减反射涂层在高真空条件下根据蒸镀处理来制备。c)减反射涂层或者说抗反射涂层借助CVD方法来制备，其中利用以下技术之ー提供借助CVD方法涂覆的层
-减反射涂层按照在线CVD处理来制备；-减反射涂层按照离线CVD处理来制备；d)减反射涂层或者说抗反射涂层借助腐蚀方法来制备，其中利用以下技术之ー提供借助腐蚀方法涂覆的层-减反射涂层借助腐蚀方法作为多孔层来制备；-减反射涂层借助腐蚀方法作为光散射表面来制备。如果涂覆减反射涂层并且减反射涂层具有静态摩擦系数(tan a )在0. 01和0. 12之间、优选在0. 02和0. I之间、特别优选在0. 03和0. 09之间范围中的覆盖层，则将减反射层例如通过混合前体材料或多聚体来这样光学地与覆盖层匹配，使得存在减反射作用。减反射作用是这样的，即，在一面或两面涂覆的情况下整个系统的反射在标准光D65情况下 在可见波长范围中位于0. I %和7%之间，优选位于0. 1%和6%之间，特别优选位于0. 1%和5. 5 %之间，尤其优选位于0. I %和4 %之间，特别地位于0. I %和2 %之间，完全优选位于0. 1%和I. 5%之间。特别优选地，按照本发明的具有涂层的基底在以下领域之一或者对于以下产品之一被米用-用于显示器或显示装置的保护面板-用于显示器的覆盖面板；-用于触摸面板的覆盖面板；-具有光学扫描的触摸屏的一部分；-在显示系统内部作为用于交互输入信号的触摸面板或作为覆盖和保护面板。除了装置，本发明还提供一种用于制备在基底上具有在0.01和0. 12之间、优选在0. 02和0. I之间、特别优选在0. 03和0. 09之间范围中的摩擦系数的涂层的方法，该方法按照一种实施方式包括以下步骤-将涂层，特别是抗反射涂层利用流体技木，特别是利用溶胶凝胶技术或利用高真空技术或借助CVD方法，如前面描述的那样涂覆到基底上；-将涂覆的基底引入到被抽成低真空的低压容器中；-将涂覆到基底上的涂层在另ー个方法步骤中这样加工，特别是至少局部平滑，使得涂层的摩擦系数位于0. 01和0. 12之间、优选在0. 02和0. I之间、特别优选在0. 03和0. 09之间范围中。按照ー种特别优选的第二实施方式，在按照本发明的方法中-将涂覆的基底引入到调整为在IOPa至1050hPa，优选10hPa_500hPa范围的真空的低压容器中，其中作为真空，优选抽成在IOPa和IOOPa之间范围的高真空或高于IOOPa的低真空；-将覆盖层这样涂覆到涂层上，使得摩擦系数位于0.01和0. 12之间、优选在0. 02和0. I之间、特别优选在0. 03和0. 09之间。在此将涂层优选至少局部平滑。为了调节涂层的摩擦系数，例如可以使用德国FrankenstraP e 19, D-63791Karlstein的Cotec有限公司生产的的超疏水的涂层材料“Duralon Ultratec”以片剂形式(14_直径，5_高)结合加入到位于前面描述的低压容器中的蒸发器中。然后从该蒸发器中在100°C至400°C的温度的情况下从片剂的填充物中蒸发出涂层材料并且在基底或事先涂覆的涂层-例如抗反射涂层或者说减反射涂层-上沉积，作为覆盖层。在此为了分布涂层材料，优选采用ー种如EP-A-1816232(其公开被全部引入到本申请中)中公开的用于全面涂覆物体的装置。如德国Frankenstra0 e 19,D_63791 Karlstein的Cotec公司为了蒸发材料“Duralon Ultratec”的片剂而规定的那样调节时间和温度曲线。(未被涂覆的和/或具有抗反射涂层的)基底在处理中达到位于300K至370K范围的稍微提高的温度。上面描述的涂覆方法通常提供覆盖层，该覆盖层仅几个nm，通常小于IOnm厚并且优选仅表示涂层的或基底的表面的单分子饱和。如果将覆盖层涂覆到减反射涂层或者说抗反射涂层，则涂层的厚度或者由涂层和覆盖层组成的整个系统的折射率改变。为了进一歩实现好的减反射，有利的是，调节由减反射和覆盖层组成的整个系统。因为覆盖层非常薄，所以在这样薄的覆盖层的情况下仅须微小地利用抗反射层调节光学系统，以便实现抗反射涂层的残余反射的期望的色调，例如通过改变的层结构。专业人员公知，如何能够向上面描述的处理插入混合，所述混合例如产生对于抗反射涂层的比IOnm更高的层厚。作为例子可以提到，与低附着摩擦的层的蒸发同时蒸发附加的多聚体化合物，所述附加的多聚体化合物留下透明的层。然后将用于减小附着摩擦的材料一起置于该层中并且可以作为具有大于IOnm的层实现明显的光学作用。在这种情况下，例如由具有低摩擦系数的材料组成的最上 面的覆盖层以及抗反射系统的与覆盖层相邻的由具有在I. 37和I. 6之间的折射系数的低折射材料构成的最近层，看作为在抗反射系统的设计中被一起考虑的ー个唯一的层。作为对于覆盖层的混合，作为基前驱物材料可以除了上面提到的多聚体之外对于已知的CVD处理使用各种材料。
以下结合实施例描述本发明。其中图I示出了用于确定摩擦系数的测量原理；图2a_2b示出了按照本发明的装置，作为基底材料，包括单片(图2a)和复合片(图 2b)。
具体实施例方式图I示出了用于确定摩擦系数的測量原理，如作为本申请的基础并且在表I中对于不同的样本说明的那样。将待检查的具有涂层的玻璃片限定地引入到倾斜位置并且在具有高度a的块12的棱边上通过可移动的挡板14在方向15上这样移动，使得斜坡的角度，即角度a，越来越大。在移动挡板14时，在支点17和块12之间的线段b改变，由此改变角度a。块14的高度a为15mm。对于角度a成立关系tan ( a ) = a/b位于所述片上的砝码20在角度a増加时发生滑动。砝码20在玻璃片上发生滑动的角度于是就说明按照本发明的摩擦系数。按照本发明的摩擦系数由此是附着摩擦系数或起始摩擦系数或静态摩擦系数。作为砝码20，优选采用具有尺寸20X20X10mm的具有摆上的测量块并且具有106g重量的由“ Delrin” (POM)组成的方体。角度a可以非常简单地从线段b和a，如上所述确定。根据规定的高度a和长度b (在该长度b的情况下块开始滑动)的确定，可以从中确定角度tana，其相应于摩擦系数，在此是静态摩擦系数。测量了以下的样本并且如表I中说明的,对于该例子确定了摩擦系数和接触角例I :模式I :在按照模式I的样本中按照溶胶-凝胶方法建立了抗反射涂层。涂层由分别三个单层组成并且具有结构
基底+M+T+S利用T表示的单层包含ニ氧化钛(TiO2)，利用S表示的单层包含ニ氧化硅(Si02)并且利用M表示的单层分别从S和T混合溶液中提取。将浮法玻璃基底在涂覆之前小心地清洗。分别在调节到28°C的室内在5至10g/kg的湿度的情况下涂覆浸溃溶液，其拉制速度对于单层M/T/S大约为275/330/288mm/min。在拉制每个凝胶层之后接着是对空气的烘烤处理。烘烤温度和烘烤时间在制备第一凝胶层之后为180°C /20min以及在制备第二和第三凝胶层之后为440°C /60mino在T层的情况下浸溃溶液(每升)由以下组成68ml M-丁基-钛，918mlこ醇(ABS)，5mlこ酰丙酮和9mlこ基こ酸正丁酷。用于制备S层的浸溃溶液包含125ml亚甲基硅酸、400mlこ醇(ABS)、75ml (蒸馏的)水、7. 5mlこ酸并且在静置大约12小时之后利用393mlこ醇(ABS)稀释。用于制备具有平均折射率的氧化物的涂层溶液通过混合S+T-溶液来准备。利用M表示的层从具有5. 5g/l ニ氧化硅含量和2. 8g/l ニ氧化钛含量的浸溃溶液中提取。应用的湿化学溶胶-凝胶处理允许作为浸溃方法实现较大面积的经济的涂层。除了借助溶胶-凝胶方法(模式I)制备的抗反射涂层之外还可以借助喷涂处理涂覆抗反射涂层。这样的涂覆的系统是例2:模式2 例-模式2是按照喷涂方法如下被涂覆的单面抗反射层将涂层在连续装置中利用MF喷涂处理通过磁控管喷涂器涂覆，其中基底在所谓的载体中定位并且在该载体上被传送通过喷涂装置。用于涂覆的该方法如下a)在涂覆设备内部将基底首先为了表面的脱水而预热到大约150°C。然后如下制备(例如由四层组成的)抗反射系统b)以I. 7mm/min的进料速度喷涂高折射层，其中载体在喷涂源之前摆动并且期间沉积30nm厚的层。通过在调节反应气体的条件下将氩和反应性气体添加到等离子体阻抗来进行层制备。处理压力特别地通过氩的量来确定，其导致在1XE-3和lXE-4mbar之间的范围的典型的处理压力。在等离子体中的沉积通过脉动来进行。c)以2. 14m/min的进料速度喷涂低折射层。在此制备30. 5nm厚度的层。层制备相应于层I的沉积来进行。d)相应于层I喷涂高折射层。在此在0. 9m/min的进料速度的情况下制备54nm厚度的层。e)按照层2喷涂低折射层。在0. 63m/min进料的情况下制备103nm厚度的层。然后将涂覆的基底利用载体经过传输室束流引出。f)对于样本的制备，然后在第二涂覆过程中将背面通过按照步骤a)至d)对样本的背面的涂覆同样来减反射。附加地,按照例-模式I涂覆的层可以利用ETC(easy to clean)层来涂覆。在模式3中说明这样的系统。例3 模式3 将按照模式I的层预先经过清洗机器清洗并且利用中和剂预处理，使得涂层无油脂。利用产品ClearShield喷洒这样清洗的表面,该产品例如由来自Hann (德国)的Bohle公司商业提供并且对于ETC (Easy to Clean)应用来说是ー种典型的氟聚合物溶剂。利用ClearShield喷洒的面积在室温下作用大约10至15分钟。然后洗去涂覆的面积并且干燥。通过利用ETC (Easy to Clean)-ClearShield-层涂覆,相对于未处理的样本,诸如模式I或模式2，接触角可以明显改善。接触角的该改善从表2可以获悉。然而，在模式I或模式2中从23或46度的接触角提高到模3中的78度并不意味着达到了相应的摩擦系数并且由此手指或笔容易地滑过表面或可以干法清扫。为了实现这一点，按照本发明需要将按照模式I的层在处理中进行后处理或如前所述将覆盖层作为光滑层涂覆到抗反射层上。这ー点在模式4中说明。例4:模式4:对于模式4说明的涂层又是按照模式I的涂层，其经过后处理。在后处理中将按照模式I的涂层在处理中利用真空后处理。在此将按照模式I的涂覆的玻璃装入低压容器中，该低压容器然后被抽成低真空。为了例如利用覆盖层降低摩擦系数或平滑涂层,例如可以将德国Frankenstra^ e19, D-63791 Karlstein的Cotec有限公司的超疏水的涂层材料“Duralon Ultratec”以片剂形式(14_直径，5_高)结合加入到蒸发器中，该蒸发器位于前面描述的低压容器中。然后在该蒸发器中在100°C至400°C温度下将涂层材料从片剂的填充物中蒸发出来并且沉积在基底的表面或者事先涂覆的涂层上，例如抗反射涂层，作为覆盖层。在此为了分布涂层材料，优选采用ー种如EP-A-1816232(其公开被全部引入到本申请中)中公开的用于全面涂覆物体的装置。如德国Frankenstra 0 e 19,D_63791 Karlstein的Cotec有限公司为了蒸发材料“Duralon Ultratec”的片剂而规定的那样调节时间和温度曲线。(未被涂覆的和/或具有抗反射涂层的)基底在处理中达到位于300K至370K之间范围的稍微提高的温度。
如从表I得出的，通过如前所述的后处理，达到位于0.01至0. 12的范围中的tan a = 0. 07的摩擦系数或附着摩擦系数。如从表2得出的，对于模式4的接触角是高的，S卩，超过100度。此外从表I中得出，达到0. 07、也就是说在0. 01和0. 12之间的摩擦系数或附着摩擦系数，而没有利用附加的覆盖层处理的样本-模式I-模式3-具有高于0. 12、优选在0. 16至0. 2的范围中的摩擦系数或附着摩擦系数。对摩擦系数和接触角的检查的结果在下面的表中说明。表I :样本的摩擦系数例模式ト模式4
权利要求
1.一种装置，特别是用于显示装置或监视器前面板或用于输入装置的表面的覆盖片，包括 基底； 在该基底(100)上涂覆的涂层(110)， 其特征在于， 所述涂层具有摩擦系数(tana )在O. 01和O. 12之间，特别是在O. 02和O. I之间、特别优选在O. 03和O. 09之间的范围中的表面。
2.根据权利要求I所述的装置， 其特征在于， 这样选择所述涂层，使得最大程度避免有机物质、特别是油和皮脂的附着。
3.根据权利要求I至2中任一项所述的装置， 其特征在于， 所述涂层(Iio)包括至少一个减反射涂层(121. I)并且所述涂层(110)具有覆盖层(122)，所述覆盖层布置在减反射涂层(121.1)上方并且覆盖层的表面(112)具有在O. 01和O. 12之间，特别是在O. 02和O. I之间、特别优选在O. 03和O. 09之间的范围中的摩擦系数(tan α)。
4.根据权利要求3所述的装置， 其特征在于， 所述覆盖层(122)的厚度在< 20nm、优选< IOnm的范围、优选在O. Inm至IOnm的范围中。
5.根据权利要求3至4中任一项所述的装置， 其特征在于， 所述减反射层(121. I)这样光学地与覆盖层(122)匹配，使得提供减反射作用。
6.根据权利要求4或5所述的装置， 其特征在于， 所述涂层(110)或覆盖层的折射率为I. 37和I. 6之间。
7.根据上述权利要求I至6中任一项所述的装置， 其特征在于， 所述基底(100)是 -玻璃片，特别是碱石灰玻璃片或硅酸硼玻璃，其例如借助拉制方法、浮法技术或通过铸制玻璃或轧制玻璃获得，或 -塑料基底，特别是普列克斯玻璃基底，或 -复合玻璃片(205)。
8.根据权利要求I至7中任一项所述的装置， 其特征在于， 所述基底(100)具有在O. 05mm和IOmm之间、特别是在O. 05mm和8mm之间、特别优选在O. 05mm至3mm范围中的厚度。
9.根据权利要求I至8中任一项所述的装置， 其特征在于，所述涂层(Iio)在向外的表面(112)上具有> 50°、特别是> 70°、特别优选> 80°的接触角。
10.根据权利要求I至9中任一项所述的装置， 其特征在干， 所述基底(100)是片状的，具有第一面(114. I)和第二面(114. 2)并且所述涂层(110)涂覆到片状基底的第一面(114. I)和/或第二面(114. 2)上。
11.根据权利要求10所述的装置， 其特征在干， 在第一面和/或第二面(114. 1，114. 2)上的所述涂层包括减反射涂层(121. 1，121. 2)并且整个系统的反射率Rvis位于0. 1%和7%之间，优选位于0. 1%和6%之间，特别优选位于0. 1%和5. 5%之间，尤其优选位于0. 1%和4%之间，更特别地优选位于0. 1%和2%之间，完全优选位于0. 1%和I. 5%之间。
12.根据权利要求I至11中任一项所述的装置， 其特征在干， 所述减反射涂层包括以下结构之一或利用以下涂覆方法被涂覆 a)借助流体技术涂覆减反射涂层，其中借助以下技术之ー提供借助流体技术涂覆的层 -减反射涂层借助溶胶-凝胶技术来涂覆； -减反射涂层作为单层干涉涂层根据溶胶-凝胶技术来制备； -减反射涂层作为多层干涉涂层根据溶胶-凝胶技术来制备，其中多层干涉涂层特别是三层至七层干涉涂层； -减反射涂层作为三层干涉涂层根据溶胶-凝胶技术来制备，其中第一层具有在I. 6和I.8之间的折射率，第二层具有在I. 9和2. 5之间的折射率并且第三层具有在I. 4和I. 5之间的折射率； -减反射涂层借助高真空技术来制备，其中利用以下技术之ー提供借助高真空技术涂覆的层 -减反射涂层借助高真空技术作为多层干涉涂层系统来制备，其中多层干涉涂层特别是三层至七层干涉涂层； -减反射涂层借助高真空技术作为单层系统来制备； -减反射涂层在高真空条件下根据喷涂处理来制备； -减反射涂层在高真空条件下根据蒸镀处理来制备， -减反射涂层借助CVD方法来制备，其中利用以下技术之ー提供借助CVD方法涂覆的层 -减反射涂层按照在线CVD处理来制备； -减反射涂层按照离线CVD处理来制备； -减反射涂层借助腐蚀方法来制备，其中利用以下技术之ー提供借助腐蚀方法涂覆的层 -减反射涂层借助腐蚀方法作为多孔层来制备； -减反射涂层借助腐蚀方法作为光散射表面来制备。
13.按照权利要求I至12中任一项所述的装置在以下范围之一或对于以下产品之一的应用 -显示器或显示装置的覆盖面板； -触摸面板的一部分； -具有光学扫描的触摸屏的一部分； -在显示系统内部作为用于交互输入信号的触摸面板或作为覆盖或保护面板， -用于显示器、显示装置、触摸屏的保护面板。
14.用于制造具有低摩擦特性的装置、特别是用于显示装置的覆盖面板或监视器前面板或用于输入装置的表面的方法，包括步骤 -准备基底， -将涂覆的基底置于低压容器中，该低压容器然后被抽成低真空， -将涂覆到基底上的涂层在另ー个步骤中这样处理或者平滑，使得涂层的摩擦系数位于0. 01和0. 12之间，优选在0. 02和0. I之间、特别优选在0. 03和0. 09之间。
15.用于制造具有低摩擦特性的装置、特别是用于显示装置的覆盖面板或监视器前面板或用于输入装置的表面的方法，包括步骤 -准备基底， -将涂层，特别是抗反射涂层或减反射涂层利用流体技木，特别是利用溶胶-凝胶技术或利用高真空技术或借助CVD方法，涂覆到基底上； -将涂覆的基底置于调整为处于IOPa至1050hPa，优选10hPa_500hPa范围的真空的低压容器中，其中作为真空，优选抽成在IOPa和IOOPa之间范围的高真空或高于IOOPa的低真空； -将覆盖层这样涂覆到所述涂层上，使得摩擦系数在0. 01和0. 12之间，优选在0. 02和0.I之间、特别优选在0. 03和0. 09之间。
16.根据权利要求14或15所述的方法， 其特征在干， 为了降低涂层的摩擦系数，将超疏水的涂层材料置于在低压容器中的蒸发器中并且从蒸发器中蒸发出超疏水的涂层材料并且然后在基底的表面上沉淀或者在涂层上，特别是在抗反射涂层或减反射涂层上，形成覆盖层，从而基底或覆盖层具有在0. 01和0. 12之间，优选在0. 02和0. I之间、特别优选在0. 03和0. 09之间的范围中的摩擦系数。
17.根据权利要求16所述的方法， 其特征在干， 蒸发器中的温度位于100°C和400°C之间。
18.根据权利要求14至17中任一项所述的方法， 其特征在干， 所述基底具有在300K和370K之间的温度。
19.根据权利要求15至18中任一项所述的方法， 其特征在干， 所述覆盖层的厚度位于< 20nm、特别< IOnm的范围、优选地位于0. Inm至IOnm的范围中。
20.按照权利要求14至19中任一项所述的方法在以下产品之一的制造中的使用-显示器、显示装置的覆盖面板；-触摸面板的一部分；-具有光学扫描的触摸屏的一部分；-在显示系统内部作为用于交互输入信号的触摸面板或作为覆盖和保护面板，-用于显示器、显示装置、触摸屏的保护面板。
全文摘要
本发明涉及一种装置，特别是用于显示装置的覆盖片或监视器前面板或用于输入装置的表面，包括基底；该基底(100)上涂覆的涂层(110)，其特征在于，所述涂层具有摩擦系数(tanα)在0.01和0.12之间，特别是在0.02和0.1之间、特别优选在0.03和0.09之间的范围中的表面。
文档编号B05D5/08GK102770219SQ201080047916
公开日2012年11月7日 申请日期2010年10月20日 优先权日2009年10月23日
发明者玛塔·克尔兹亚克, 皮特·克拉赫特, 马滕·沃尔德 申请人:肖特股份有限公司