专利名称：表面保护片的制作方法
技术领域：
本发明涉及表面保护片。本发明的表面保护片在对金属板、涂装板、铝窗框、树脂板、装饰钢板、氯乙烯层压钢板、玻璃板等构件，偏光片、液晶面板等光学构件，电子构件等搬运、加工或保养时等，粘贴在这些构件的表面，保护该表面的用途等中使用。特别是作为金属板、树脂板、玻璃板等的表面被亲水性涂膜或经表面处理而亲水化的亲水性构件，膜厚形成为要防止反射的波长的1/4的带有防反射功能的基板，或由纳米级的凹凸结构而带有防反射功能的基板等的要求低污染的表面保护片有用。
背景技术：
在涂装钢板等的涂装板中，存在从表面光滑至表面粗糙的各种涂装板，为了保护其表面在搬运时、加工时不受损伤等，一般在该表面粘贴表面保护片。表面保护片通常在基材层的一侧设置有粘接剂层。对于表面保护片，与要求良好的粘接性、粘接力的稳定性同样，要求易剥离，没有由将表面保护片剥离后残留于粘附体的粘接剂所造成的污染等。例如，专利文献1中报告有使由粘接剂造成的污染降低的表面保护片。近年来开发了使用将以二氧化硅等无机物为主要成分的纳米尺寸的微粒子分散的涂料，在各种基板上形成涂膜，实现入射光的低反射和高透射的技术(例如，专利文献 2)。该涂膜具有非常细微的凹凸，因此具有易损伤、易破损这类缺点。因此，在搬运、加工具有该涂膜的基板时使用表面保护片。然而，如果在具有上述涂膜的基板上使用表面保护片，则产生由剥离后残留于基板的粘接剂所造成的污染，而有该基板的反射率和透射率都很低，破坏由防反射膜赋予的特性的情况。另外，根据用途，有在装配工序中存在150°C以上的加热工序的情况。在经过这样的加热工序的情况下，即使使用专利文献1中公开的表面保护片，也会产生粘接剂残留所造成的污染。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2010-36448号公报专利文献2 国际公开第2008/041681号
发明内容
发明所要解决的课题本发明是为了解决上述现有的问题而完成的，其目的在于提供一种表面保护片， 该表面保护片能够与粘附体良好地粘接，且能够容易地进行再剥离，抑制剥离后的粘附体表面残留粘接剂造成的污染。用于解决课题的方法本发明的表面保护片，其具备基材层和粘接剂层，具有防反射膜的透明基板的可见光线透射率T1 )，和在该透明基板的一侧粘接该表面保护片并在160°C放置1小时后， 在23°C的温度环境下剥离了该表面保护片后的该透明基板的可见光线透射率T2(% )之差ΔΤ(% ) (ΔΤ = Τ「Τ2)满足 ΔΤ ≤ 1.8 的关系。在优选的实施方式中，构成上述粘接剂层的粘接剂中所包含的主要成分为将聚合物A交联得到的聚合物P。在优选的实施方式中，上述聚合物A为将以(甲基)丙烯酸酯单体为主要成分的单体组合物聚合而得到的丙烯酸类聚合物。在优选的实施方式中，将上述表面保护片的拉伸弹性模量设为E(GPa)时，满足 ΔΤ/Ε1Λ°<2.0 的关系。在优选的实施方式中，本发明的表面保护片用于保护要求低污染的基板的表面。在优选的实施方式中，本发明的表面保护片用于保护具有防反射膜的基板。在优选的实施方式中，本发明的表面保护片用于保护太阳电池用玻盖玻璃的表发明的效果根据本发明，能够提供一种表面保护片，其能够与粘附体良好地粘接，且可容易地进行再剥离，可以抑制在剥离后的粘附体表面残留粘接剂造成的污染。
图1是本发明的优选实施方式的表面保护片的概略剖面图。
具体实施例方式《Α.表面保护片》本发明的表面保护片具备基材层和粘接剂层。图1是本发明的优选实施方式的表面保护片的概略剖面图。表面保护片10具备基材层1和粘接剂层2。本发明的表面保护片根据需要还可以具有任意适当的其它层(没有图示)。相对于基材层1的未附设粘接剂层2的面，以形成容易开卷的卷绕体等为目的，例如在基材层中可以添加脂肪酸酰胺、聚乙烯亚胺、长链烷基类添加剂等进行脱模处理，或设置由硅酮类、长链烷基类、氟类等任意适当的剥离剂构成的涂层。还可以与基材另外粘贴具有脱模性的剥离衬垫。本发明的表面保护片的厚度可根据用途设定为任意适当的厚度。从防止损伤及粘接力的观点来看，优选为10 300 μ m,更优选为15 250 μ m,更加优选为20 200 μ m,特别优选为25 150 μ m。本发明的表面保护片的具有防反射膜的透明基板的可见光线透射率T1 (%)，和该透明基板的一侧粘贴该表面保护片并在160°C放置1小时后，在23°C的温度环境下剥离该表面保护片后的该透明基板的可见光线透射率T2(%)之差AT(^)(AT = T1-T2)满足 ΔΤ^1.8的关系。通过使用这样的表面保护片，即使将其粘贴在具有防反射膜的基板的情况下，也能够抑制粘接剂残留造成的污染。本发明的表面保护片优选满足1.6的关系，更优选满足1.4的关系。本发明的表面保护片优选该表面保护片的拉伸弹性模量E(GPa)、与具有防反射膜的透明基板的可见光线透射率T1 )和在该透明基板的一侧粘贴该表面保护片并在 160°C放置1小时后在23°C的温度环境下剥离该表面保护片后的该透明基板的可见光线透射率T2(%)之差AT(^)(AT = T1-T2)满足ΔΤ/Ε1Λ°<2·0的关系。通过使用这样的表面保护片，即使粘贴在具有防反射膜的基板上的情况下，也能够更进一步抑制粘接剂残留造成的污染。本发明的表面保护片优选满足ΔΤ/Ε1Λ°< 1.7的关系，更优选满足ΔΤ/ Ε1Λ°<1.5的关系。本发明的表面保护片的拉伸弹性模量E(GPa)没有特别地限制，优选表面保护片满足ΔΤ/Ε1Λ°彡2. 0的关系即可。优选表面保护片的拉伸弹性模量为0. 5GPa以上，更优选为0. 5. OGPa0本发明的表面保护片的拉伸弹性模量只要在上述的范围内，就能够减小表面保护片的粘接剂层和粘附体(特是具有包含非常细微的凹凸的防反射膜的粘附体) 的接触面积，就能够进一步抑制粘接剂的残留造成的粘附体的污染。本发明的表面保护片的具有防反射膜的透明基板的可见光线透射率T1 (%)、和在该透明基板的一侧粘贴该表面保护片并在160°C放置1小时后在23°C的温度环境下剥离该表面保护片后的该透明基板的可见光线透射率T2)之差ΔΤ(% ) (ΔΤ = T1-T2)没有特别地限制，只要满足ΔΤ彡1.8的关系即可。ΔΤ(% )优选为0彡ΔΤ彡1.8，更优选为 O^ ΔΤ彡1.6，更加优选为0彡ΔΤ彡1.4。只要Δ T (%)在上述的范围，就可抑制粘接剂的残留造成的污染，能够充分地维持防反射膜的功能。<Α-1.基材层 >作为基材层的厚度，可以根据用途，采用任意适当的厚度。基材层的厚度优选为 5 300 μ m,更优选为10 250 μ m,更加优选为15 200 μ m,特别优选为20 150 μ m。基材层即可以是单层，也可以是两层以上的叠层体。基材层也可以是经过拉伸的层。作为基材层的材料，根据用途，采用任意适当的材料。列举出例如，塑料、纸、金属薄膜、无纺布。优选为塑料。基材层即可以由一种材料构成，也可以由两种以上的材料构成。 例如，也可以由两种以上的塑料构成。作为上述塑料，可以列举例如聚酯类树脂、聚酰胺类树脂、聚烯烃类树脂等。作为聚酯类树脂，可以列举例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等。作为聚烯烃类树脂，可以列举例如烯烃单体的均聚物、烯烃单体的共聚物等。作为聚烯烃类树脂，具体而言，可以列举例如均聚丙烯，以乙烯成分为共聚成分的嵌段类、无规类、接技类等的丙烯类共聚物，反应器合成型ΤΡ0，低密度、高密度、线性低密度、超低密度等乙烯类共聚物，乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、 乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、乙烯-丙烯酸丁酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸共聚物、乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物等乙烯类共聚物等。基材层根据需要可以含有任意适当的添加剂。作为基材层中可以含有的添加剂， 可以列举例如抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、抗静电剂、填充剂、颜料等。基材层中可以含有的添加剂的种类、数、量可根据目的适当设定。特别是在基材层的材料为塑料的情况下，以防止劣化等为目的，优选含有上述添加剂中的几种。从提高耐候性等观点考虑，作为添加剂，特别优选列举抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、填充剂。作为抗氧化剂，可以采用任意适当的抗氧化剂。作为这样的抗氧化剂，可以列举例如酚类抗氧化剂、磷类加工热稳定剂、内酯类加工热稳定剂、硫类耐热稳定剂、酚-磷类抗氧化剂等。抗氧化剂的含有比例相对于基材层的原料树脂(基材层为混合物的情况下，该混合物为原料树脂)100重量份，优选为1重量份以下，更优选为0. 5重量份以下，更加优选为0. 01 0. 2重量份。作为紫外线吸收剂，可以采用任意适当的紫外线吸收剂。作为这样的紫外线吸收剂，可以列举例如苯并三唑类紫外线吸收剂、三嗪类紫外线吸收剂、二苯甲酮类紫外线吸收剂等。紫外线吸收剂的含有比例相对于形成基材层的原料树脂(在基材层为混合物的情况下，该混合物为原料树脂)100重量份，优选为2重量份以下，更优选为1重量份以下，更加优选为0. 01 0. 5重量份。作为光稳定剂，可以采用任意适当的光稳定剂。作为这样的光稳定剂，可以列举例如受阻胺类光稳定剂、苯甲酸酯类光稳定剂等。光稳定剂的含有比例相对于形成基材层的原料树脂(在基材层为混合物的情况下，该混合物为原料树脂)100重量份，优选为2重量份以下，更优选为1重量份以下，更加优选为0. 01 0. 5重量份。作为填充剂，可以采用任意适当的填充剂。作为这样的填充剂，可以列举例如无机类填充剂等。作为无机类填充剂，具体而言，可以列举例如炭黑、氧化钛、氧化锌等。填充剂的含有比例为相对于形成基材层的原料树脂(在基材层为混合物的情况下，该混合物为原料树脂)100重量份，优选为20重量份以下，更优选为10重量份以下，更加优选为0. 01 10重量份。进一步来说，作为添加剂，以赋予防静电性为目的，也可以优选列举表面活性齐U、 无机盐、多元醇、金属化合物、碳等无机类、低分子量类及高分子量类抗静电剂。特别是从污染、维持粘合性的观点考虑，优选高分子量类抗静电剂或碳。<A-2.粘接剂层>粘接剂层的厚度优选为0. 1 100 μ m,更优选为0. 5 50 μ m，更加优选为1. 0 30 μ m,特别优选为1 20 μ m。粘接剂层由粘接剂构成。粘接剂可以仅为一种，也可以为两种以上。粘接剂优选为以将聚合物A交联得到的聚合物P为主要成分。具体而言，粘接剂中聚合物P的含有比例优选为50重量％以上，更优选为80重量％以上，更加优选为90重量％以上，特别优选为 95重量％以上。聚合物A的重均分子量Mw(以标准聚苯乙烯换算)优选为500000，更优选为 520000 2000000，更加优选为550000 1500000。若聚合物A的重均分子量Mw处于上述范围内，则能够提供抑制由粘接剂残留造成的粘附体的污染的表面保护片。聚合物A的分散度Mw/Mn优选为8. 0以下，更优选为2. 0 7. 0，更加优选为3. 0 5. 0。若聚合物A的分散度Mw/Mn处于上述范围内，则能够提供抑制由粘接剂残留造成的粘附体的污染的表面保护片。聚合物P的不溶于乙酸乙酯的成分优选为90重量％以上，更优选为95重量％以上，更加优选为97重量％以上。若聚合物P的不溶于乙酸乙酯的成分处于上述范围内，则能够提供抑制由粘接剂残留造成的粘附体的污染的表面保护片。在本发明的表面保护片中，以提供一种不损害涂装板表面的自净性及具有防反射功能的基板的反射率的表面保护片为目的，特别优选聚合物A的重均分子量Mw为500000 以上，聚合物A的分散度Mw/Mn为8.0以下，聚合物P的不溶于乙酸乙酯的成分为90重量％ 以上。
聚合物P的可溶于乙酸乙酯的成分由GPC测定的重均分子量Mw为2500以下的面积比例优选为50%以上，更优选为60%以上，更加优选为70%以上。聚合物P的可溶于乙酸乙酯的成分由GPC测定的重均分子量Mw超过2500，就会在粘附体表面产生由粘接剂残留造成的污染，例如，在粘贴于具有防反射膜的基板的情况下，会损害防反射膜的特性。构成粘接剂层的粘接剂可采用任意适当的粘接剂。这样的粘接剂列举例如丙烯酸类粘接剂、硅酮类粘接剂、橡胶类粘接剂等。作为粘接剂特别优选为丙烯酸类粘接剂。聚合物P作为丙烯酸类粘接剂中所含的主要成分，其交联前的聚合物A优选将以 (甲基)丙烯酸酯单体为主要成分的单体组合物聚合而得到的丙烯酸类聚合物。通过采用这样的丙烯酸类聚合物作为聚合物A，能够提供抑制由粘接剂残留造成的粘附体的污染的表面保护片。另外，“(甲基)丙烯酸酯”的表达是指丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸。单体组合物中的(甲基)丙烯酸酯单体的含有比例优选为50重量％以上，更优选为60 99重量％，更加优选为70 98重量％，特别优选为80 97重量％。若单体组合物中的(甲基)丙烯酸酯单体的含有比例在上述范围内，则能够提供与粘附体良好地粘接， 且能够容易地再剥离，并能够抑制在剥离后的粘附体表面粘接剂残留所造成的污染的表面保护片。作为(甲基)丙烯酸酯单体，可以列举例如，(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基) 丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、 (甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸酯正十三烷基酯、(甲基)正丙烯酸酯十四烷基酯等。单体组合物中的(甲基)丙烯酸酯单体可以仅为一种，也可以为两种以上。在单体组合物中，优选含有以交联为目的的含官能团单体。作为这样的含官能团单体，可以列举例如，含羧基单体、含酸酐基单体、含羟基单体、含氨基单体、含环氧基单体、 含异氰酸酯基单体、含氮丙啶基单体等。作为这样的含官能团单体，具体而言，可以列举例如，(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟己酯、(甲基)丙烯酸8-羟辛酯、(甲基)丙烯酸 10-羟癸酯、(甲基)丙烯酸12-羟基十二烷基酯、丙烯酸(4-羟甲基环己基)甲酯、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、乙烯基醇、烯丙基醇、2-羟乙基乙烯基醚、4-羟丁基乙烯基醚、二乙二醇单甲醚、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基缩水甘油酯、烯丙基缩水甘油醚等。另外，“(甲基)丙烯酸”的表达是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸，“(甲基)丙烯酸酯” 的表达是指丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。单体组合物中的含官能团单体可以仅为一种，也可以为两种以上。单体组合物中的含官能基单体的含有比例优选为1 25重量％，更优选为1 20 重量％，更加优选为2 15重量％，特别优选为3 10重量％。若单体组合物中的含官能团单体的含有比例处于上述范围内，则能够提供与粘附体良好地粘接，且容易进行再剥离， 并能够抑制在剥离后的粘附体表面粘接剂残留所造成的污染的表面保护片。在单体组合物中，作为以控制剥离性为目的的单体，也可以含有含磺酸基单体、含磷酸基单体、含氰基单体、乙烯基酯单体、芳香族乙烯基单体、含酰胺基单体、含酰亚胺单体、N-丙烯酰吗啉、乙烯基醚单体等。作为这样的单体，具体而言，可以列举例如，苯乙烯、 氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、α -甲基苯乙烯、乙酸乙烯酯、丙烯腈等。单体组合物中的这样的单体可以仅为一种，也可以为两种以上。可构成粘接剂层的丙烯酸类粘接剂的FOX式中的玻璃化温度(Tg)优选为-80 0°C，更优选为-70 -10°C，更加优选为-60 -20°C。若玻璃化温度(Tg)处于上述范围内，则能够提供抑制粘接剂残留造成的污染的表面保护片。另外，玻璃化温度(Tg)能够通过适当变更使用的单体成分及它们的组合比进行进一步调整。聚合物P是将聚合物A交联而得到的。即，作为聚合物P，可以列举例如，使聚合物A和任意适当的交联剂反应得到的交联聚合物、对聚合物A照射活性能量射线(紫外线或电子束等)使其进行交联反应而得到的交联聚合物等。作为可以用于使聚合物A交联而形成聚合物P的交联剂，可以采用任意适当的交联剂。作为这样的交联剂，可以列举例如，环氧类交联剂、多官能异氰酸酯类交联剂、三聚氰胺树脂类交联剂、金属盐类交联剂、金属络合物类交联剂、氨基树脂类交联剂、过氧化物类交联剂等。另外，无论是否使用交联剂，都可通过紫外线或电子束等的活性能量射线的照射而构建交联结构。交联剂可以仅为一种，也可以为两种以上。交联剂的使用量相对于作为粘接剂的主要成分的聚合物P的交联前的聚合物 AlOO重量份，优选为20重量份以下，更优选为10重量份以下，更加优选为2 10重量份。 若交联剂的含有比例偏离上述范围，则有可能交联剂自身会成为导致污染的原因。作为特别优选使用的交联剂，能够列举环氧类交联剂、多官能异氰酸酯类交联剂。作为环氧类交联剂，优选使用多官能性环氧化合物，包含分子中含有两个以上环氧基的各种化合物。作为其代表性的例子，可以列举例如，山梨醇四缩水甘油醚、三羟甲基丙烷缩水甘油醚、四缩水甘油基-1，3-二氨甲基环己烷、四缩水甘油基间二甲苯二胺、三缩水甘油基对氨基苯酚等。环氧类交联剂的配合份数虽然也取决于粘接剂聚合物中的酸导入量及环氧类交联剂的结构，但通常相对于聚合物P的交联前的聚合物AlOO重量份，优选为 1 20重量份，更优选为2 10重量份。作为异氰酸酯类交联剂，优选使用多官能异氰酸酯化合物，包含在分子中含有两个以上异氰酸酯基的各种化合物。作为其代表性的例子，可以列举例如，二苯基甲烷二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等。异氰酸酯类交联剂的配合份数只要以不影响粘着物性的程度配合即可，通常相对于聚合物P的交联前的聚合物AlOO重量份，优选为 0. 5 10重量份，更优选为1 5重量份。在构成粘接剂层的粘接剂中，可以含有任意适当的添加剂。作为这样的添加剂，可以列举例如，软化剂、增粘剂、表面润滑剂、流平剂、抗氧化剂、防腐蚀剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、耐热稳定剂、阻聚剂、硅烷偶联剂、润滑剂、无机或有机填充剂、金属粉、颜料、溶剂等。增粘剂对于提高粘接力，特别是对于提高对粗糙面粘附体的粘合性有效。作为增粘剂，可以采用任意适当的增粘剂。作为这样的增粘剂，可以列举例如，脂肪族类共聚物、芳香族类共聚物、脂肪族-芳香族类共聚物类或脂环式类共聚物等石油类树脂、香豆酮-茚类树脂、萜烯类树脂、萜烯酚醛类树脂、聚合松香等松香类树脂、(烷基)酚类树脂、二甲苯类树脂或它们的加氢物等。增粘剂可以仅为一种，也可以为两种以上。
增粘剂的含有比例相对于100重量份粘接剂的主要成分即聚合物P，优选为50重量份以下，更优选为30重量份以下，更加优选为10重量份以下。若增粘剂的含有比例偏离上述范围，则可能会低温时的粘接性差，或者高温时的残胶明显。构成粘接剂层的粘接剂可以通过任意适当的方法制造。构成粘接剂层的粘接剂可以通过如下方法制造而成，作为聚合物的合成手法，例如溶液聚合、乳剂聚合、整体聚合、悬浮聚合、紫外线(UV)聚合等通常使用的聚合方法，并且采用任意适当的交联方法，并根据需要使用任意适当的添加剂。作为聚合方法，在能够制造高分子量且分散度低的粘接剂的方面，优选溶液聚合、 乳剂聚合、悬浮聚合、紫外线(UV)聚合。例如，作为溶液聚合，向单体组合物添加聚合引发剂和溶剂，并根据需要添加任意适当的添加剂，进行溶液聚合。作为聚合引发剂，能够采用任意适当的聚合引发剂。作为这样的聚合引发剂，可以列举例如，偶氮类化合物或过氧化物等。作为这样的聚合引发剂，具体而言，例如，2，2’_偶氮双异丁腈、2，2’ -偶氮双异戊腈、2，2’ -偶氮双甲氧基_2，4- 二甲基戊腈)、2，2’ -偶氮双(2，4_ 二甲基戊腈)、2，2’_偶氮双O-甲基丁腈)、1，1’_偶氮双(环己烷-1-甲腈)、 2，2，-偶氮双(2，4，4_三甲基戊烷)、二甲基_2，2，-偶氮双(丙酸2-甲酯)、过氧化苯甲酰、叔丁基过氧化氢、二叔丁基过氧化氢、过氧化苯甲酸叔丁酯、过氧化二异丙苯、1，1_双 (过氧化叔丁基)_3，3，5三甲基环己烷、1，1_双(过氧化叔丁基)环十二烷等。《B.表面保护片的制造方法》本发明的表面保护片能够通过任意适当的方法制造。作为这样的制造方法，例如能够按照以下的任意适当的粘合片的制造方法进行(1)将粘接剂的由溶剂配制的溶液或粘接剂的热熔融液涂布于基材的方法；(2)将根据上述方法，以分离状涂布形成的粘接剂层转移的方法；(3)在基材上将粘接剂层的形成材料挤出、进行形成涂布的方法；(4)以两层或多层的方式将基材和粘接剂层挤出的方法；(5)在基材上将粘接剂层单层层压的方法或将层压层与粘接剂层同时双层层压的方法；(6)将粘接剂层和薄膜及层压层等基材形成材料进行双层或多层层压的方法等。作为上述塗布的方法，可以列举例如，使用刮棒涂布机、槽辊涂布机、旋转涂布机、 辊筒涂布机、刮刀涂布机、涂料器等的方法。从生产率及成本方面考虑，作为本发明的表面保护片的制造方法，特别优选将粘接剂的由溶剂配制的溶液或粘接剂的热熔融液涂布于基材的方法。《C.表面保护片的用途》 本发明的表面保护片，能够与粘附体良好地粘接，且容易进行再剥离，并能够抑制在剥离后的粘附体表面由粘接剂残留所造成的污染。因此，本发明的表面保护片可以用于任意适当的用途，但能够优选用于例如在搬运、加工或保养金属板、涂装板、铝窗框、树脂板、装饰钢板、氯乙烯层压钢板、玻璃板等构件，偏振片、液晶面板等光学构件，电子构件等时，粘贴这些构件的表面保护该表面的用途等。特别作为金属板、树脂板、玻璃板等的表面通过被亲水性涂膜或经表面处理而亲水化的亲水性构件、或膜厚形成为要防止反射的波长的1/4的带有防反射功能的基板、或由纳米级的凹凸结构而带有防反射功能的基板等要求低污染的表面保护片有用。作为更具体的用途，例如，本发明的表面保护片能够优选用于亲水性涂装板的表面的保护、要求低污染的基板的表面的保护、具有反射防止膜的基板的保护、或太阳能电池玻璃盖的表面的保护(实施例)下面，通过实施例对本发明进行具体地说明，但是本发明不受这些实施例的任何限定。另外，实施例等中的试验及评价方法如下所述。另外，“份”是指“重量份”(拉伸弹性模量)以JIS K7161为基准，以下面的条件进行测定。拉伸弹性模量根据所规定的两点的变形h = l及ε2 = 2之间的曲线的线形回归求出。在试验片的宽度为10mm、拉伸速度为0. 3m/min、卡盘间距离为50mm条件下，使用Instron型抗张力试验机(岛津制造所制， AUTOGRAPH(自动记录器))，在25°C测定。测定使用从实施例及比较例中得到的表面保护片上剥离了聚乙烯薄膜之后的部分进行，测定值，基于从该表面保护片的厚度实测值减去粘接剂的厚度的值，换算成基材的单位截面积的值而求得。另外，弹性模量在呈直角的两个方向上测定，将较大的一个值作为该表面保护片的拉伸弹性模量。(可见光线透射率)用分光光度计(日立制作所制，型号U-4100)测定具有380 780nm的反射膜的玻璃的可见光线透射率，求出可见光线透射率T1 )。另外，可见光线透射率以JIS R3106-1998中规定的板状玻璃的透射率的试验方法(可见光透射率)为基准。接着，在该玻璃的一侧粘贴实施例或比较例中得到的表面保护片，在160°C放置1 小时后，在23°C放置30分钟返回室温，对在23°C剥离表面保护片后的该玻璃同样测定可见光线透射率，求出可见光线透射率T2%。使用得到的可见光线透射率的值算出可见光线透射率之差 ΔΤ(% ) (ΔΤ = T1-T2)。(重均分子量Mw、分散度Mw/Mn)重均分子量Mw、分散度Mw/Mn的测定根据凝胶渗透色谱法(GPC法)进行，以串联的方式连接使用HLC-8120(东曹公司制)的内径6. 0mm、长度150mm的色谱柱(东曹公司制、TSK gel SuperHZM-H/HZ4000/HZ3000/HZ2000)，洗脱液使用四氢呋喃，在浓度为 lg/L、 流量为0. 6ml/分钟、温度为40°C、进样量为20 μ 1的条件下进行，检测器使用RI检测器。 另外，使用TSK标准聚苯乙烯(东曹公司制)制作分子量的校正曲线。(污染性)将实施例或比较例的表面保护片粘贴在具有防反射膜的玻璃上，在160°C放置1 小时后，在23°C放置30分钟返回室温后，在23°C剥离表面保护片，目测确认在玻璃上的粘接剂的残留所造成的污染的有无。〇在表面保护片剥离后没有确认到在玻璃上的粘接剂残留造成的污染。X 在表面保护片剥离后确认到在玻璃上的粘接剂残留造成的污染。〔制造例1〕基材1的制作用T模法以模温度160°C将聚丙烯(PP)SO份(树脂密度0. 905的结晶性均聚丙烯(HPP)40份、树脂密度0. 900的无规聚丙烯(RPP)40份)和聚乙烯(PE) 10份(东曹制， 商品名“Petrocene 205”)和乙烯丙烯共聚物(EPR) 10份(三井化学制“Tafmer PO180") 进行制膜，得到厚度35 μ m的基材1。
〔制造例2〕基材2的制作用吹塑法以模温度160°C将聚乙烯树脂(东曹制，PetrOCene183) 100份进行制膜， 得到厚度60 μ m的基材2。〔制造例3〕基材3的制作使用市售的聚酯薄膜(Toray株式会社制品，Lumirror (注册商标)S-10，厚度 38 μ m)作为基材3。〔制造例4〕基材4的制作用市售的聚酯薄膜(Toray株式会社制品，Lumirror (注册竞标)S-IO，厚度25 μ m) 作为基材4。〔制造例5〕聚合物A(I)的制作在具备冷却管、氮导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中加入丙烯酸丁酯95份和丙烯酸5份的混合溶液，作为聚合引发剂加入2，2’_偶氮二异丁腈0. 40份、乙酸乙酯300 份，在60°C聚合12小时，得到聚合物A(I)的溶液。得到的聚合物A(I)的重均分子量Mw为 60万，分散度Mw/Mn为4. 0。〔制造例6〕聚合物A(2)的制作除使用丙烯酸丁酯97份和丙烯酸3份的混合溶液，作为聚合引发剂使用2，2’-偶氮二异丁腈0. 20份、乙酸乙酯200份以外，与制造例5 —样制作，得到聚合物A (2)的溶液。 得到的聚合物A (2)的重均分子量Mw为100万，分散度Mw/Mn为3. 9。〔制造例7〕聚合物A(3)的制作在具备冷却管、氮导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中加入丙烯酸丁酯70 份、丙烯酸乙酯30份、丙烯酸5份及丙烯酸羟乙酯1份的混合溶液，作为聚合引发剂加入偶氮二异丁腈0.2份、乙酸乙酯250份，在60°C进行6小时聚合，得到聚合物A (3)的溶液。得到的聚合物A (3)的重均分子量Mw为140万，分散度Mw/Mn为4. 9。〔制造例8〕具有防反射膜的玻璃基板(1)的制作(防反射膜形成用涂料组合物的制作)在200mL的玻璃制容器中添加乙醇60g、ZnO微粒子的水分散溶胶(平均一次粒径20nm，平均凝集粒径40nm，固体成分换算浓度20质量％ ) 30g、四乙氧基硅烷(SW2固体成分浓度29质量％ ) 10g，添加氨水溶液将pH调为10，在20°C搅拌6小时，得到芯-鞘颗粒的分散液(固体成分浓度6质量％)100g。在得到的芯-鞘颗粒的分散液IOOg中加入强酸性阳离子交换树脂(总交换容量2. Omeq/mL以上)100g，搅拌1小时，pH值变为4 后，利用过滤去除强酸性阳离子交换树脂，得到由SiO2构成的球状中空微粒子的分散液。利用超滤将该分散液浓缩至固体成分浓度20质量％。球状中空微粒子经过了二次凝集。球状中空微粒子的外壳的厚度为5nm，且为平均一次粒径的1/6。球状中空微粒子的平均凝集粒径为40nm，长宽比为1.0。在200mL的玻璃制容器中加入该球状中空微粒子的分散液(固体成分浓度20质量％ )2g、纤维状中实微粒子的分散液(日产化学工业社制，IPA-ST-UP，平均凝集粒径(平均一次粒径)90nm，长宽比7. 0，固体成分浓度15质量％ ) 2g、乙醇90g、硅酸低聚物溶液 (固体成分浓度5质量％ )6g，搅拌10分钟，得到防反射膜形成用涂料组合物。(在玻璃基板上的防反射膜的形成)
在用乙醇擦拭过的玻璃基板(IOOmmX 100mm、厚度3. 5mm)的两面涂布上述塗料组合物，在转速200rpm下进行60秒旋转涂布使其均勻化后，在200°C进行30分钟干燥，形成膜厚IOOnm的防反射膜。这样操作得到具有防反射膜的玻璃基板(1)。〔制造例9〕具有防反射膜的玻璃基板O)的制作将分散于溶液的与玻璃基板不同折射率的玻璃颗粒以干燥后的膜厚约IOOnm的方式涂布在玻璃基板后，在200 250°C进行1小时干燥，得到具有可见光线透射率为92 95%的防反射膜的玻璃基板O)。〔实施例1〕将相对于聚合物A(I)的固体成分100份添加有环氧类交联剂8. 0份(三菱瓦斯化学社制，TETRAD C)的混合溶液涂布在一面实施了电晕处理的基材1上，使干燥后的粘接剂层的厚度为5μπι，制作表面保护片。另外，干燥时的条件为85°C、5分钟。将得到的表面保护片贴在聚乙烯膜上，在50°C下放置3天。这样操作得到的具备粘接剂层(1)的表面保护片(1)的评价结果表示在表1中，该粘接剂层(1)由将聚合物A(I)交联得到的聚合物P(I) 为主要成分的粘接剂构成。〔实施例2〕相对于聚合物A(I)的固体成分100份添加了环氧类交联剂6. 0份(三菱瓦斯化学社制，TETRAD C)的混合溶液涂布在一面实施了电晕处理的基材3上，使干燥后的粘接剂层的厚度为5μπι，制作表面保护片。另外，干燥时的条件为85°C、5分钟。将得到的表面保护片贴在一面经过硅酮处理的聚酯薄膜的硅酮处理面上，在50°C下放置3天。这样操作得到的具备粘接剂层O)的表面保护片O)的评价结果表示在表1中，该粘接剂层O)由将聚合物A(I)交联得到的聚合物PO)为主要成分的粘接剂构成。〔实施例3〕除使用相对于聚合物A(2)的固体成分100份添加了环氧类交联剂6. 0份(三菱瓦斯化学社制，TETRAD C)的混合溶液以外，与实施例2同样制作表面保护片。具备粘接剂层⑶的表面保护片⑶的评价结果表示在表1中，该粘接剂层⑶由将聚合物A (2)交联得到的聚合物P (3)为主要成分的粘接剂构成。〔实施例4〕除使用相对于聚合物A(2)的固体成分100份添加了环氧类交联剂3. 0份(三菱瓦斯化学社制，TETRAD C)的混合溶液以外，与实施例2同样制作表面保护片。具备粘接剂层⑷的表面保护片⑷的评价结果表示在表1中，该粘接剂层⑷由将聚合物A (2)交联得到的聚合物P(4)为主要成分的粘接剂构成。〔实施例5〕除在一面实施了电晕处理的基材4上以干燥后的粘接剂层的厚度为3 μ m的方式涂布相对于聚合物A(I)的固体成分100份添加了环氧类交联剂8.0份(三菱瓦斯化学社制，TETRAD C)的混合溶液以外，与实施例2同样制作表面保护片。具备粘接剂层(5)的表面保护片(5)的评价结果表示在表1中，该粘接剂层(5)由将聚合物A(I)交联得到的聚合物P(I)为主要成分的粘接剂构成。〔实施例6〕除使用相对于聚合物A(3)的固体成分100份添加了环氧类交联剂11.0份(三菱瓦斯化学社制，TETRAD C)和异氰酸酯类交联剂10.0份(日本聚氨酯工业株式会社制， CORONATE L)的混合溶液之外，与实施例2同样制作表面保护片。具备粘接剂层(6)的表面保护片(6)的评价结果表示在表1中，该粘接剂层(6)由将聚合物A(3)交联得到的聚合物 P(6)为主要成分的粘接剂构成。〔比较例1〕除了作为基材使用基材2之外与实施例3同样制作表面保护片。具备粘接剂层 (Cl)的表面保护片(Cl)的评价结果表示在表1中，该粘接剂层(Cl)由将聚合物A(I)交联得到的聚合物P(Cl)为主要成分的粘接剂构成。〔比较例2〕除了使用相对于聚合物A(I)的固体成分100份添加了环氧类交联剂1.0份(三菱瓦斯化学社制，TETRAD C)的混合溶液之外，与实施例2同样制作表面保护片。具备粘接剂层(C2)的表面保护片(C2)的评价结果表示在表1中，该粘接剂层(C2)由将聚合物A(I) 交联得到的聚合物P(C2)为主要成分的粘接剂构成。[表1]
权利要求
1.一种表面保护片，其具备基材层和粘接剂层，其特征在于具有防反射膜的透明基板的可见光线透射率T1 (%)，和在该透明基板的一侧粘贴该表面保护片并在160°C放置1小时后，在23°C的温度环境下剥离了该表面保护片后的该透明基板的可见光线透射率T2 )之差ΔΤ(% ) (ΔΤ = T1-T2)满足ΔΤ彡1.8的关系。
2.如权利要求1所述的表面保护片，其特征在于构成所述粘接剂层的粘接剂中所包含的主要成分为将聚合物A交联得到的聚合物P。
3.如权利要求2所述的表面保护片，其特征在于所述聚合物A为将以(甲基)丙烯酸酯单体为主要成分的单体组合物聚合而得到的丙烯酸类聚合物。
4.如权利要求1所述的表面保护片，其特征在于将所述表面保护片的拉伸弹性模量设为E(GPa)时，满足ΔΤ/Ε1Λ° ( 2. 0的关系。
5.如权利要求1 4中任一项所述的表面保护片，其特征在于 其用于保护要求低污染的基板表面。
6.如权利要求1 4中任一项所述的表面保护片，其特征在于 其用于保护具有防反射膜的基板表面。
7.如权利要求1 4中任一项所述的表面保护片，其特征在于 其用于保护太阳能电池用玻璃盖片的表面。
全文摘要
本发明提供一种表面保护片，其能够与粘附体良好地粘接且可容易地进行再剥离，可以抑制在剥离后的粘附体表面残留粘接剂而造成的污染。本发明的表面保护片为具备基材层和粘接剂层的表面保护片，具有防反射膜的透明基板的可见光线透射率T1(％)，和在该透明基板的一侧粘贴该表面保护片并在160℃放置1小时后，在23℃的温度环境下剥离了该表面保护片后的该透明基板的可见光线透射率T2(％)之差ΔT(％)(ΔT＝T1-T2)满足ΔT≤1.8的关系。
文档编号C09J7/02GK102559086SQ201110391158
公开日2012年7月11日 申请日期2011年11月30日 优先权日2010年11月30日
发明者吉田真理子, 山下健太, 山户二郎, 山本充志, 林圭治, 泽﨑良平 申请人:日东电工株式会社